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3D打印雙光子聚合三維光刻

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-03-17

Nanoscribe稱,,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),,目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),,并通過(guò)交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目,,打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。該軟件有程序向?qū)В稍谝婚_(kāi)始就指導(dǎo)設(shè)計(jì)師和工程師完成打印作業(yè),,并能夠接受任意光學(xué)設(shè)計(jì)的灰度圖像,。例如,可接受高達(dá)32位分辨率的BMP,、PNG或TIFF文件,,以便使用Nanoscribe的QuantumX進(jìn)行直接制造。在雙光子灰度光刻工藝中,,激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實(shí)現(xiàn)同步進(jìn)行,,以便對(duì)每個(gè)掃描平面進(jìn)行全體素大小控制。Nanoscribe稱,,QuantumX在每個(gè)掃描區(qū)域內(nèi)可產(chǎn)生簡(jiǎn)單和復(fù)雜的光學(xué)形狀,,具有可變的特征高度。離散和精確的步驟,,以及本質(zhì)上為準(zhǔn)連續(xù)的形貌,,可以在一個(gè)步驟中完成打印,而不需要多步光刻或多塊掩模制造,??茖W(xué)家們運(yùn)用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)打印微型通道的聚合物母版,并結(jié)合軟光刻技術(shù)做后續(xù)復(fù)制工作,。3D打印雙光子聚合三維光刻

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Nanoscribe稱,,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),,目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。多層衍射光學(xué)元件(diffractiveopticalelement,,DOE)可以通過(guò)在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來(lái)完成,,從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示,,折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,,可制作單個(gè)光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列,,以及可以在直接和無(wú)掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),,并通過(guò)交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目,,打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。湖南3D打印雙光子聚合無(wú)掩光刻N(yùn)anoscribe中國(guó)分公司-納糯三維為您揭秘什么是飛秒激光雙光子聚合納米光刻。

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Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅),。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進(jìn)行直寫(xiě),,而是在孔型支架內(nèi)。通過(guò)調(diào)整直寫(xiě)激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,,從而影響打印材料的有效折射率,。采用全新SCRIBE技術(shù)(通過(guò)激光束曝光控制的亞表面折射率)可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí),對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過(guò)0.3,。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,,科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡,。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡(如圖示),。通過(guò)色散透鏡聚焦的光因波長(zhǎng)不同焦點(diǎn)位置也不盡相同。通過(guò)組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差,。在給出的例子中,,成像中的熒光強(qiáng)度和折射率高度相關(guān),同時(shí)將打印的雙透鏡中的每個(gè)單獨(dú)透鏡可視化,。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無(wú)掩模光刻技術(shù),,用于快速,精度非常高的微納加工,,可以輕松3D微納光學(xué)制作,。可以搭配不同的基板,,包括玻璃,,硅晶片,光子和微流控芯片等,,也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求,。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,?;陔p光子聚合原理的激光直寫(xiě)技術(shù),可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作,;也適合科學(xué)家和工程師們?cè)跓o(wú)需額外成本增加的前提下,,實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。微米級(jí)增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學(xué)設(shè)計(jì)的上限,,借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能,,可以輕松實(shí)現(xiàn)球形,非球形,,自由曲面或復(fù)雜3D微納光學(xué)元件制作,,并具備出色的光學(xué)質(zhì)量表面和形狀精度。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維為您揭曉飛秒激光雙光子聚合微納加工系統(tǒng)及方法,。

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性,,可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,例如用光敏聚合物,,納米顆粒復(fù)合物,,或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人,并可以選擇添加金屬涂層,。此外,,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS),。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件(DOE),,并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。由于需要多次光刻,,刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝,,衍射光學(xué)元件(DOE)的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長(zhǎng)且成本高。而利用增材制造即可簡(jiǎn)單一步實(shí)現(xiàn)多級(jí)衍射光學(xué)元件,,可以直接作為原型使用,,也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司帶您一起揭秘什么是雙光子聚合技術(shù),。內(nèi)蒙古亞微米級(jí)雙光子聚合無(wú)掩光刻

Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維邀您一起探討國(guó)內(nèi)在雙光子聚合技術(shù)領(lǐng)域的未來(lái)發(fā)展,。3D打印雙光子聚合三維光刻

QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®),。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格,,從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào),,該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑,,同時(shí)保持高精度的形狀控制。QuantumXshape不只是應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué),、微光學(xué),、MEMS、微流道,、表面工程學(xué)及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具,,同時(shí)也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡(jiǎn)易工具。通過(guò)系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來(lái)很大程度提高實(shí)用性,。通過(guò)系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來(lái)進(jìn)行打印文件的遠(yuǎn)程監(jiān)控及多用戶的使用配置,,實(shí)現(xiàn)推動(dòng)工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化及基于晶圓批量效率生產(chǎn),。3D打印雙光子聚合三維光刻