無掩模激光光刻技術為研究實驗室提供了一種多功能的納米/微米光刻工具,，可用于創(chuàng)建亞微米級特征，并促進電路和器件的快速原型設計,。經濟高效的桌面配置使研究人員和行業(yè)從業(yè)者無需復雜的基礎設施和設備即可使用光刻技術,。應用范圍擴展至微機電系統(tǒng) (MEM)、生物醫(yī)學設備和微電子器件的設計和制造,，例如以下領域：醫(yī)療（包括微流體）,、半導體、電子、生物技術和生命科學,、先進材料研究,。全球無掩模光刻系統(tǒng)市場規(guī)模預計在 2022 年達到 3.3606 億美元,，預計到 2028 年將增長至 5.0143 億美元,，復合年增長率為 6.90%。由于對 5G,、AIoT,、物聯(lián)網以及半導體電路性能和能耗優(yōu)化的需求不斷增長，預計未來幾十年光刻市場將持續(xù)增長,。圖案靈活性：支持 STL 模型直接導入,，30 分鐘完成從設計到曝光全流程。黑龍江桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化

單細胞分選需要復雜的流體動力學控制結構,，傳統(tǒng)光刻難以實現(xiàn)多尺度結構集成,。Polos 光刻機的分層曝光功能，在同一片芯片上制備出 5μm 窄縫的細胞捕獲區(qū)與 50μm 寬的廢液通道,，通道高度誤差控制在 ±2% 以內,。某細胞生物學實驗室利用該芯片，將單細胞分選通量提升至 1000 個 / 秒,，分選純度達 98%,，較傳統(tǒng)流式細胞儀體積縮小 90%。該技術已應用于循環(huán)tumor細胞檢測,，使稀有細胞捕獲效率提升 3 倍,，相關設備進入臨床驗證階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域,。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。安徽BEAM-XL光刻機讓你隨意進行納米圖案化電子學應用：2μm 線寬光刻能力,，第三代半導體器件研發(fā)效率提升 3 倍,。

在航空航天科研中，某科研團隊致力于研發(fā)用于環(huán)境監(jiān)測和偵察的微型飛行器。其中,，制造輕量化且高性能的微機械部件是關鍵,。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術，助力團隊制造出尺寸precise,、質量輕盈的微型齒輪,、機翼骨架等微機械結構。例如,，利用該光刻機制造的微型齒輪,，齒距精度達到納米級別，極大提高了飛行器動力傳輸系統(tǒng)的效率和穩(wěn)定性,?；诖耍蒲袌F隊成功試飛了一款新型微型飛行器,，其續(xù)航時間和飛行靈活性遠超同類產品,，為未來微型飛行器在復雜環(huán)境下的應用奠定了堅實基礎。

在微流控芯片集成領域,，某微機電系統(tǒng)實驗室利用 Polos 光刻機的多材料同步曝光技術,，在同一塊 PDMS 芯片上直接制備出金屬電極驅動的氣動泵閥結構。其微泵通道寬度可控制在 20μm,，流量調節(jié)精度達 ±1%,，響應時間小于 50ms。通過軟件輸入不同圖案,，可在 10 分鐘內完成從連續(xù)流到脈沖流的模式切換,。該芯片被用于單細胞代謝分析，實現(xiàn)了單個tumor細胞葡萄糖攝取率的實時監(jiān)測,，檢測靈敏度較傳統(tǒng)方法提升 3 倍,，相關設備已進入臨床前驗證階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域,。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。德國 SPS Polos：深耕微納加工 35 年，專注半導體與生命科學領域,，全球布局 6 大技術中心,，服務 500 + 科研機構。

形狀記憶合金,、壓電陶瓷等智能材料的微結構加工需要高精度圖案定位,。Polos 光刻機的亞微米級定位精度，幫助科研團隊在鎳鈦合金薄膜上刻制出復雜驅動電路,，成功制備出微型可編程抓手,。該抓手在 40℃溫場中可實現(xiàn) 0.1mm 行程的precise控制,，抓取力達 50mN,，較傳統(tǒng)微加工方法性能提升 50%。該技術被應用于微納操作機器人,，在單細胞膜片鉗實驗中成功率從 40% 提升至 75%,，為細胞級precise操作提供了關鍵工具。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域,。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。Polos-BESM XL：大尺寸加工空間,，保留緊湊設計，科研級精度實現(xiàn)復雜結構一次性成型,。上海桌面無掩模光刻機

POLOS μ 光刻機：桌面級設計,，2-23μm 可調分辨率，兼容 4 英寸晶圓,，微機電系統(tǒng)加工誤差 < 5μm,。黑龍江桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化

某能源研究團隊采用 Polos 光刻機制造了壓電式微型能量收集器。其激光直寫技術在 PZT 薄膜上刻制出 50μm 的叉指電極,，器件的能量轉換效率達 35%,，在 10Hz 振動下可輸出 50μW/cm2 的功率,。通過自定義電極間距和厚度，該收集器可適配不同頻率的環(huán)境振動,，在智能穿戴設備中實現(xiàn)了運動能量的實時采集與存儲,。其輕量化設計（體積 < 1mm3）還被用于物聯(lián)網傳感器節(jié)點，使傳感器續(xù)航時間從 3 個月延長至 2 年,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體,、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域,。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。黑龍江桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化