低成本桌面化光刻：SPS POLOS μ的科研普惠,！Polos系列在微流體領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)復(fù)雜3D流道結(jié)構(gòu)的快速成型,。例如，中科院理化所利用類似技術(shù)制備跨尺度微盤陣列,，研究細(xì)胞浸潤行為,，為組織工程提供新策略3,。Polos的高精度與靈活性支持仿生結(jié)構(gòu)批量生產(chǎn)，推動(dòng)醫(yī)療診斷芯片研發(fā),，如tumor篩查與藥物遞送系統(tǒng)的微型化64,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。微型傳感器量產(chǎn)：80 μm開環(huán)諧振器加工能力,，推動(dòng)工業(yè)級MEMS傳感器升級。廣東德國桌面無掩模光刻機(jī)分辨率1.5微米

在航空航天科研中,，某科研團(tuán)隊(duì)致力于研發(fā)用于環(huán)境監(jiān)測和偵察的微型飛行器,。其中，制造輕量化且高性能的微機(jī)械部件是關(guān)鍵,。德國 Polos 光刻機(jī)憑借無掩模激光光刻技術(shù),，助力團(tuán)隊(duì)制造出尺寸precise、質(zhì)量輕盈的微型齒輪,、機(jī)翼骨架等微機(jī)械結(jié)構(gòu),。例如，利用該光刻機(jī)制造的微型齒輪,，齒距精度達(dá)到納米級別,，極大提高了飛行器動(dòng)力傳輸系統(tǒng)的效率和穩(wěn)定性?；诖?，科研團(tuán)隊(duì)成功試飛了一款新型微型飛行器，其續(xù)航時(shí)間和飛行靈活性遠(yuǎn)超同類產(chǎn)品,，為未來微型飛行器在復(fù)雜環(huán)境下的應(yīng)用奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ),。遼寧德國BEAM光刻機(jī)納 / 微機(jī)械：亞微米級結(jié)構(gòu)加工，微型齒輪精度達(dá) ±50nm,，推動(dòng)微機(jī)電系統(tǒng)創(chuàng)新,。

某集成電路實(shí)驗(yàn)室利用 Polos 光刻機(jī)開發(fā)了基于相變材料的存算一體芯片。其激光直寫技術(shù)在二氧化硅基底上實(shí)現(xiàn)了 100nm 間距的電極陣列,，器件的讀寫速度達(dá) 10ns,，較傳統(tǒng) SRAM 提升 100 倍。通過在電極間集成 20nm 厚的 Ge2Sb2Te5 相變材料,，芯片實(shí)現(xiàn)了計(jì)算與存儲的原位融合,，能效比達(dá) 1TOPS/W，較傳統(tǒng)馮?諾依曼架構(gòu)提升 1000 倍,。該技術(shù)被用于邊緣計(jì)算設(shè)備,，使圖像識別延遲從 50ms 縮短至 5ms，相關(guān)芯片已進(jìn)入小批量試產(chǎn)階段,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會。

無掩模激光光刻：科研效率的revolution性提升,！Polos-BESM系列采用無掩模激光直寫技術(shù),，用戶可通過軟件直接輸入任意圖案，省去傳統(tǒng)光刻中掩膜制備的高昂成本與時(shí)間,。其405 nm紫外光源和亞微米分辨率（most小線寬0.8 μm）支持5英寸晶圓的高精度加工,，特別適合實(shí)驗(yàn)室快速原型開發(fā)。閉環(huán)自動(dòng)對焦系統(tǒng)（1秒完成）和半自動(dòng)多層對準(zhǔn)功能,，remarkable提升微流體芯片和MEMS器件的研發(fā)效率62,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會?？蒲谐晒D(zhuǎn)化：中科院利用同類技術(shù)制備跨尺度微盤陣列,，研究細(xì)胞浸潤機(jī)制。

德國 Polos 光刻機(jī)系列是電子學(xué)領(lǐng)域不可或缺的精密設(shè)備,。其無掩模激光光刻技術(shù),，讓電路圖案曝光不再受限于掩模，能夠?qū)崿F(xiàn)超高精度的圖案繪制,。在芯片研發(fā)過程中,，Polos 光刻機(jī)可precise刻畫出納米級別的電路結(jié)構(gòu)，為芯片性能提升奠定基礎(chǔ),。? 科研團(tuán)隊(duì)使用 Polos 光刻機(jī),，成功開發(fā)出更高效的集成電路,，降低芯片能耗，提高運(yùn)算速度,。而且,，該光刻機(jī)可輕松輸入任意圖案，滿足不同電子元件的多樣化設(shè)計(jì)需求,。無論是新型傳感器的電路制作,，還是微型處理器的研發(fā)，Polos 光刻機(jī)都能以高精度,、低成本的優(yōu)勢,，為電子學(xué)領(lǐng)域的科研成果產(chǎn)出提供有力保障，推動(dòng)電子技術(shù)不斷創(chuàng)新,。電子學(xué)應(yīng)用：2μm 線寬光刻能力,，第三代半導(dǎo)體器件研發(fā)效率提升 3 倍。遼寧POLOSBEAM-XL光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸

POLOS μ 光刻機(jī)：桌面級設(shè)計(jì),，2-23μm 可調(diào)分辨率,，兼容 4 英寸晶圓，微機(jī)電系統(tǒng)加工誤差 < 5μm,。廣東德國桌面無掩模光刻機(jī)分辨率1.5微米

一所高校的電子工程實(shí)驗(yàn)室專注于新型傳感器的研究,。在開發(fā)一款超靈敏壓力傳感器時(shí)，面臨著如何在微小尺寸上構(gòu)建高精度電路圖案的難題,。德國 Polos 光刻機(jī)的引入解決了這一困境,。其可輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光的特性，讓研究人員能夠根據(jù)傳感器的特殊需求,，設(shè)計(jì)并制作出獨(dú)特的電路結(jié)構(gòu),。通過 Polos 光刻機(jī)precise的光刻，成功制造出的壓力傳感器,，靈敏度比現(xiàn)有市場產(chǎn)品提高了兩倍以上,。該成果已獲得多項(xiàng)patent，并吸引了多家科技企業(yè)的關(guān)注,，有望實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用,，為可穿戴設(shè)備、智能機(jī)器人等領(lǐng)域帶來新的發(fā)展機(jī)遇,。廣東德國桌面無掩模光刻機(jī)分辨率1.5微米