Nanoscribe公司成立于2007年,，總部位于德國卡爾斯魯厄,，秉持著卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景的德國卡爾蔡司公司的支持，經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長,，已然成為微納米生產(chǎn)的帶領(lǐng)者,，一直致力于推動諸如力學(xué)超材料，微納機器人,，再生醫(yī)學(xué)工程,，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案,。如今,，Nanoscribe客戶遍布全球30個國家，超過1500名用戶正在使用Nanoscribe3D打印系統(tǒng),。這些大學(xué)包含哈佛大學(xué),、加州理工學(xué)院、牛津大學(xué),、倫敦帝國理工學(xué)院和蘇黎世聯(lián)邦理工學(xué)院等等,。為了拓展并加強中國及亞太地區(qū)的銷售推廣和售后服務(wù)范圍，Nanoscribe于2017年底在上海成立了獨資子公司-納糯三維科技（上海）有限公司。自Nanoscribe進軍中國市場以來,，已有20多家出名大學(xué)和研究所成為了Nanoscribe用戶,，其中包括多所C9前列高校聯(lián)盟成員，例如：北京大學(xué),，復(fù)旦大學(xué),，南京大學(xué)等等。Nanoscribe 的Quantum X 無掩模光刻系統(tǒng)在多個領(lǐng)域運用較廣,。北京雙光子聚合無掩膜光刻工藝

Nanoscribe成立于2007年,，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領(lǐng)導(dǎo)地位,，并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求,。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化，以滿足不用客戶群的需求,。Nanoscribe作為一家納米,，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng),，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案,。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案,。遼寧微納米無掩膜光刻系統(tǒng)無掩膜光刻技術(shù)運用領(lǐng)域廣,，分辨高，如需了解更多請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維,。

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,，包括仿生表面，微光學(xué)元件,，機械超材料和3D細(xì)胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,，包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為mm,。

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**,，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng),，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案,。作為基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的微納加工領(lǐng)域市場帶領(lǐng)者，Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體,?；?PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識，Nanoscribe為頂端科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術(shù)支持,，并推動生物打印,、微流體、微納光學(xué),、微機械,、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展?！拔覀兎浅Ｆ诖尤隒ELLINK集團,，共同探索雙光子聚合技術(shù)在未來所帶來的更大機遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道。無掩膜光刻是一類不采用光刻掩膜版的光刻技術(shù),。

世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合，從而達(dá)到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制,，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面,。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點,，您可以進行幾乎任何形狀,，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計,。想要了解無掩膜光刻的特點和用途,，請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解用Nanoscribe無掩模光刻系統(tǒng)所制作的產(chǎn)品,。北京雙光子聚合無掩膜光刻工藝

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計自由度,，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),，可以按設(shè)計需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu),。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,，包括仿生表面，微光學(xué)元件,，機械超材料和3D細(xì)胞支架等,。北京雙光子聚合無掩膜光刻工藝

納糯三維科技（上海）有限公司是一家有著雄厚實力背景、信譽可靠,、勵精圖治,、展望未來、有夢想有目標(biāo),，有組織有體系的公司,，堅持于帶領(lǐng)員工在未來的道路上大放光明，攜手共畫藍(lán)圖,，在上海市等地區(qū)的儀器儀表行業(yè)中積累了大批忠誠的客戶粉絲源,，也收獲了良好的用戶口碑，為公司的發(fā)展奠定的良好的行業(yè)基礎(chǔ),，也希望未來公司能成為*****,，努力為行業(yè)領(lǐng)域的發(fā)展奉獻出自己的一份力量，我們相信精益求精的工作態(tài)度和不斷的完善創(chuàng)新理念以及自強不息,，斗志昂揚的的企業(yè)精神將**納糯三維科技供應(yīng)和您一起攜手步入輝煌,，共創(chuàng)佳績，一直以來,，公司貫徹執(zhí)行科學(xué)管理,、創(chuàng)新發(fā)展、誠實守信的方針,，員工精誠努力,，協(xié)同奮取，以品質(zhì),、服務(wù)來贏得市場,，我們一直在路上！