為了探索待測物微納米表面形貌,，探針掃描成像技術(shù)一直是理論研究和實驗項目。然而,，由于掃描探針受限于傳統(tǒng)加工工藝,，在組成材料和幾何構(gòu)造等方面在過去幾十年中沒有明顯的研究進展,，這也限制了基于力傳感反饋的測量性能,。如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變，以實現(xiàn)對原始表面的精確成像一直是一個重要議題,。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng),，雙光子聚合技術(shù)是實現(xiàn)微納尺度3D打印有效的技術(shù)，其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級,，并可達到光學質(zhì)量表面的要求,。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu),、自由設(shè)計的圖案,、順滑的輪廓、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計的靈活性和操控的簡潔性，以及普遍的材料-基板選擇,。因此,，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室,。更多有關(guān)高精度三維光刻的咨詢,，歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。四川雙光子Nanoscribe微流道

Nanoscribe作為一家納米,，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**,，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案,。在全球頂端大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,，有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。 作為基于雙光子聚合技術(shù)（ 2PP） 的微納加工領(lǐng)域市場帶領(lǐng)者,，Nanoscribe 在全球 30 多個國家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體,。基于2PP 微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識，Nanoscribe為頂端科學研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術(shù)支持,，并推動生物打印,、微流體,、微納光學,、微機械、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展,。 “我們非常期待加入 CELLINK 集團,，共同探索雙光子聚合技術(shù)在未來所帶來的更大機遇”Nanoscribe CEO Martin Hermatschweiler 說道。海南高分辨率Nanoscribe技術(shù)現(xiàn)在Nanoscribe客戶遍布全球30個國家,，超過1500名用戶,。

Nanoscribe公司成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄,，秉持著卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術(shù)背景的德國卡爾蔡司公司的支持,，經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長，已然成為微納米生產(chǎn)的帶領(lǐng)者,，一直致力于推動諸如力學超材料,，微納機器人，再生醫(yī)學工程,，微光學等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案,。如今,，Nanoscribe客戶遍布全球30個國家，超過1500名用戶正在使用Nanoscribe3D打印系統(tǒng),。這些大學包含哈佛大學、加州理工學院,、牛津大學,、倫敦帝國理工學院和蘇黎世聯(lián)邦理工學院等等,。為了拓展并加強中國及亞太地區(qū)的銷售推廣和售后服務(wù)范圍,，Nanoscribe于2017年底在上海成立了獨資子公司-納糯三維科技（上海）有限公司。自Nanoscribe進軍中國市場以來,，已有20多家出名大學和研究所成為了Nanoscribe用戶，其中包括多所C9前列高校聯(lián)盟成員,，例如：北京大學,，復(fù)旦大學，南京大學等等。

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,，包括仿生表面，微光學元件,，機械超材料和3D細胞支架等,。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL ®）系統(tǒng)Quantum X實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,，從而達到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制,，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質(zhì)量表面。3D自由曲面耦合器利用全內(nèi)反射,，結(jié)合Nanoscribe的3D微加工技術(shù)可直接在光子芯片上進行3D打印制作,。

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit，PIC) 與電子集成電路類似,，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管,、電容器、電阻器等電子器件,，而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件,，比如激光器、電光調(diào)制器,、光電探測器,、光衰減器、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等,。集成光子學可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域,，例如數(shù)據(jù)通訊，激光雷達系統(tǒng)的自動駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動感應(yīng)設(shè)備等,。而光子集成電路這項關(guān)鍵技術(shù),，尤其是微型光子組件應(yīng)用,，可以很大程度縮小復(fù)雜光學系統(tǒng)的尺寸并降低成本,。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口，例如光纖到芯片的連接,，可以有效提高集成度和功能性,。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性，需要權(quán)衡對準、效率和寬帶方面的種種要求,。針對這些困難,，科學家們提出了寬帶光纖耦合概念，并通過Nanoscribe的雙光子微納3D打印設(shè)備而制造的3D耦合器得以實現(xiàn),。更多有關(guān)3D雙光子無掩模光刻技術(shù)和產(chǎn)品咨詢,，歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。北京微納米Nanoscribe上海

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Nanoscribe稱，Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photon grayscale lithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型,。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項目,，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。該軟件有程序向?qū)?，可在一開始就指導(dǎo)設(shè)計師和工程師完成打印作業(yè),，并能夠接受任意光學設(shè)計的灰度圖像。例如,，可接受高達32位分辨率的BMP,、PNG或TIFF文件，以便使用Nanoscribe的QuantumX進行直接制造,。在雙光子灰度光刻工藝中,，激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實現(xiàn)同步進行，以便對每個掃描平面進行全體素大小控制,。Nanoscribe稱,，Quantum X在每個掃描區(qū)域內(nèi)可產(chǎn)生簡單和復(fù)雜的光學形狀，具有可變的特征高度,。離散和精確的步驟,，以及本質(zhì)上為準連續(xù)的形貌,，可以在一個步驟中完成打印,，而不需要多步光刻或多塊掩模制造。四川雙光子Nanoscribe微流道

納糯三維科技（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加楓路26號108室,。公司業(yè)務(wù)涵蓋PPGT2,，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)等,，價格合理,，品質(zhì)有保證。公司秉持誠信為本的經(jīng)營理念,，在儀器儀表深耕多年,，以技術(shù)為先導(dǎo)，以自主產(chǎn)品為重點,，發(fā)揮人才優(yōu)勢,，打造儀器儀表良好品牌。納糯三維憑借創(chuàng)新的產(chǎn)品,、專業(yè)的服務(wù),、眾多的成功案例積累起來的聲譽和口碑，讓企業(yè)發(fā)展再上新高,。