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廣東雙光子無(wú)掩膜光刻3D打印

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-02-08

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實(shí)現(xiàn)通過(guò)簡(jiǎn)單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作,。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造,,以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量,。總而言之,,工業(yè)級(jí)QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀(guān)尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝,,適用于晶圓級(jí)批量加工。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作,。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果,,同時(shí)還離不開(kāi)工業(yè)級(jí)飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái)。QuantumXshape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制,,可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度,,并以1MHz調(diào)制速率動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率。了解更多無(wú)掩膜光刻的技術(shù)和產(chǎn)品信息,,請(qǐng)咨詢(xún)Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司,。廣東雙光子無(wú)掩膜光刻3D打印

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Nanoscribe的QuantumX形狀與其他一些利用2PP技術(shù)的打印機(jī)競(jìng)爭(zhēng),,例如UpNano的NanoOne高分辨率微增材制造(μAM)解決方案;LithoProf3D,,一種由另一家德國(guó)公司MultiphotonOptics制造的先進(jìn)微型激光光刻3D打印機(jī),,以及Microlight3D基于2PP的交鑰匙3D打印機(jī)Altraspin。作為市場(chǎng)上的新選擇之一,,QuantumXshape承諾采用“非常先進(jìn)的微加工工藝”,,可實(shí)現(xiàn)高精度增材制造,在其中可以比較好平衡精度和速度,,以實(shí)現(xiàn)特別高水平的生產(chǎn)力和質(zhì)量,。Nanoscribe認(rèn)為該打印機(jī)能夠產(chǎn)生“非常出色的輸出”,該打印機(jī)依賴(lài)于基于移動(dòng)鏡技術(shù)的振鏡(Galvo)系統(tǒng)和基于堅(jiān)固花崗巖的平臺(tái)上的智能電子系統(tǒng)控制單元,,并結(jié)合了行業(yè)-級(jí)脈沖飛秒激光器,。QuantumXshape可以使用Nanoscribe專(zhuān)有的聚合物和二氧化硅材料打印3D微型部件,并且對(duì)第三方或定制材料開(kāi)放,。此外,,它可以通過(guò)設(shè)備的集成觸摸屏和遠(yuǎn)程訪(fǎng)問(wèn)軟件nanoConnectX進(jìn)行控制,允許遠(yuǎn)程控制連接打印機(jī)的打印作業(yè),,將實(shí)驗(yàn)室的準(zhǔn)備時(shí)間減少到限度低值,,并在共享系統(tǒng)時(shí)簡(jiǎn)化團(tuán)隊(duì)協(xié)作。遼寧高精度無(wú)掩膜光刻設(shè)備N(xiāo)anoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討無(wú)掩膜光刻技術(shù),。

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QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),,用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專(zhuān)業(yè)激光直寫(xiě)系統(tǒng),,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,,這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備,,可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),,很大程度推動(dòng)了生命科學(xué),微流體,,材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作,。QuantumXshape作為具備光敏樹(shù)脂自動(dòng)分配功能的直立式打印系統(tǒng),非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造,。

Nanoscribe公司推出針對(duì)微光學(xué)元件(如微透鏡,、棱鏡或復(fù)雜自由曲面光學(xué)器件)具有特殊性能的新型打印材料,IP-n162光刻膠。全新光敏樹(shù)脂材料具有高折射率,,高色散和低阿貝數(shù)的特性,,這些特性對(duì)于3D微納加工創(chuàng)新微光學(xué)元件設(shè)計(jì)尤為重要,尤其是在沒(méi)有旋轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)性和復(fù)合三維光學(xué)系統(tǒng)的情況下,。由于在紅外區(qū)域吸收率不高,,因此光敏樹(shù)脂成為了紅外微光學(xué)的優(yōu)先,同時(shí)也是光通訊,、量子技術(shù)和光子封裝等需要低吸收損耗應(yīng)用的相當(dāng)好的選擇,。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術(shù)的3D打印量身定制的打印材料,。高折射率材料可實(shí)現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學(xué)設(shè)計(jì),,并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學(xué)提升到一個(gè)新的高度。由于其光學(xué)特性,,高折射率聚合物可促進(jìn)許多運(yùn)用突破性技術(shù)的各種應(yīng)用,,例如光電應(yīng)用中,他們可以增加顯示設(shè)備,、相機(jī)或投影儀鏡頭的視覺(jué)特性,。此外,這些材料在3D微納加工技術(shù)應(yīng)用下可制作更高階更復(fù)雜更小尺寸的3D微光學(xué)元件,。例如圖示中可應(yīng)用于微型成像系統(tǒng),,內(nèi)窺鏡和AR/VR3D感測(cè)的微透鏡。想要了解雙光子無(wú)掩模光刻技術(shù)在微納醫(yī)學(xué)中的應(yīng)用,,請(qǐng)咨詢(xún)納糯三維科技(上海)有限公司,。

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Nanoscribe稱(chēng),QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),,目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專(zhuān)利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。多層衍射光學(xué)元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過(guò)在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來(lái)完成,,從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間,。Nanoscribe表示,折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,,可制作單個(gè)光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列,以及可以在直接和無(wú)掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,,如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),并通過(guò)交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶(hù)的項(xiàng)目,,打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司帶您了解無(wú)掩膜光刻技術(shù)相關(guān)信息。海南工業(yè)級(jí)無(wú)掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)

什么是Quantum X 新型超高速無(wú)掩模光刻系統(tǒng),?請(qǐng)咨詢(xún)納糯三維科技(上海)有限公司,。廣東雙光子無(wú)掩膜光刻3D打印

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅)。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進(jìn)行直寫(xiě),,而是在孔型支架內(nèi),。通過(guò)調(diào)整直寫(xiě)激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,從而影響打印材料的有效折射率,。采用全新SCRIBE技術(shù)(通過(guò)激光束曝光控制的亞表面折射率)可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí),,對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過(guò)0.3。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,,科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,,例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡(如圖示),。通過(guò)色散透鏡聚焦的光因波長(zhǎng)不同焦點(diǎn)位置也不盡相同,。通過(guò)組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中,,成像中的熒光強(qiáng)度和折射率高度相關(guān),,同時(shí)將打印的雙透鏡中的每個(gè)單獨(dú)透鏡可視化。廣東雙光子無(wú)掩膜光刻3D打印

納糯三維科技(上海)有限公司致力于儀器儀表,,是一家生產(chǎn)型公司,。公司業(yè)務(wù)分為PPGT2,Quantum X系列,,雙光子微納激光直寫(xiě)系統(tǒng),,雙光子微納光刻系統(tǒng)等,目前不斷進(jìn)行創(chuàng)新和服務(wù)改進(jìn),,為客戶(hù)提供良好的產(chǎn)品和服務(wù),。公司秉持誠(chéng)信為本的經(jīng)營(yíng)理念,在儀器儀表深耕多年,,以技術(shù)為先導(dǎo),,以自主產(chǎn)品為重點(diǎn),發(fā)揮人才優(yōu)勢(shì),,打造儀器儀表良好品牌,。納糯三維憑借創(chuàng)新的產(chǎn)品、專(zhuān)業(yè)的服務(wù),、眾多的成功案例積累起來(lái)的聲譽(yù)和口碑,,讓企業(yè)發(fā)展再上新高,。