Polos光刻機在微機械加工中表現(xiàn)outstanding。其亞微米分辨率可制造80 μm直徑的開環(huán)諧振器和2 μm叉指電極，適用于傳感器與執(zhí)行器開發(fā),。結(jié)合雙光子聚合技術(shù)（如Nanoscribe系統(tǒng)）,，用戶還能擴展至3D微納結(jié)構(gòu)打印，為微型機器人及光學元件提供多尺度制造方案,。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上，進一步提升了其優(yōu)勢,。環(huán)保低能耗設(shè)計：固態(tài)光源能耗較傳統(tǒng)設(shè)備降低30%,，符合綠色實驗室標準。湖北德國PSP-POLOS光刻機光源波長405微米

某材料實驗室利用 Polos 光刻機的亞微米級圖案化能力,，在鋁合金表面制備出仿荷葉結(jié)構(gòu)的超疏水涂層,。其激光直寫技術(shù)在 20μm 間距的微柱陣列上疊加 500nm 的納米脊，使材料表面接觸角達 165°,，滾動角小于 3°,。該涂層在海水環(huán)境中浸泡 30 天后，防腐蝕性能較未處理表面提升 10 倍,。其靈活的圖案編輯功能還支持在同一樣品上實現(xiàn)超疏水與超親水區(qū)域的任意組合,，被用于微流控芯片的液滴定向輸運，液滴驅(qū)動電壓降低至傳統(tǒng)方法的 1/3,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。湖北德國PSP-POLOS光刻機光源波長405微米成本效益：單次曝光成本低于傳統(tǒng)光刻 1/3,，小批量研發(fā)更經(jīng)濟,。

在微流體研究領(lǐng)域，德國 Polos 光刻機系列憑借獨特優(yōu)勢脫穎而出,。其無掩模激光光刻技術(shù),，打破傳統(tǒng)光刻的局限，無需掩模就能實現(xiàn)高精度圖案制作,。這使得科研人員在構(gòu)建微通道網(wǎng)絡(luò)時,，可根據(jù)實驗需求自由設(shè)計，快速完成從圖紙到實體的轉(zhuǎn)化,。?以藥物傳輸研究為例,，利用 Polos 光刻機，能制造出尺寸precise,、結(jié)構(gòu)復(fù)雜的微通道,，模擬人體環(huán)境，讓藥物在微小空間內(nèi)可控流動,，much提升藥物傳輸效率研究的準確性,。同時，在細胞培養(yǎng)實驗中,，該光刻機制作的微流體芯片,，為細胞提供穩(wěn)定且適宜的生長環(huán)境，助力細胞生物學研究取得新突破,。小空間大作為的 Polos 光刻機,，正推動微流體研究不斷向前。

針對碳化硅（SiC）功率模塊的柵極刻蝕難題,，Polos 光刻機的激光直寫技術(shù)實現(xiàn)了 20nm 的邊緣粗糙度控制,，較傳統(tǒng)光刻膠工藝提升 5 倍。某新能源汽車芯片廠商利用該設(shè)備,，將 SiC MOSFET 的導(dǎo)通電阻降低 15%,，開關(guān)損耗減少 20%，推動車載逆變器效率突破 99%,。其靈活的圖案編輯功能支持快速驗證新型柵極結(jié)構(gòu)，使器件研發(fā)周期從 12 周壓縮至 4 周,，助力我國在第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)彎道超車,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。POLOS μ：超緊湊設(shè)計,，納米級精度專攻微流控與細胞芯片。

微納衛(wèi)星對部件重量與精度要求苛刻,，傳統(tǒng)加工難以兼顧,。Polos 光刻機在硅基材料上實現(xiàn)了 50nm 深度的微溝槽加工，為某航天團隊制造出輕量化星載慣性導(dǎo)航陀螺結(jié)構(gòu),。通過自定義螺旋型振動梁圖案,，陀螺的零偏穩(wěn)定性提升至 0.01°/h，較商用產(chǎn)品性能翻倍,。該技術(shù)還被用于微推進器噴嘴陣列加工,，使衛(wèi)星姿態(tài)調(diào)整精度達到亞毫牛級，助力我國低軌衛(wèi)星星座建設(shè)取得關(guān)鍵突破,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。無掩模激光直寫技術(shù)：無需物理掩膜,，軟件直接輸入任意圖案，降低成本與時間,。湖北德國PSP-POLOS光刻機光源波長405微米

材料科學：超疏水表面納米圖案化,，接觸角 165°，防腐蝕性能增強 10 倍,。湖北德國PSP-POLOS光刻機光源波長405微米

無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。湖北德國PSP-POLOS光刻機光源波長405微米