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德國微納米NanoscribeQX

來源: 發(fā)布時間:2022-05-20

借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計自由度和高精度特點(diǎn),,您可以制作具有微米級高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng),。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設(shè)計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作,。2GL通過創(chuàng)新的設(shè)計重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造,。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能,以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性,。Photonic Professional GT2是目前全球精度達(dá)到上限的微納3D打印機(jī),。該設(shè)備將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點(diǎn)與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合,適合用于納米,、微米,、中尺度以及厘米級別的快速成型。Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)可適用于科研和工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用,。我們的客戶成功將微納光學(xué)結(jié)構(gòu)直接打印到光子組件上從而實(shí)現(xiàn)從邊緣到表面的全方面耦合?,F(xiàn)在Nanoscribe客戶遍布全球30個國家,超過1500名用戶,。德國微納米NanoscribeQX

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因Nanoscribe公司的加入使得CELLINK 集團(tuán)成為世界上頭一家擁有雙光子聚合 (2PP) 增材制造能力的生物科技公司,。 Nanoscribe公司 的 2PP 技術(shù)能夠在亞細(xì)胞尺度上對血管微環(huán)境進(jìn)行生物打印,適用于細(xì)胞研究和芯片實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用,。該技術(shù)未來也將助力集團(tuán)的相關(guān)產(chǎn)品線開發(fā),,用于制造植入體、微針,、微孔膜和組學(xué)應(yīng)用耗材等,。 CELLINK集團(tuán)的前列宏觀結(jié)構(gòu)生物打印技術(shù)與 Nanoscribe 公司的微觀結(jié)構(gòu)生物打印技術(shù)相結(jié)合做到了強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)手的協(xié)作效應(yīng),可以實(shí)現(xiàn)更逼真的組織結(jié)構(gòu),,例如血管化和細(xì)胞支持體等,。 2PP 技術(shù)將實(shí)現(xiàn)CELLINK集團(tuán)所有三個業(yè)務(wù)的跨領(lǐng)域應(yīng)用,并增強(qiáng)集團(tuán)的耗材產(chǎn)品開發(fā)和供應(yīng),。 “借助 Nanoscribe 特別先進(jìn)的 2PP 技術(shù),,我們可以實(shí)現(xiàn)擴(kuò)大補(bǔ)充我們的產(chǎn)品組合,為我們的客戶提供更加廣的產(chǎn)品?!?CELLINK 首席執(zhí)行官 Erik Gatenholm 強(qiáng)調(diào)說,,“為了改善全球人民的健康狀況,我們正在以此為目標(biāo)導(dǎo)向,,不斷強(qiáng)大公司擴(kuò)大規(guī)模,,持續(xù)開發(fā)研究開創(chuàng)性生物融合技術(shù)?!钡聡⒓{米NanoscribeQXQuantum X新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重點(diǎn)是Nanoscribe獨(dú)有的雙光子灰度光刻技術(shù),。

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Nanoscribe的QuantumX形狀與其他一些利用2PP技術(shù)的打印機(jī)競爭,例如UpNano的NanoOne高分辨率微增材制造(μAM)解決方案,;LithoProf3D,,一種由另一家德國公司MultiphotonOptics制造的先進(jìn)微型激光光刻3D打印機(jī),以及Microlight3D基于2PP的交鑰匙3D打印機(jī)Altraspin,。作為市場上的新選擇之一,,QuantumXshape承諾采用“非常先進(jìn)的微加工工藝”,,可實(shí)現(xiàn)高精度增材制造,,在其中可以比較好平衡精度和速度,以實(shí)現(xiàn)特別高水平的生產(chǎn)力和質(zhì)量,。Nanoscribe認(rèn)為該打印機(jī)能夠產(chǎn)生“非常出色的輸出”,,該打印機(jī)依賴于基于移動鏡技術(shù)的振鏡(Galvo)系統(tǒng)和基于堅固花崗巖的平臺上的智能電子系統(tǒng)控制單元,并結(jié)合了行業(yè)-級脈沖飛秒激光器,。QuantumXshape可以使用Nanoscribe專有的聚合物和二氧化硅材料打印3D微型部件,,并且對第三方或定制材料開放。此外,,它可以通過設(shè)備的集成觸摸屏和遠(yuǎn)程訪問軟件nanoConnectX進(jìn)行控制,,允許遠(yuǎn)程控制連接打印機(jī)的打印作業(yè),將實(shí)驗(yàn)室的準(zhǔn)備時間減少到限度低值,,并在共享系統(tǒng)時簡化團(tuán)隊協(xié)作,。

    對于光纖上打印的SERS探針,研究人員必須克服幾個制造上的挑戰(zhàn),。首先,,他們設(shè)計了一個定制的光纖支架,可以在光纖的切面上打印,。然后,,打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊,以激發(fā)制造的拉曼熱點(diǎn),。剩下的一個挑戰(zhàn),,特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu),是對可能傾斜的基材表面的補(bǔ)償。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低,。為了推動光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展,,例如光纖SERS探頭,Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign,。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正,,新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案,并為進(jìn)一步改進(jìn)和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ),。 更多有關(guān)3D打印的咨詢,,歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

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Nanoscribe 公司推出針對微光學(xué)元件(如微透鏡,、棱鏡或復(fù)雜自由曲面光學(xué)器件)具有特殊性能的新型打印材料,,IP-n162光刻膠。全新光敏樹脂材料具有高折射率,,高色散和低阿貝數(shù)的特性,,這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學(xué)元件設(shè)計尤為重要,尤其是在沒有旋轉(zhuǎn)對稱性和復(fù)合三維光學(xué)系統(tǒng)的情況下,。由于在紅外區(qū)域吸收率不高,,因此光敏樹脂成為了紅外微光學(xué)的優(yōu)先,同時也是光通訊,、量子技術(shù)和光子封裝等需要低吸收損耗應(yīng)用的相當(dāng)好的選擇,。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術(shù)的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實(shí)現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學(xué)設(shè)計,,并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學(xué)提升到一個新的高度,。由于其光學(xué)特性,高折射率聚合物可促進(jìn)許多運(yùn)用突破性技術(shù)的各種應(yīng)用,,例如光電應(yīng)用中,,他們可以增加顯示設(shè)備、相機(jī)或投影儀鏡頭的視覺特性,。此外,,這些材料在3D微納加工技術(shù)應(yīng)用下可制作更高階更復(fù)雜更小尺寸的3D微光學(xué)元件。例如圖示中可應(yīng)用于微型成像系統(tǒng),,內(nèi)窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡,。德國Nanoscribe公司的Photonic Professional GT系列是目前世界公認(rèn)的打印精度處于頭一位的3D打印機(jī)。德國微納米NanoscribeQX

Nanoscribe 在2017年底在上海成立了中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司,。德國微納米NanoscribeQX

科學(xué)家們基于Nanoscribe的雙光子聚合 技術(shù)(2PP) ,,發(fā)明了GRIN 光學(xué)微納制造工藝。這種新的制造技術(shù)實(shí)現(xiàn)了簡單一步操作即可同時控制幾何形狀和折射率來打印自由曲面光學(xué)元件,。憑借這種全新的制造工藝,,科學(xué)家們完成了令人印象深刻的展示制作,,打印了世界上特別小的可聚焦可見光的龍勃透鏡(15?μm 直徑)。相似于人類眼睛晶狀體的梯度,,這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加,,使其具有獨(dú)特的聚光特性。Nanoscribe的Photonic Professional打印系統(tǒng)可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅),。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進(jìn)行直寫,,而是在孔型支架內(nèi)。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,,從而影響打印材料的有效折射率,。采用全新SCRIBE技術(shù)(通過激光束曝光控制的亞表面折射率)可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時,對折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3,。德國微納米NanoscribeQX