在微流控芯片集成領(lǐng)域,，某微機電系統(tǒng)實驗室利用 Polos 光刻機的多材料同步曝光技術(shù),，在同一塊 PDMS 芯片上直接制備出金屬電極驅(qū)動的氣動泵閥結(jié)構(gòu),。其微泵通道寬度可控制在 20μm,，流量調(diào)節(jié)精度達 ±1%，響應(yīng)時間小于 50ms,。通過軟件輸入不同圖案,，可在 10 分鐘內(nèi)完成從連續(xù)流到脈沖流的模式切換,。該芯片被用于單細(xì)胞代謝分析,，實現(xiàn)了單個tumor細(xì)胞葡萄糖攝取率的實時監(jiān)測,，檢測靈敏度較傳統(tǒng)方法提升 3 倍，相關(guān)設(shè)備已進入臨床前驗證階段,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。POLOS μ 光刻機：桌面級設(shè)計,，2-23μm 可調(diào)分辨率，兼容 4 英寸晶圓,，微機電系統(tǒng)加工誤差 < 5μm,。四川德國PSP-POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

微流體芯片制造的core工具！Polos光刻機可加工80 μm直徑的開環(huán)諧振器和2 μm叉指電極,，適用于傳感器與執(zhí)行器開發(fā),。結(jié)合雙光子聚合技術(shù)（如Nanoscribe的2PP工藝），用戶可擴展至3D微納結(jié)構(gòu)打印,，為微型機器人及光學(xué)超材料提供多維度解決方案37,。其與Lab14集團的協(xié)同合作，進一步推動工業(yè)級光學(xué)封裝技術(shù)創(chuàng)新3,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。四川德國PSP-POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸客戶認(rèn)可：全球 500 + 客戶滿意度達 98%,，復(fù)購率 75%，技術(shù)支持響應(yīng)時間 < 2 小時,。

針對植入式醫(yī)療設(shè)備的長期安全性問題,，某生物電子實驗室利用 Polos 光刻機在聚乳酸（）基底上制備可降解電極,。其無掩模技術(shù)避免了傳統(tǒng)掩模污染，使電極的金屬殘留量低于 0.01μg/mm2,，生物相容性測試顯示細(xì)胞存活率達 99%,。通過自定義螺旋狀天線圖案，開發(fā)出的可降解心率監(jiān)測器,，在體內(nèi)降解周期可控制在 3-12 個月,，信號傳輸穩(wěn)定性較同類產(chǎn)品提升 50%，相關(guān)技術(shù)已進入臨床前生物相容性評價階段,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。

某基因treatment團隊采用 Polos 光刻機開發(fā)了微米級 DNA 遞送載體,。通過 STL 模型直接導(dǎo)入，在生物可降解聚合物表面刻制出 1-5μm 的蜂窩狀微孔結(jié)構(gòu),，載體的 DNA 負(fù)載量達 200μg/mg,，較傳統(tǒng)電穿孔法提升 5 倍。動物實驗顯示,，該載體在肝臟靶向遞送中,，基因轉(zhuǎn)染效率達 65%，且免疫原性降低 70%,。其無掩模特性支持根據(jù)不同細(xì)胞表面受體定制載體形貌,，在 CAR-T 細(xì)胞treatment中，CAR 基因?qū)胄蕪?30% 提升至 75%,，相關(guān)技術(shù)已申請國際patent,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。高頻元件驗證：成功開發(fā)射頻器件與IDC電容器,，加速國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破。

單細(xì)胞分選需要復(fù)雜的流體動力學(xué)控制結(jié)構(gòu),，傳統(tǒng)光刻難以實現(xiàn)多尺度結(jié)構(gòu)集成,。Polos 光刻機的分層曝光功能，在同一片芯片上制備出 5μm 窄縫的細(xì)胞捕獲區(qū)與 50μm 寬的廢液通道,，通道高度誤差控制在 ±2% 以內(nèi),。某細(xì)胞生物學(xué)實驗室利用該芯片，將單細(xì)胞分選通量提升至 1000 個 / 秒,，分選純度達 98%，較傳統(tǒng)流式細(xì)胞儀體積縮小 90%,。該技術(shù)已應(yīng)用于循環(huán)tumor細(xì)胞檢測,，使稀有細(xì)胞捕獲效率提升 3 倍，相關(guān)設(shè)備進入臨床驗證階段,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,?？鐚W(xué)科應(yīng)用：覆蓋微機械、光子晶體,、仿生傳感器與納米材料合成領(lǐng)域,。安徽德國PSP-POLOS光刻機

Polos-BESM XL：加大加工幅面，滿足中尺寸器件一次性成型需求,。四川德國PSP-POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

某材料實驗室利用 Polos 光刻機的亞微米級圖案化能力,，在鋁合金表面制備出仿荷葉結(jié)構(gòu)的超疏水涂層,。其激光直寫技術(shù)在 20μm 間距的微柱陣列上疊加 500nm 的納米脊，使材料表面接觸角達 165°,，滾動角小于 3°,。該涂層在海水環(huán)境中浸泡 30 天后，防腐蝕性能較未處理表面提升 10 倍,。其靈活的圖案編輯功能還支持在同一樣品上實現(xiàn)超疏水與超親水區(qū)域的任意組合,，被用于微流控芯片的液滴定向輸運，液滴驅(qū)動電壓降低至傳統(tǒng)方法的 1/3,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。四川德國PSP-POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸