Polos-BESM在電子器件原型開發(fā)中展現(xiàn)高效性,。例如，其軟件支持GDS文件直接導(dǎo)入,，多層曝光疊加功能簡化了射頻器件（如IDC電容器）的制造流程,。研究團(tuán)隊利用同類設(shè)備成功制備了高頻電路元件，驗(yàn)證了其在5G通信和物聯(lián)網(wǎng)硬件中的潛力,。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢,。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢,。掩模制備時間歸零,，科研人員耗時減少 60%，項目交付周期縮短 50%,。重慶POLOSBEAM光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸

某智能機(jī)器人實(shí)驗(yàn)室采用 Polos 光刻機(jī)制造了磁控微納機(jī)器人,。其激光直寫技術(shù)在鎳鈦合金薄膜上刻制出 10μm 的螺旋槳結(jié)構(gòu)，機(jī)器人在旋轉(zhuǎn)磁場下的推進(jìn)速度達(dá) 50μm/s,，轉(zhuǎn)向精度小于 5°,。通過自定義三維運(yùn)動軌跡，該機(jī)器人在微流控芯片中成功實(shí)現(xiàn)了單個紅細(xì)胞的捕獲與轉(zhuǎn)運(yùn),，操作成功率從傳統(tǒng)方法的 40% 提升至 85%,。其輕量化設(shè)計（質(zhì)量 < 1μg）還支持在活細(xì)胞表面進(jìn)行納米級手術(shù)，相關(guān)成果入選《Science Robotics》年度創(chuàng)新技術(shù),。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團(tuán)隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會。北京桌面無掩模光刻機(jī)不需要緩慢且昂貴的光掩模生物界面創(chuàng)新：微納結(jié)構(gòu)可控加工,，為組織工程提供新型仿生材料解決方案,。

一家專注于再生醫(yī)學(xué)的科研公司在組織工程支架的研究上，使用德國 Polos 光刻機(jī)取得remarkable成果,。組織工程支架需要具備特定的三維結(jié)構(gòu),，以促進(jìn)細(xì)胞的生長和組織的修復(fù)。Polos 光刻機(jī)能夠根據(jù)預(yù)先設(shè)計的三維模型,，在生物可降解材料上精確制造出復(fù)雜的孔隙結(jié)構(gòu)和表面圖案,。通過該光刻機(jī)制造的支架，在動物實(shí)驗(yàn)中表現(xiàn)出優(yōu)異的細(xì)胞黏附和組織生長引導(dǎo)能力,。與傳統(tǒng)制造方法相比,，使用 Polos 光刻機(jī)生產(chǎn)的支架，細(xì)胞在其上的增殖速度提高了 50%,，為組織工程和再生醫(yī)學(xué)的臨床應(yīng)用提供了有力支持,。

Polos-BESM支持GDS文件直接導(dǎo)入和多層曝光疊加，簡化射頻器件（如IDC電容器）制造流程,。研究團(tuán)隊利用類似設(shè)備成功制備高頻電路元件,，驗(yàn)證了其在5G通信和物聯(lián)網(wǎng)硬件中的潛力。其高重復(fù)性（0.1 μm）確?？蒲谐晒目赊D(zhuǎn)化性,，助力國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破技術(shù)封鎖56。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團(tuán)隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。微流體3D成型：復(fù)雜流道快速曝光，助力tumor篩查芯片與藥物遞送系統(tǒng)研發(fā),。

德國 Polos 光刻機(jī)系列是電子學(xué)領(lǐng)域不可或缺的精密設(shè)備,。其無掩模激光光刻技術(shù)，讓電路圖案曝光不再受限于掩模,，能夠?qū)崿F(xiàn)超高精度的圖案繪制,。在芯片研發(fā)過程中，Polos 光刻機(jī)可precise刻畫出納米級別的電路結(jié)構(gòu),，為芯片性能提升奠定基礎(chǔ)。? 科研團(tuán)隊使用 Polos 光刻機(jī),，成功開發(fā)出更高效的集成電路,，降低芯片能耗，提高運(yùn)算速度,。而且,，該光刻機(jī)可輕松輸入任意圖案，滿足不同電子元件的多樣化設(shè)計需求,。無論是新型傳感器的電路制作,，還是微型處理器的研發(fā)，Polos 光刻機(jī)都能以高精度,、低成本的優(yōu)勢,，為電子學(xué)領(lǐng)域的科研成果產(chǎn)出提供有力保障，推動電子技術(shù)不斷創(chuàng)新,。全球產(chǎn)業(yè)鏈整合：德國精密制造背書,，與Lab14集團(tuán)共推光通信芯片封裝技術(shù)。重慶POLOSBEAM光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸

多材料兼容性：同步加工陶瓷 / PDMS / 金屬,，微流控芯片集成電極與通道一步成型,。重慶POLOSBEAM光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸

在微流控芯片集成領(lǐng)域，某微機(jī)電系統(tǒng)實(shí)驗(yàn)室利用 Polos 光刻機(jī)的多材料同步曝光技術(shù),，在同一塊 PDMS 芯片上直接制備出金屬電極驅(qū)動的氣動泵閥結(jié)構(gòu),。其微泵通道寬度可控制在 20μm，流量調(diào)節(jié)精度達(dá) ±1%,，響應(yīng)時間小于 50ms,。通過軟件輸入不同圖案，可在 10 分鐘內(nèi)完成從連續(xù)流到脈沖流的模式切換,。該芯片被用于單細(xì)胞代謝分析,，實(shí)現(xiàn)了單個tumor細(xì)胞葡萄糖攝取率的實(shí)時監(jiān)測，檢測靈敏度較傳統(tǒng)方法提升 3 倍,，相關(guān)設(shè)備已進(jìn)入臨床前驗(yàn)證階段,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團(tuán)隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。重慶POLOSBEAM光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸