在微流體研究領(lǐng)域,，德國 Polos 光刻機系列憑借獨特優(yōu)勢脫穎而出,。其無掩模激光光刻技術(shù),，打破傳統(tǒng)光刻的局限，無需掩模就能實現(xiàn)高精度圖案制作,。這使得科研人員在構(gòu)建微通道網(wǎng)絡(luò)時,，可根據(jù)實驗需求自由設(shè)計，快速完成從圖紙到實體的轉(zhuǎn)化,。?以藥物傳輸研究為例,，利用 Polos 光刻機，能制造出尺寸precise,、結(jié)構(gòu)復(fù)雜的微通道,，模擬人體環(huán)境，讓藥物在微小空間內(nèi)可控流動,，much提升藥物傳輸效率研究的準(zhǔn)確性,。同時，在細胞培養(yǎng)實驗中,，該光刻機制作的微流體芯片,，為細胞提供穩(wěn)定且適宜的生長環(huán)境，助力細胞生物學(xué)研究取得新突破,。小空間大作為的 Polos 光刻機,，正推動微流體研究不斷向前。德國 SPS Polos：深耕微納加工 35 年,，專注半導(dǎo)體與生命科學(xué)領(lǐng)域,，全球布局 6 大技術(shù)中心，服務(wù) 500 + 科研機構(gòu),。江蘇桌面無掩模光刻機分辨率1.5微米

某半導(dǎo)體實驗室采用 Polos 光刻機開發(fā)氮化鎵（GaN）基高電子遷移率晶體管（HEMT）,。其激光直寫技術(shù)在藍寶石襯底上實現(xiàn)了 50nm 柵極長度的precise曝光，較傳統(tǒng)光刻工藝線寬偏差降低 60%,。通過自定義多晶硅柵極圖案,，器件的電子遷移率達 2000 cm2/(V?s)，擊穿電壓提升至 1200V,，遠超商用產(chǎn)品水平,。該技術(shù)還被用于 SiC 基功率器件的臺面刻蝕，刻蝕深度均勻性誤差小于 ±3%,，助力我國新能源汽車電控系統(tǒng)core器件的國產(chǎn)化突破,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。上海德國POLOS光刻機可以自動聚焦波長用戶案例broad：全球超500家科研機構(gòu)采用,，覆蓋高校、研究所與企業(yè)實驗室,。

Polos光刻機在微機械加工中表現(xiàn)outstanding,。其亞微米分辨率可制造80 μm直徑的開環(huán)諧振器和2 μm叉指電極，適用于傳感器與執(zhí)行器開發(fā),。結(jié)合雙光子聚合技術(shù)（如Nanoscribe系統(tǒng)）,，用戶還能擴展至3D微納結(jié)構(gòu)打印，為微型機器人及光學(xué)元件提供多尺度制造方案,。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上，進一步提升了其優(yōu)勢,。

某基因treatment團隊采用 Polos 光刻機開發(fā)了微米級 DNA 遞送載體,。通過 STL 模型直接導(dǎo)入，在生物可降解聚合物表面刻制出 1-5μm 的蜂窩狀微孔結(jié)構(gòu),，載體的 DNA 負載量達 200μg/mg，較傳統(tǒng)電穿孔法提升 5 倍,。動物實驗顯示,，該載體在肝臟靶向遞送中，基因轉(zhuǎn)染效率達 65%,，且免疫原性降低 70%,。其無掩模特性支持根據(jù)不同細胞表面受體定制載體形貌，在 CAR-T 細胞treatment中,，CAR 基因?qū)胄蕪?30% 提升至 75%,，相關(guān)技術(shù)已申請國際patent。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。環(huán)保低能耗設(shè)計：固態(tài)光源能耗較傳統(tǒng)設(shè)備降低30%，符合綠色實驗室標(biāo)準(zhǔn),。

超表面通過納米結(jié)構(gòu)調(diào)控光場,，傳統(tǒng)電子束光刻成本高昂且效率低下。Polos 光刻機的激光直寫技術(shù)在石英基底上實現(xiàn)了亞波長量級的圖案曝光,，將超表面器件制備成本降低至傳統(tǒng)方法的 1/5,。某光子學(xué)實驗室利用該設(shè)備，研制出寬帶消色差超表面透鏡,，在 400-1000nm 波長范圍內(nèi)成像誤差小于 5μm,。其靈活的圖案編輯功能還支持實時優(yōu)化結(jié)構(gòu)參數(shù)，使器件研發(fā)周期從數(shù)周縮短至 24 小時,，推動超表面技術(shù)從理論走向集成光學(xué)應(yīng)用,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。未來技術(shù)儲備：持續(xù)研發(fā)光束整形與多材料兼容工藝，lead微納制造前沿,。江蘇桌面無掩模光刻機分辨率1.5微米

無掩模激光直寫技術(shù)：無需物理掩膜,，軟件直接輸入任意圖案，降低成本與時間,。江蘇桌面無掩模光刻機分辨率1.5微米

某能源研究團隊采用 Polos 光刻機制造了壓電式微型能量收集器,。其激光直寫技術(shù)在 PZT 薄膜上刻制出 50μm 的叉指電極，器件的能量轉(zhuǎn)換效率達 35%,，在 10Hz 振動下可輸出 50μW/cm2 的功率,。通過自定義電極間距和厚度,，該收集器可適配不同頻率的環(huán)境振動，在智能穿戴設(shè)備中實現(xiàn)了運動能量的實時采集與存儲,。其輕量化設(shè)計（體積 < 1mm3）還被用于物聯(lián)網(wǎng)傳感器節(jié)點,，使傳感器續(xù)航時間從 3 個月延長至 2 年。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。江蘇桌面無掩模光刻機分辨率1.5微米