Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實現(xiàn)微機械元件的制作,，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物,，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,，并可以選擇添加金屬涂層。此外,，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE）,，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級,。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝,，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高,。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學元件，可以直接作為原型使用,，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具,。想要了解無掩模光刻系統(tǒng)可以咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。天津高精度無掩膜光刻無掩光刻

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,，包括仿生表面,，微光學元件,，機械超材料和3D細胞支架等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,，從而達到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質(zhì)量表面,。河南工業(yè)級無掩膜光刻Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,，適用于制造微光學衍射以及折射元件。

雙光子聚合（2PP）是一種可實現(xiàn)比較高精度和完全設(shè)計自由度的增材制造方法,。而作為同類比較好的3D微加工系統(tǒng)QuantumXshape具有下列優(yōu)異性能：首先,，在所有空間方向上低至100納米的特征尺寸控制，適用于納米和微米級打??；其次制作高達50毫米的目標結(jié)構(gòu)，適用于中尺度打印,。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作,。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺,。QuantumXshape具有先進的激光焦點軌跡控制,，可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度，并以1MHz調(diào)制速率動態(tài)調(diào)整激光功率,。QuantumXshape帶有獨特的自動界面查找功能,，可以以低至30納米的精度檢測基板表面。這種在比較高掃描速度下的納米級精度體現(xiàn),，再加上自校準程序,，可在特別短的時間內(nèi)實現(xiàn)可靠和準確的打印，為3D微納加工樹立了新榜樣,。這些優(yōu)異的性能使QuantumXshape成為快速原型制作和應(yīng)用于微納光學,、微流體、材料表面工程,、MEMS等其他領(lǐng)域中晶圓級規(guī)模生產(chǎn)的理想工具。

高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件,。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計自由度和光學質(zhì)量的特點,，您可以進行幾乎任何形狀，包括球形,，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計,。另外，Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計自由度,，可以在各種預先構(gòu)圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作,。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),，可以按設(shè)計需要精確地集成復雜的微納結(jié)構(gòu)。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,，包括仿生表面,，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等,。更多無掩模光刻技術(shù)的相關(guān)信息請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。

QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®),。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細處理網(wǎng)格,，從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào),，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達到超光滑，同時保持高精度的形狀控制,。QuantumXshape不只是應(yīng)用于生物醫(yī)學,、微光學、MEMS,、微流道,、表面工程學及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具，同時也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡易工具,。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實用性,。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監(jiān)控及多用戶的使用配置，實現(xiàn)推動工業(yè)標準化及基于晶圓批量效率生產(chǎn),。什么是Quantum X 新型超高速無掩模光刻系統(tǒng),？請咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。上海無掩膜光刻技術(shù)

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Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型,。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器,。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。天津高精度無掩膜光刻無掩光刻