微流體芯片制造的core工具！Polos光刻機可加工80 μm直徑的開環(huán)諧振器和2 μm叉指電極,，適用于傳感器與執(zhí)行器開發(fā),。結合雙光子聚合技術（如Nanoscribe的2PP工藝），用戶可擴展至3D微納結構打印,，為微型機器人及光學超材料提供多維度解決方案37,。其與Lab14集團的協(xié)同合作，進一步推動工業(yè)級光學封裝技術創(chuàng)新3,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域,。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。工業(yè)4.0協(xié)同創(chuàng)新：與弗勞恩霍夫ILT合作優(yōu)化激光能量分布,，提升制造精度,。北京POLOSBEAM光刻機可以自動聚焦波長

德國Polos-BESM系列光刻機采用無掩模激光直寫技術，突破傳統(tǒng)光刻對物理掩膜的依賴,，支持用戶通過軟件直接輸入任意圖案進行快速曝光,。其亞微米分辨率（most小線寬0.8 μm）和405 nm紫外光源，可在5英寸晶圓上實現(xiàn)高精度微納結構加工18,。系統(tǒng)體積緊湊,，only占桌面空間，搭配閉環(huán)自動對焦（1秒完成）和半自動多層對準功能,，大幅提升實驗室原型開發(fā)效率,，適用于微流體芯片設計、電子元件制造等領域,。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術帶到了桌面上，進一步提升了其優(yōu)勢,。北京POLOSBEAM光刻機可以自動聚焦波長成本效益：單次曝光成本低于傳統(tǒng)光刻 1/3,，小批量研發(fā)更經濟。

針對碳化硅（SiC）功率模塊的柵極刻蝕難題,，Polos 光刻機的激光直寫技術實現(xiàn)了 20nm 的邊緣粗糙度控制,，較傳統(tǒng)光刻膠工藝提升 5 倍。某新能源汽車芯片廠商利用該設備,，將 SiC MOSFET 的導通電阻降低 15%,，開關損耗減少 20%，推動車載逆變器效率突破 99%,。其靈活的圖案編輯功能支持快速驗證新型柵極結構,，使器件研發(fā)周期從 12 周壓縮至 4 周，助力我國在第三代半導體領域實現(xiàn)彎道超車,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域,。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。

單細胞分選需要復雜的流體動力學控制結構,，傳統(tǒng)光刻難以實現(xiàn)多尺度結構集成。Polos 光刻機的分層曝光功能,，在同一片芯片上制備出 5μm 窄縫的細胞捕獲區(qū)與 50μm 寬的廢液通道,，通道高度誤差控制在 ±2% 以內。某細胞生物學實驗室利用該芯片,，將單細胞分選通量提升至 1000 個 / 秒,，分選純度達 98%，較傳統(tǒng)流式細胞儀體積縮小 90%,。該技術已應用于循環(huán)tumor細胞檢測,，使稀有細胞捕獲效率提升 3 倍，相關設備進入臨床驗證階段,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體,、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域,。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。無掩模技術優(yōu)勢：摒棄傳統(tǒng)掩模,，圖案實時調整，研發(fā)成本降低 70%,，小批量生產經濟性突出,。

某生物物理實驗室利用 Polos 光刻機開發(fā)了基于壓阻效應的細胞力傳感器,。其激光直寫技術在硅基底上制造出 5μm 厚的懸臂梁結構，傳感器的力分辨率達 10pN,，較傳統(tǒng) AFM 提升 10 倍,。通過在懸臂梁表面刻制 100nm 的微柱陣列，實現(xiàn)了單個心肌細胞收縮力的實時監(jiān)測,，力信號信噪比提升 60%,。該傳感器被用于心臟纖維化機制研究，成功捕捉到心肌細胞在病理狀態(tài)下的力學變化,，相關數據為心肌修復藥物開發(fā)提供了關鍵依據,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室,，并broad應用于微流體,、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。跨學科應用：覆蓋微機械,、光子晶體,、仿生傳感器與納米材料合成領域。河北光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

軟件高效兼容：BEAM Xplorer支持GDS文件導入,，簡化復雜圖案設計流程,。北京POLOSBEAM光刻機可以自動聚焦波長

Polos光刻機在微機械加工中表現(xiàn)outstanding。其亞微米分辨率可制造80 μm直徑的開環(huán)諧振器和2 μm叉指電極,，適用于傳感器與執(zhí)行器開發(fā),。結合雙光子聚合技術（如Nanoscribe系統(tǒng)），用戶還能擴展至3D微納結構打印,，為微型機器人及光學元件提供多尺度制造方案,。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術帶到了桌面上,，進一步提升了其優(yōu)勢,。北京POLOSBEAM光刻機可以自動聚焦波長