QuantumXshape是一款真正意義上的全能機(jī)型,?;陔p光子聚合技術(shù),該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機(jī)型,,同時(shí)適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)?;a(chǎn),。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®),。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格,,從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制,。此外,受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào),,該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑,,同時(shí)保持高精度的形狀控制。了解雙光子灰度光刻敬請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司,。德國(guó)高分辨率灰度光刻激光直寫
德國(guó)Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會(huì)展 LASER World of Photonics上發(fā)布了全新工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng) Quantum X ,,并榮獲創(chuàng)新獎(jiǎng)。該系統(tǒng)是世界first基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的精密加工微納米打印系統(tǒng),,可應(yīng)用于折射和衍射微光學(xué),。該系統(tǒng)的面世表示著Nanoscribe已進(jìn)軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領(lǐng)域。具有全自動(dòng)化系統(tǒng)的Quantum X無(wú)論從外形或者使用體驗(yàn)上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求,。這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到準(zhǔn)同步,,這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面,。該技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的精確性和靈活性結(jié)合,使其同時(shí)具備高速打印,,完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),。從而滿足了復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。德國(guó)高分辨率灰度光刻激光直寫Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您講解雙光子灰度光刻技術(shù)的應(yīng)用,。
Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性,,可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,例如用光敏聚合物,,納米顆粒復(fù)合物,,或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人,并可以選擇添加金屬涂層,。此外,,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS),。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件(DOE),,并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。由于需要多次光刻,,刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝,,衍射光學(xué)元件(DOE)的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長(zhǎng)且成本高。而利用增材制造即可簡(jiǎn)單一步實(shí)現(xiàn)多級(jí)衍射光學(xué)元件,,可以直接作為原型使用,,也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。
Nanoscribe稱,,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),,目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過(guò)程控制的攝像頭和一個(gè)樹脂分配器。為了簡(jiǎn)化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,,物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行,。多層衍射光學(xué)元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過(guò)在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來(lái)完成,,從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間,。Nanoscribe表示,折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,,可制作單個(gè)光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列,以及可以在直接和無(wú)掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,,如球面和非球面透鏡,。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討雙光子灰度光刻系統(tǒng)。
Nanoscribe稱QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),,目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過(guò)程控制的攝像頭和一個(gè)樹脂分配器。為了簡(jiǎn)化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,,物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行,。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),并通過(guò)交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目,,打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。如需了解更多全新工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)Quantum X的內(nèi)容,,請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司納糯三維,。上海雙光子灰度光刻
雙光子灰度光刻(2GL ?)系統(tǒng)Quantum X實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。德國(guó)高分辨率灰度光刻激光直寫
來(lái)自德國(guó)亞琛工業(yè)大學(xué)以及萊布尼茲材料研究所科學(xué)家們使用Nanoscribe的3D雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,,該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復(fù)雜噴嘴設(shè)計(jì),。科學(xué)家們運(yùn)用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)(2PP)打印微型通道的聚合物母版,,并結(jié)合軟灰度光刻技術(shù)做后續(xù)復(fù)制工作,。隨后,在密閉的微流道中通過(guò)芯片內(nèi)3D微納加工技術(shù)直接制作復(fù)雜結(jié)構(gòu)噴絲頭,。這種集成復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門,。斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心,共同合作研發(fā)了世界上特別小的3D打印微型內(nèi)窺鏡,。該內(nèi)窺鏡所用到的微光學(xué)器件寬度只有125微米,,可以用于直徑小于半毫米的血管內(nèi)進(jìn)行內(nèi)窺鏡檢查。而這個(gè)精密的微光學(xué)器件是通過(guò)使用德國(guó)Nanoscribe公司的雙光子微納3D打印設(shè)備制作的,。微型內(nèi)窺鏡可以幫助檢測(cè)人體動(dòng)脈內(nèi)的斑塊,、血栓和膽固醇晶體,因此對(duì)于醫(yī)學(xué)檢測(cè)極其重要,,可以有助于減少中風(fēng)和心臟病發(fā)作的風(fēng)險(xiǎn),。德國(guó)高分辨率灰度光刻激光直寫
納糯三維科技(上海)有限公司總部位于中國(guó)(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加楓路26號(hào)108室,是一家作為Nanoscribe在中國(guó)全資子公司,,納糯三維科技(上海)有限公司可進(jìn)行三維打印科技領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)開發(fā),,技術(shù)轉(zhuǎn)讓,技術(shù)咨詢,,技術(shù)服務(wù),,三維打印設(shè)備,光電機(jī)一體化設(shè)備和相關(guān)零配件的批發(fā),,進(jìn)出口,,傭金代理,并提供相關(guān)配套服務(wù),,貿(mào)易信息咨詢,,企業(yè)管理咨詢。的公司,。納糯三維深耕行業(yè)多年,,始終以客戶的需求為向?qū)В瑸榭蛻籼峁?**的PPGT2,,Quantum X系列,,雙光子微納激光直寫系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng),。納糯三維繼續(xù)堅(jiān)定不移地走高質(zhì)量發(fā)展道路,,既要實(shí)現(xiàn)基本面穩(wěn)定增長(zhǎng),又要聚焦關(guān)鍵領(lǐng)域,,實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)型再突破,。納糯三維始終關(guān)注儀器儀表行業(yè)。滿足市場(chǎng)需求,,提高產(chǎn)品價(jià)值,,是我們前行的力量。