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重慶2GL無掩膜光刻微納光刻

來源: 發(fā)布時(shí)間:2022-02-19

科學(xué)家們基于Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)(2PP),,發(fā)明了GRIN光學(xué)微納制造工藝。這種新的制造技術(shù)實(shí)現(xiàn)了簡單一步操作即可同時(shí)控制幾何形狀和折射率來打印自由曲面光學(xué)元件,。憑借這種全新的制造工藝,,科學(xué)家們完成了令人印象深刻的展示制作,打印了世界上特別小的可聚焦可見光的龍勃透鏡(15μm直徑),。相似于人類眼睛晶狀體的梯度,,這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加,使其具有獨(dú)特的聚光特性,。Nanoscribe的PhotonicProfessional打印系統(tǒng)可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅),。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進(jìn)行直寫,而是在孔型支架內(nèi),。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,,從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)(通過激光束曝光控制的亞表面折射率)可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時(shí),,對折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3,。無掩膜光刻機(jī)可以讀取任何CAD數(shù)據(jù),。重慶2GL無掩膜光刻微納光刻

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Nanoscribe成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司,。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領(lǐng)導(dǎo)地位,,并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實(shí)現(xiàn)多樣化,,以滿足不用客戶群的需求,。Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**,,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng),,以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案,。江蘇進(jìn)口無掩膜光刻微納光刻N(yùn)anoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手。

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QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,,可實(shí)現(xiàn)通過簡單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作,。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,,即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造,,以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量??偠灾?,工業(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝,適用于晶圓級批量加工,。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作,。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果,同時(shí)還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺,。QuantumXshape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制,,可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度,并以1MHz調(diào)制速率動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率,。

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅),。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進(jìn)行直寫,而是在孔型支架內(nèi),。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,,從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)(通過激光束曝光控制的亞表面折射率)可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時(shí),,對折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3,。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,,科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,,例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡(如圖示),。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點(diǎn)位置也不盡相同。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中,成像中的熒光強(qiáng)度和折射率高度相關(guān),,同時(shí)將打印的雙透鏡中的每個(gè)單獨(dú)透鏡可視化,。更多有關(guān)3D雙光子無掩模光刻技術(shù)和產(chǎn)品咨詢 歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司。

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借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù),,您可以實(shí)現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像,,適用于細(xì)胞研究和芯片實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用(lab-on-a-chip),。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細(xì)胞支架來研究細(xì)胞生長,、遷移和干細(xì)胞分化,。此外,3D微納加工技術(shù)還可以應(yīng)用在微創(chuàng)手術(shù)的生物醫(yī)學(xué)儀器,,包括植入物,,微針和微孔膜等制作。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手,,由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞,。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說,,在納米級、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上,可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版,。更多無掩模光刻系統(tǒng)的信息請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司,。重慶2PP無掩膜光刻無掩光刻

Nanoscribe于2018年推出了用于微加工和無掩模光刻的Photonic Professional GT2 3D打印機(jī),。重慶2GL無掩膜光刻微納光刻

由歐盟委員會(huì)及歐盟“地平線2020“計(jì)劃(Horizon2020)資助的HandheldOCT項(xiàng)目于2020年初正式啟動(dòng),。祝賀Nanoscribe成為該項(xiàng)目成員之一。這個(gè)由多所大學(xué),,研究機(jī)構(gòu)以及公司的科學(xué)家們和工程師們所組成的聯(lián)合項(xiàng)目致力于開發(fā)一種用于眼科檢查的便攜式可移動(dòng)成像設(shè)備?;诘统杀竞托⌒突攸c(diǎn)的集成光子芯片技術(shù),,該項(xiàng)目有望將光學(xué)相干斷層掃描(OCT)從局限的眼科臨床應(yīng)用帶入更廣的眼科護(hù)理移動(dòng)應(yīng)用中來。由維也納醫(yī)科大學(xué)牽頭的HandheldOCT研究項(xiàng)目旨在運(yùn)用成熟的光學(xué)相干斷層掃描成像技術(shù)(OCT),,來實(shí)現(xiàn)便攜式現(xiàn)場即時(shí)眼科護(hù)理檢查,。預(yù)計(jì)此款正在開發(fā)的具備先進(jìn)技術(shù)和成本效應(yīng)的便攜式集成光子芯片技術(shù)OCT成像設(shè)備將用于診斷和監(jiān)測多種眼部疾病,例如,,老年性黃斑病變,、糖尿病性視網(wǎng)膜病變以及青光眼,,這些疾病在世界范圍內(nèi)都是導(dǎo)致失明的主要因素。該便攜式設(shè)備將會(huì)在維也納總醫(yī)院進(jìn)行測試以驗(yàn)證其在眼科診斷的效果,。重慶2GL無掩膜光刻微納光刻

納糯三維科技(上海)有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加楓路26號108室,,是一家作為Nanoscribe在中國全資子公司,,納糯三維科技(上海)有限公司可進(jìn)行三維打印科技領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)開發(fā),技術(shù)轉(zhuǎn)讓,,技術(shù)咨詢,,技術(shù)服務(wù),,三維打印設(shè)備,,光電機(jī)一體化設(shè)備和相關(guān)零配件的批發(fā),進(jìn)出口,,傭金代理,,并提供相關(guān)配套服務(wù),貿(mào)易信息咨詢,,企業(yè)管理咨詢,。的公司。公司自創(chuàng)立以來,,投身于PPGT2,,Quantum X系列,,雙光子微納激光直寫系統(tǒng),,雙光子微納光刻系統(tǒng),是儀器儀表的主力軍,。納糯三維不斷開拓創(chuàng)新,,追求出色,,以技術(shù)為先導(dǎo),,以產(chǎn)品為平臺,,以應(yīng)用為重點(diǎn),以服務(wù)為保證,,不斷為客戶創(chuàng)造更高價(jià)值,,提供更優(yōu)服務(wù)。納糯三維始終關(guān)注儀器儀表行業(yè),。滿足市場需求,,提高產(chǎn)品價(jià)值,,是我們前行的力量。