微流體芯片制造的core工具,！Polos光刻機可加工80 μm直徑的開環(huán)諧振器和2 μm叉指電極,，適用于傳感器與執(zhí)行器開發(fā),。結合雙光子聚合技術（如Nanoscribe的2PP工藝）,，用戶可擴展至3D微納結構打印,，為微型機器人及光學超材料提供多維度解決方案37,。其與Lab14集團的協(xié)同合作,，進一步推動工業(yè)級光學封裝技術創(chuàng)新3,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。Polos-BESM：基礎款高性價比,，適合高校實驗室基礎微納加工,。天津德國POLOS桌面無掩模光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

一家專注于再生醫(yī)學的科研公司在組織工程支架的研究上，使用德國 Polos 光刻機取得remarkable成果,。組織工程支架需要具備特定的三維結構,，以促進細胞的生長和組織的修復。Polos 光刻機能夠根據(jù)預先設計的三維模型,，在生物可降解材料上精確制造出復雜的孔隙結構和表面圖案,。通過該光刻機制造的支架,，在動物實驗中表現(xiàn)出優(yōu)異的細胞黏附和組織生長引導能力。與傳統(tǒng)制造方法相比,，使用 Polos 光刻機生產(chǎn)的支架,，細胞在其上的增殖速度提高了 50%，為組織工程和再生醫(yī)學的臨床應用提供了有力支持,。湖北德國PSP-POLOS光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模未來技術儲備：持續(xù)研發(fā)光束整形與多材料兼容工藝,，lead微納制造前沿。

某智能機器人實驗室采用 Polos 光刻機制造了磁控微納機器人,。其激光直寫技術在鎳鈦合金薄膜上刻制出 10μm 的螺旋槳結構,，機器人在旋轉磁場下的推進速度達 50μm/s，轉向精度小于 5°,。通過自定義三維運動軌跡,，該機器人在微流控芯片中成功實現(xiàn)了單個紅細胞的捕獲與轉運，操作成功率從傳統(tǒng)方法的 40% 提升至 85%,。其輕量化設計（質量 < 1μg）還支持在活細胞表面進行納米級手術,，相關成果入選《Science Robotics》年度創(chuàng)新技術。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。

德國 Polos 光刻機系列的一大突出優(yōu)勢,，便是能夠輕松輸入任意圖案進行曝光。在科研工作中,，創(chuàng)新的設計理念往往需要快速驗證,，而 Polos 光刻機正滿足了這一需求?？蒲腥藛T無需花費大量時間和成本制作掩模,，只需將設計圖案導入系統(tǒng)，就能迅速開始光刻作業(yè),。? 在生物醫(yī)學工程領域,，研究人員利用這一特性,，快速制作出具有特殊結構的生物芯片，用于疾病診斷和藥物篩選,。在材料科學研究中,，可根據(jù)不同材料特性，定制獨特的圖案結構,，探索材料的新性能,。這種靈活的圖案輸入方式，remarkable縮短了科研周期,，加速科研成果的產(chǎn)出,，讓科研人員能夠將更多精力投入到創(chuàng)新研究中。微流體3D成型：復雜流道快速曝光,，助力tumor篩查芯片與藥物遞送系統(tǒng)研發(fā),。

針對植入式醫(yī)療設備的長期安全性問題，某生物電子實驗室利用 Polos 光刻機在聚乳酸（）基底上制備可降解電極,。其無掩模技術避免了傳統(tǒng)掩模污染,，使電極的金屬殘留量低于 0.01μg/mm2，生物相容性測試顯示細胞存活率達 99%,。通過自定義螺旋狀天線圖案,，開發(fā)出的可降解心率監(jiān)測器，在體內(nèi)降解周期可控制在 3-12 個月,，信號傳輸穩(wěn)定性較同類產(chǎn)品提升 50%,，相關技術已進入臨床前生物相容性評價階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。生物界面創(chuàng)新：微納結構可控加工,，為組織工程提供新型仿生材料解決方案,。河南桌面無掩模光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

材料科學：超疏水表面納米圖案化，接觸角 165°,，防腐蝕性能增強 10 倍,。天津德國POLOS桌面無掩模光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

無掩模激光光刻技術為研究實驗室提供了一種多功能的納米/微米光刻工具,，可用于創(chuàng)建亞微米級特征，并促進電路和器件的快速原型設計,。經(jīng)濟高效的桌面配置使研究人員和行業(yè)從業(yè)者無需復雜的基礎設施和設備即可使用光刻技術,。應用范圍擴展至微機電系統(tǒng) (MEM)、生物醫(yī)學設備和微電子器件的設計和制造,，例如以下領域：醫(yī)療（包括微流體）,、半導體、電子,、生物技術和生命科學,、先進材料研究。全球無掩模光刻系統(tǒng)市場規(guī)模預計在 2022 年達到 3.3606 億美元,，預計到 2028 年將增長至 5.0143 億美元,，復合年增長率為 6.90%。由于對 5G,、AIoT,、物聯(lián)網(wǎng)以及半導體電路性能和能耗優(yōu)化的需求不斷增長，預計未來幾十年光刻市場將持續(xù)增長,。天津德國POLOS桌面無掩模光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模