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江蘇進口無掩膜光刻技術

來源: 發(fā)布時間:2022-08-18

Nanoscribe公司推出針對微光學元件(如微透鏡、棱鏡或復雜自由曲面光學器件)具有特殊性能的新型打印材料,,IP-n162光刻膠,。全新光敏樹脂材料具有高折射率,高色散和低阿貝數(shù)的特性,,這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學元件設計尤為重要,,尤其是在沒有旋轉對稱性和復合三維光學系統(tǒng)的情況下。由于在紅外區(qū)域吸收率不高,,因此光敏樹脂成為了紅外微光學的優(yōu)先,,同時也是光通訊、量子技術和光子封裝等需要低吸收損耗應用的相當好的選擇,。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術的3D打印量身定制的打印材料,。高折射率材料可實現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學設計,并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學提升到一個新的高度,。由于其光學特性,,高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術的各種應用,例如光電應用中,,他們可以增加顯示設備,、相機或投影儀鏡頭的視覺特性,。此外,這些材料在3D微納加工技術應用下可制作更高階更復雜更小尺寸的3D微光學元件,。例如圖示中可應用于微型成像系統(tǒng),,內窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討雙光子無掩模光刻技術,。江蘇進口無掩膜光刻技術

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為了進一步提升技術先進性,,科研人員又在新材料研發(fā)的過程中發(fā)現(xiàn)了巨大的潛力。一方面,,利用SCRIBE新技術的情況下,高折射率的光刻膠可進一步拓展對打印結構的光學性能的調節(jié)度,。另一方面,,低自發(fā)熒光的可打印材料非常適用于生物成像領域。Nanoscribe公司的IP系列光刻膠,,例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自發(fā)熒光的IP-Visio已經(jīng)為接下來的研究提供了進一步的可能,。為了證明SCRIBE新技術的巨大潛力,科研人員打印了眾多令人矚目的光學組件,,例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡,。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡(如圖示)。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同,。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差,。在給出的例子中,成像中的熒光強度和折射率高度相關,,同時將打印的雙透鏡中的每個單獨透鏡可視化,。廣東2PP無掩膜光刻無掩膜激光直寫Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討無掩膜光刻技術。

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格,、木堆型結構,、自由設計的圖案、順滑的輪廓,、銳利的邊緣,、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,,以及比較廣的材料-基板選擇,。因此,它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備,,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室,。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明,。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程,,實現(xiàn)了各種不同的打印方案,。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結構制作,。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,,突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施,。

Nanoscribe稱,,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),,目前該技術正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型,。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器,。為了簡化硬件配置之間的轉換,物鏡和樣品夾持器識別會自動運行,。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,,DOE)可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間,。Nanoscribe表示,,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件,、填充因子高達100%的陣列,,以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),,并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目,,打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。Nanoscribe的3D無掩模光刻機已經(jīng)運用在30多個國家的前沿研究中。

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高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件,。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點,,您可以進行幾乎任何形狀,包括球形,,非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設計,。另外,Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,,可以在各種預先構圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作,。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構,。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,,包括仿生表面,,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等,。了解更多無掩膜光刻的技術和產(chǎn)品信息,,請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。廣東超高速無掩膜光刻設備

雙光子無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X作為硬件載體框架,,計劃建立一個先進的平臺,,成為下一代光子封裝技術的榜樣。江蘇進口無掩膜光刻技術

中國儀器儀表行業(yè)目前正處于高速發(fā)展階段,,需要與之相適應的作為Nanoscribe在中國全資子公司,納糯三維科技(上海)有限公司可進行三維打印科技領域內的技術開發(fā),,技術轉讓,,技術咨詢,技術服務,,三維打印設備,,光電機一體化設備和相關零配件的批發(fā),進出口,,傭金代理,,并提供相關配套服務,貿易信息咨詢,,企業(yè)管理咨詢,。產(chǎn)品營銷模式相互配合。由于在重大工程,、工業(yè)裝備和質量保證,、基礎科研中,儀器儀表都是必不可少的基礎技術和裝備重點,,除傳統(tǒng)領域的需求外,,新興的智能制造、離散自動化,、生命科學,、新能源、海洋工程,、軌道交通等領域也會產(chǎn)生巨大需求,。盡管在我國相關政策的引導和支持下,,我國儀器儀表行業(yè)得到了飛速發(fā)展。但是從貿易整體上看,,我國的儀器儀表行業(yè)還是落后于國際水平的,。重點技術缺乏、高精尖產(chǎn)品嚴重依賴進口,、儀器儀表產(chǎn)品同質化嚴重,、生產(chǎn)工藝落后、研發(fā)能力弱,、精度不高等問題凸顯,,為儀器儀表行業(yè)的發(fā)展帶來了嚴峻的挑戰(zhàn)。在國民經(jīng)濟運行中,,作為Nanoscribe在中國全資子公司,,納糯三維科技(上海)有限公司可進行三維打印科技領域內的技術開發(fā),技術轉讓,,技術咨詢,,技術服務,三維打印設備,,光電機一體化設備和相關零配件的批發(fā),,進出口,傭金代理,,并提供相關配套服務,,貿易信息咨詢,企業(yè)管理咨詢,。等設備是提高勞動生產(chǎn)率的倍增器,,對國民經(jīng)濟有著巨大的作用和影響力。美國商業(yè)部地區(qū)技術和標準研究院(NIST)提出的報告稱:美國90年代儀器儀表工業(yè)產(chǎn)值只占工業(yè)總產(chǎn)值的4%,,但它對國民經(jīng)濟(GNP)的影響面卻達到66%,。江蘇進口無掩膜光刻技術