Quantum X shape在3D微納加工領域非常出色的精度,，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL ®)。全新的Quantum X shape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細處理網(wǎng)格,，從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制,。此外，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào),，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構的制作上可達到超光滑,，同時保持高精度的形狀控制。它不只是應用于生物醫(yī)學,、微光學,、MEMS、微流道,、表面工程學及其他很多領域中器件的快速原型制作的理想工具,，同時也成為基于晶圓的小結(jié)構單元的批量生產(chǎn)的簡易工具。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實用性。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監(jiān)控及多用戶的使用配置,，實現(xiàn)推動工業(yè)標準化及基于晶圓批量效率生產(chǎn),。更多灰度光刻知識，歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。廣東2GL灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構、自由設計的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構,。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設計的靈活性和操控的簡潔性,，以及非常廣的材料-基板選擇。因此,，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備,，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明,。湖南灰度光刻3D微納加工更多雙光子灰度光刻系統(tǒng)的內(nèi)容，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。

    Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的子公司,，開發(fā)并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機以及光敏材料和工藝解決方案,。其口號是：“我們讓小物件變得重要”,，公司創(chuàng)始人開發(fā)出一種技術，對智能手機,、手持設備和醫(yī)療技術領域至關重要的3D打印產(chǎn)品,。通過基于雙光子聚合（2PP）的3D打印機投入市場，他們已經(jīng)為全球的大學和新興行業(yè)提供了新的解決方案,，致力于3D微打印生命科學研究以及納米級3D打印光學,，甚至利用他們的技術來開發(fā)創(chuàng)新的設備，例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸,。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術,，克服了這些限制,，提供了前所未有的設計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作,?！凹{米標記系統(tǒng)基于雙光子吸收,，這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過程。為了使用雙光子工藝制造3D物體,，使用含有單體和雙光子活性光引發(fā)劑的凝膠作為原料,。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強度非常高,。

Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型,。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器,。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行,。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時間,。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,，可制作單個光學元件,、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡,。基于雙光子灰度光刻技術 (2GL ?)的Quantum X打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作,。

Nanoscribe稱QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器,。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。Nanoscribe中國分公司-納糯三維為您介紹Quantum X 雙光子灰度光刻微納打印設備應用的領域,。廣東進口灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X適用于制造微光學衍射以及折射元件,。廣東2GL灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

我們往往需要通過灰度光刻的方式來實現(xiàn)微透鏡陣列結(jié)構，灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透,，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構（如下圖4所示，八邊金字塔結(jié)構）,。微透鏡陣列也是類似,，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)。需要注意,，灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多,，約為Ra=100nm，前兩者可以會的Ra=50nm的球面,。微納3D打印這種方法與灰度光刻有點類似,，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合,，利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構,，不僅只是微透鏡陣列結(jié)構（如下圖5所示），該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設計獲得想要的結(jié)構,，后續(xù)可以通過LIGA工藝獲得金屬模具,，并通過納米壓印技術進行復制。廣東2GL灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

納糯三維科技（上海）有限公司致力于儀器儀表,，是一家生產(chǎn)型的公司,。公司業(yè)務分為PPGT2，Quantum X系列,，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng)等，目前不斷進行創(chuàng)新和服務改進,，為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務,。公司秉持誠信為本的經(jīng)營理念，在儀器儀表深耕多年,，以技術為先導,，以自主產(chǎn)品為重點，發(fā)揮人才優(yōu)勢,，打造儀器儀表良好品牌,。納糯三維立足于全國市場，依托強大的研發(fā)實力,，融合前沿的技術理念,，飛快響應客戶的變化需求。