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河南德國(guó)無(wú)掩膜光刻無(wú)掩光刻

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-07-25

為了探索待測(cè)物微納米表面形貌,,探針掃描成像技術(shù)一直是理論研究和實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目。然而,,由于掃描探針受限于傳統(tǒng)加工工藝,,在組成材料和幾何構(gòu)造等方面在過(guò)去幾十年中沒(méi)有明顯的研究進(jìn)展,這也限制了基于力傳感反饋的測(cè)量性能,。如何減少甚至避免因此帶來(lái)的柔軟樣品表面的形變,,以實(shí)現(xiàn)對(duì)原始表面的精確成像一直是一個(gè)重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng),,雙光子聚合技術(shù)是實(shí)現(xiàn)微納尺度3D打印有效的技術(shù),,其打印物體的特別小特征尺寸可達(dá)亞微米級(jí),,并可達(dá)到光學(xué)質(zhì)量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格,、木堆型結(jié)構(gòu),、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓,、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性,,以及普遍的材料-基板選擇。因此,,它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,,適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。無(wú)掩膜光刻技術(shù)運(yùn)用領(lǐng)域廣,,分辨高,,如需了解更多請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維。河南德國(guó)無(wú)掩膜光刻無(wú)掩光刻

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由歐盟委員會(huì)及歐盟“地平線2020“計(jì)劃(Horizon2020)資助的HandheldOCT項(xiàng)目于2020年初正式啟動(dòng),。祝賀Nanoscribe成為該項(xiàng)目成員之一,。這個(gè)由多所大學(xué),研究機(jī)構(gòu)以及公司的科學(xué)家們和工程師們所組成的聯(lián)合項(xiàng)目致力于開(kāi)發(fā)一種用于眼科檢查的便攜式可移動(dòng)成像設(shè)備,?;诘统杀竞托⌒突攸c(diǎn)的集成光子芯片技術(shù),該項(xiàng)目有望將光學(xué)相干斷層掃描(OCT)從局限的眼科臨床應(yīng)用帶入更廣的眼科護(hù)理移動(dòng)應(yīng)用中來(lái),。由維也納醫(yī)科大學(xué)牽頭的HandheldOCT研究項(xiàng)目旨在運(yùn)用成熟的光學(xué)相干斷層掃描成像技術(shù)(OCT),,來(lái)實(shí)現(xiàn)便攜式現(xiàn)場(chǎng)即時(shí)眼科護(hù)理檢查。預(yù)計(jì)此款正在開(kāi)發(fā)的具備先進(jìn)技術(shù)和成本效應(yīng)的便攜式集成光子芯片技術(shù)OCT成像設(shè)備將用于診斷和監(jiān)測(cè)多種眼部疾病,,例如,,老年性黃斑病變、糖尿病性視網(wǎng)膜病變以及青光眼,,這些疾病在世界范圍內(nèi)都是導(dǎo)致失明的主要因素,。該便攜式設(shè)備將會(huì)在維也納總醫(yī)院進(jìn)行測(cè)試以驗(yàn)證其在眼科診斷的效果。河南高精度無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。

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Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**,,一直致力于開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)和無(wú)掩模光刻系統(tǒng),,以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,,有超過(guò)2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案,。作為基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的微納加工領(lǐng)域市場(chǎng)帶領(lǐng)者,,Nanoscribe在全球30多個(gè)國(guó)家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體?;?PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí),,Nanoscribe為頂端科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強(qiáng)大的技術(shù)支持,并推動(dòng)生物打印,、微流體,、微納光學(xué)、微機(jī)械,、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展,。“我們非常期待加入CELLINK集團(tuán),,共同探索雙光子聚合技術(shù)在未來(lái)所帶來(lái)的更大機(jī)遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說(shuō)道,。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無(wú)掩模光刻技術(shù),用于快速,,精度非常高的微納加工,,可以輕松3D微納光學(xué)制作??梢源钆洳煌幕?,包括玻璃,硅晶片,,光子和微流控芯片等,,也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求,。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,,傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?;陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù),,可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作;也適合科學(xué)家和工程師們?cè)跓o(wú)需額外成本增加的前提下,,實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作,。微米級(jí)增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學(xué)設(shè)計(jì)的上限,借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能,,可以輕松實(shí)現(xiàn)球形,,非球形,自由曲面或復(fù)雜3D微納光學(xué)元件制作,,并具備出色的光學(xué)質(zhì)量表面和形狀精度,。Nanoscribe的Quantum X無(wú)掩模光刻系統(tǒng)在LASER World of Photonics展會(huì)上榮獲創(chuàng)新獎(jiǎng)。

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QuantumXshape是一款真正意義上的全能機(jī)型?;陔p光子聚合技術(shù),,該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機(jī)型,同時(shí)適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)?;a(chǎn),。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®),。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格,,從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,,受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào),,該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑,同時(shí)保持高精度的形狀控制,。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司帶您了解用Nanoscribe無(wú)掩模光刻系統(tǒng)所制作的產(chǎn)品,。廣東雙光子聚合無(wú)掩膜光刻三維光刻

全新Quantum X shape是Nanoscribe工業(yè)級(jí)無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)Quantum X產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備。河南德國(guó)無(wú)掩膜光刻無(wú)掩光刻

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格,、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性,,以及比較廣的材料-基板選擇。因此,,它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,,適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。Nanoscribe的3D無(wú)掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國(guó)家的前沿研究中,,超過(guò)1,000個(gè)開(kāi)創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力特別好的證明,。河南德國(guó)無(wú)掩膜光刻無(wú)掩光刻