在雙光子灰度光刻工藝中,，激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實(shí)現(xiàn)同步進(jìn)行,，以便對每個掃描平面進(jìn)行全體素大小控制。Nanoscribe稱,，QuantumX在每個掃描區(qū)域內(nèi)可產(chǎn)生簡單和復(fù)雜的光學(xué)形狀，具有可變的特征高度,。離散和精確的步驟,，以及本質(zhì)上為準(zhǔn)連續(xù)的形貌，可以在一個步驟中完成打印,，而不需要多步光刻或多塊掩模制造,。Quantum X支持多種類型襯底，包括透明和不透明的襯底,，可用于比較大尺寸為6英寸的晶圓,。Nanoscribe展示了其公司易于操作的光刻機(jī),，允許高縱橫比,，支持高結(jié)構(gòu)，無需掩模,、旋涂和預(yù)烘烤或后烘烤,。如需了解更多全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)Quantum X的內(nèi)容，請咨詢Nanoscribe中國分公司納糯三維,。山東灰度光刻3D微納加工

作為歐盟光子計(jì)算項(xiàng)目PHOENICS（2020Horizont歐盟地平線科研項(xiàng)目）的成員,，Nanoscribe攜手德國明斯特大學(xué)，與全球光子計(jì)算領(lǐng)域的**一起,，展開了為期四年的科研項(xiàng)目,，以實(shí)現(xiàn)超高寬帶的高能效千兆計(jì)算處理能力，用于新一代人工智能（AI）應(yīng)用的計(jì)算平臺,。Nanoscribe將為光子封裝技術(shù)開發(fā)新的硬件和軟件解決方案,。各種不同光子平臺都有著不同類型的光子耦合接口，而這正是光子封裝系統(tǒng)工業(yè)化的主要困難和挑戰(zhàn),。雙光子無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX作為硬件載體框架,，并計(jì)劃建立一個先進(jìn)的平臺，成為下一代光子封裝技術(shù)的行業(yè)榜樣,。山東灰度光刻3D微納加工Nanoscribe中國分公司-納糯三維帶您一起了解更多關(guān)于雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)的內(nèi)容,。

    Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX，Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,，包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為mm。

如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變,，以實(shí)現(xiàn)對原始表面的精確成像一直是一個重要議題,。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng)，雙光子聚合技術(shù)是實(shí)現(xiàn)微納尺度3D打印特別有效的技術(shù),，其打印物體的特別小特征尺寸可達(dá)亞微米級,，并可達(dá)到光學(xué)質(zhì)量表面的要求。Nanoscribe Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構(gòu),、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓,、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡潔性,，以及非常普遍的材料-基板選擇,。因此，它是一個理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,，適用于多用戶共享平臺和研究實(shí)驗(yàn)室,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘什么是雙光子灰度光刻系統(tǒng)。

    Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨(dú)jia專li的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）,。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代,，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具,。這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達(dá)到準(zhǔn)同步,，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下,，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面,。該技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結(jié)合，使其同時具備高速打印,，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),。從而滿足了復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。 關(guān)于雙光子聚合（2PP）和雙光子灰度光刻（2GL ?）的問題,，咨詢請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維,。浙江Nanoscribe灰度光刻3D微納加工

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現(xiàn)代光電設(shè)備在系統(tǒng)的復(fù)雜化與小型化得到了巨大改進(jìn),。一種應(yīng)用需求為使用定制的透鏡陣列來準(zhǔn)直和投射來自線性排列的邊緣發(fā)射激光二極管以形成復(fù)合激光線,。消費(fèi)類相機(jī)和投影模塊中的微型光學(xué)元件通常需要多個元件才能滿足性能規(guī)格。復(fù)雜的組裝對于需要組合成具有微米間距的線性陣列提出了額外的挑戰(zhàn),。塑料模型元件可以提供特殊的曲率需求,，盡管可用的折射率會導(dǎo)致高度彎曲的表面產(chǎn)生球面像差,，從而抑制準(zhǔn)直性能。硅灰度光刻技術(shù)可以在單個高折射率表面上實(shí)現(xiàn)復(fù)雜的透鏡形狀,，同時還可以在多個孔之間提供精確的對準(zhǔn)和間距,。多孔徑透鏡陣列設(shè)計(jì)用于沿快軸準(zhǔn)直激光，并在慢軸上提供±3°發(fā)散角,。陣列中的每個元素還包含偏心和衍射項(xiàng),，以偏置主光線角并與發(fā)散的光錐重疊以形成連續(xù)的激光線。山東灰度光刻3D微納加工