在航空航天科研中,，某科研團(tuán)隊致力于研發(fā)用于環(huán)境監(jiān)測和偵察的微型飛行器,。其中，制造輕量化且高性能的微機(jī)械部件是關(guān)鍵,。德國 Polos 光刻機(jī)憑借無掩模激光光刻技術(shù),，助力團(tuán)隊制造出尺寸precise、質(zhì)量輕盈的微型齒輪,、機(jī)翼骨架等微機(jī)械結(jié)構(gòu),。例如,，利用該光刻機(jī)制造的微型齒輪，齒距精度達(dá)到納米級別,，極大提高了飛行器動力傳輸系統(tǒng)的效率和穩(wěn)定性,。基于此,，科研團(tuán)隊成功試飛了一款新型微型飛行器,，其續(xù)航時間和飛行靈活性遠(yuǎn)超同類產(chǎn)品，為未來微型飛行器在復(fù)雜環(huán)境下的應(yīng)用奠定了堅實基礎(chǔ),。材料科學(xué)：超疏水表面納米圖案化,，接觸角 165°，防腐蝕性能增強(qiáng) 10 倍,。廣東德國POLOS光刻機(jī)可以自動聚焦波長

某基因treatment團(tuán)隊采用 Polos 光刻機(jī)開發(fā)了微米級 DNA 遞送載體,。通過 STL 模型直接導(dǎo)入，在生物可降解聚合物表面刻制出 1-5μm 的蜂窩狀微孔結(jié)構(gòu),，載體的 DNA 負(fù)載量達(dá) 200μg/mg,，較傳統(tǒng)電穿孔法提升 5 倍。動物實驗顯示,，該載體在肝臟靶向遞送中,，基因轉(zhuǎn)染效率達(dá) 65%，且免疫原性降低 70%,。其無掩模特性支持根據(jù)不同細(xì)胞表面受體定制載體形貌,，在 CAR-T 細(xì)胞treatment中，CAR 基因?qū)胄蕪?30% 提升至 75%,，相關(guān)技術(shù)已申請國際patent,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團(tuán)隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。四川德國BEAM光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米光束引擎高速掃描：SPS POLOS μ單次寫入400 μm區(qū)域，壓電驅(qū)動提升掃描速度,。

一家專注于再生醫(yī)學(xué)的科研公司在組織工程支架的研究上,，使用德國 Polos 光刻機(jī)取得remarkable成果,。組織工程支架需要具備特定的三維結(jié)構(gòu)，以促進(jìn)細(xì)胞的生長和組織的修復(fù),。Polos 光刻機(jī)能夠根據(jù)預(yù)先設(shè)計的三維模型,，在生物可降解材料上精確制造出復(fù)雜的孔隙結(jié)構(gòu)和表面圖案。通過該光刻機(jī)制造的支架,，在動物實驗中表現(xiàn)出優(yōu)異的細(xì)胞黏附和組織生長引導(dǎo)能力,。與傳統(tǒng)制造方法相比，使用 Polos 光刻機(jī)生產(chǎn)的支架,，細(xì)胞在其上的增殖速度提高了 50%,，為組織工程和再生醫(yī)學(xué)的臨床應(yīng)用提供了有力支持,。

在微流體領(lǐng)域,，Polos系列光刻機(jī)通過無掩模技術(shù)實現(xiàn)了復(fù)雜3D流道結(jié)構(gòu)的快速成型。例如,，中科院理化所利用類似技術(shù)制備跨尺度微盤陣列,，研究細(xì)胞球浸潤行為，為組織工程提供了新型生物界面設(shè)計策略10,。Polos設(shè)備的精度與靈活性可支持此類仿生結(jié)構(gòu)的批量生產(chǎn),，推動醫(yī)療診斷芯片的研發(fā)。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上,，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢。Polos-BESM XL：加大加工幅面,，滿足中尺寸器件一次性成型需求,。

一所高校的電子工程實驗室專注于新型傳感器的研究。在開發(fā)一款超靈敏壓力傳感器時,，面臨著如何在微小尺寸上構(gòu)建高精度電路圖案的難題,。德國 Polos 光刻機(jī)的引入解決了這一困境。其可輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光的特性,，讓研究人員能夠根據(jù)傳感器的特殊需求,，設(shè)計并制作出獨特的電路結(jié)構(gòu)。通過 Polos 光刻機(jī)precise的光刻,，成功制造出的壓力傳感器,，靈敏度比現(xiàn)有市場產(chǎn)品提高了兩倍以上。該成果已獲得多項patent,，并吸引了多家科技企業(yè)的關(guān)注,，有望實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用,，為可穿戴設(shè)備、智能機(jī)器人等領(lǐng)域帶來新的發(fā)展機(jī)遇,。POLOS μ 光刻機(jī)：桌面級設(shè)計,，2-23μm 可調(diào)分辨率，兼容 4 英寸晶圓,，微機(jī)電系統(tǒng)加工誤差 < 5μm,。河北PSP光刻機(jī)光源波長405微米

技術(shù)Benchmark：Polos-μPrinter 入選《半導(dǎo)體技術(shù)》年度創(chuàng)新產(chǎn)品，推動無掩模光刻技術(shù)普及,。廣東德國POLOS光刻機(jī)可以自動聚焦波長

柔性電子是未來可穿戴設(shè)備的core方向,，其電路圖案需適應(yīng)曲面基底。Polos 光刻機(jī)的無掩模技術(shù)在聚酰亞胺柔性基板上實現(xiàn)了 2μm 線寬的precise曝光,，解決了傳統(tǒng)掩模對準(zhǔn)偏差問題,。某柔性電子研究中心利用該設(shè)備，開發(fā)出可貼合皮膚的健康監(jiān)測貼片,，其傳感器陣列的信號噪聲比提升 60%,。相比光刻膠掩模工藝，Polos 光刻機(jī)將打樣時間從 72 小時壓縮至 8 小時,，加速了柔性電路的迭代優(yōu)化,，推動柔性電子從實驗室走向產(chǎn)業(yè)化落地。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團(tuán)隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會。廣東德國POLOS光刻機(jī)可以自動聚焦波長