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江蘇高精度雙光子聚合3D打印

來源: 發(fā)布時間:2022-07-19

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機型,。基于雙光子聚合技術(shù),,該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機型,,同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)模化生產(chǎn),。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細處理網(wǎng)格,,從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制,。此外,受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào),,該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達到超光滑,,同時保持高精度的形狀控制。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討國內(nèi)在雙光子聚合技術(shù)的發(fā)展趨勢,。江蘇高精度雙光子聚合3D打印

江蘇高精度雙光子聚合3D打印,雙光子聚合

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅),。突出特點是不再像常規(guī)的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進行直寫,而是在孔型支架內(nèi),。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,,從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)(通過激光束曝光控制的亞表面折射率)可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時,,對折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3,。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,,例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡,。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡(如圖示),。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差,。在給出的例子中,,成像中的熒光強度和折射率高度相關(guān),同時將打印的雙透鏡中的每個單獨透鏡可視化,。德國亞微米級雙光子聚合技術(shù)3D打印雙光子聚合技術(shù)運用在哪些地方你了解嗎,?歡迎咨詢納糯三維科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe稱,,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器,。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,,物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學(xué)元件(diffractiveopticalelement,,DOE)可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,,折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,,可制作單個光學(xué)元件、填充因子高達100%的陣列,,以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),,并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項目,打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。

Nanoscribe公司成立于2007年,,總部位于德國卡爾斯魯厄,,秉持著卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的技術(shù)背景的德國卡爾蔡司公司的支持,,經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長,已然成為微納米生產(chǎn)的帶領(lǐng)者,,一直致力于推動諸如力學(xué)超材料,,微納機器人,再生醫(yī)學(xué)工程,,微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,,并提供優(yōu)化制程方案,。如今,Nanoscribe客戶遍布全球30個國家,,超過1500名用戶正在使用Nanoscribe3D打印系統(tǒng),。這些大學(xué)包含哈佛大學(xué)、加州理工學(xué)院,、牛津大學(xué),、倫敦帝國理工學(xué)院和蘇黎世聯(lián)邦理工學(xué)院等等。為了拓展并加強中國及亞太地區(qū)的銷售推廣和售后服務(wù)范圍,,Nanoscribe于2017年底在上海成立了獨資子公司-納糯三維科技(上海)有限公司,。自Nanoscribe進軍中國市場以來,已有20多家出名大學(xué)和研究所成為了Nanoscribe用戶,,其中包括多所C9前列高校聯(lián)盟成員,,例如:北京大學(xué),復(fù)旦大學(xué),,南京大學(xué)等等,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維邀您一起探討什么是雙光子聚合微納加工系統(tǒng)。

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Nanoscribe稱,,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),,并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項目,打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。該軟件有程序向?qū)?,可在一開始就指導(dǎo)設(shè)計師和工程師完成打印作業(yè),并能夠接受任意光學(xué)設(shè)計的灰度圖像,。例如,,可接受高達32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件,,以便使用Nanoscribe的QuantumX進行直接制造,。在雙光子灰度光刻工藝中,激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實現(xiàn)同步進行,,以便對每個掃描平面進行全體素大小控制,。Nanoscribe稱,QuantumX在每個掃描區(qū)域內(nèi)可產(chǎn)生簡單和復(fù)雜的光學(xué)形狀,,具有可變的特征高度,。離散和精確的步驟,,以及本質(zhì)上為準連續(xù)的形貌,可以在一個步驟中完成打印,,而不需要多步光刻或多塊掩模制造,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維為您揭曉飛秒激光雙光子聚合微納加工系統(tǒng)及方法。江蘇高精度雙光子聚合3D打印

想要了解更多雙光子聚合加工的應(yīng)用領(lǐng)域,,請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司,。江蘇高精度雙光子聚合3D打印

Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),,目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。多層衍射光學(xué)元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,,從而減少多層微制造所需的打印時間,。Nanoscribe表示,折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,,可制作單個光學(xué)元件,、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,,如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項目,,打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。江蘇高精度雙光子聚合3D打印