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湖北雙光子無掩膜光刻

來源: 發(fā)布時間:2022-09-15

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,,包括仿生表面,微光學(xué)元件,,機械超材料和3D細胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,,包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為mm,。Nanoscribe的3D無掩模光刻機已經(jīng)運用在30多個國家的前沿研究中。湖北雙光子無掩膜光刻

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全新的NanoscribeQuantumX系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細加工,。該無掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡,、微透鏡陣列和多級衍射光學(xué)元件的傳統(tǒng)制作工藝。全球較早雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)將具有出色性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動的雙光子聚合技術(shù)結(jié)合起來,。QuantumX提供了完全的設(shè)計自由度,、高速的打印效率、以及增材制造復(fù)雜結(jié)構(gòu)超光滑表面所需的高精度,??焖佟蚀_的增材制造工藝極大地縮短了設(shè)計迭代周期,,實現(xiàn)了低成本的微納加工,。憑借著獨有的產(chǎn)品優(yōu)勢Nanoscribe新發(fā)布的QuantumX在2019慕尼黑光博會展(LASERWorldofPhotonics2019)榮獲創(chuàng)新獎。上海工業(yè)級無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討無掩膜光刻系統(tǒng)未來的發(fā)展趨勢,。

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QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),,用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度,。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,,這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義??偠灾?,該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個科研領(lǐng)域和工業(yè)行業(yè)應(yīng)用的更多可能性(如生命科學(xué)、材料工程,、微流體,、微納光學(xué)、微機械和微電子機械系統(tǒng)(MEMS)等),。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備,,可實現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),很大程度推動了生命科學(xué),,微流體,,材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作,。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統(tǒng),,非常適合標準6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造,。

Nanoscribe成立于2007年,,是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司,。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領(lǐng)導(dǎo)地位,,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求,。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化,,以滿足不用客戶群的需求,。Nanoscribe作為一家納米,,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng),,以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案,。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案,。Nanoscribe 的Quantum X 無掩模光刻系統(tǒng)在多個領(lǐng)域運用較廣,。

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事實上,雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的,,其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授,。當時這個實驗室在nature上發(fā)表的一篇工作,也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動:《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices:Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是,,這篇文獻中還進行了另外一個更厲害的工作,,這兩位教授做出了當時世界上特別小的彈簧振子,其加工分辨率達到了120nm,超越了衍射極限,,同時還沒有使用諸如近場加工之類的解決方案,,而是單純的利用了材料的性質(zhì)。來自不來梅大學(xué)微型傳感器,、致動器和系統(tǒng)(IMSAS)研究所的科學(xué)家們發(fā)明了一種全新的微流道混合方式,,使用Nanoscribe公司的3D打印系統(tǒng),利用雙光子聚合原理(2PP)結(jié)合光刻技術(shù),,將自由形式3D微流控混合元件集成到預(yù)制的晶圓級二維微流道中,。該微型混合器可以處理高達100微升/分鐘的高流速樣品,適用于藥物和納米顆粒制造,,快速化學(xué)反應(yīng),、生物學(xué)測量和分析藥物等各種不同應(yīng)用。Photonic Professional GT在微納米3D打印,,以及無掩模光刻領(lǐng)域樹立了行業(yè)內(nèi)新的標竿,。重慶進口無掩膜光刻技術(shù)

Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性可以實現(xiàn)微機械元件的制作。湖北雙光子無掩膜光刻

德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術(shù)的帶領(lǐng)開發(fā)商,,也是BICO集團(前身為Cellin)的一部分,,推出了一款新型高精度3D打印機,用于制造微納米級的精細結(jié)構(gòu),。據(jù)該公司稱,,新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產(chǎn)品線,其晶圓處理能力使“3D微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”,。它有望顯著提高生命科學(xué),、材料工程、微流體,、微光學(xué),、微機械和微機電系統(tǒng)(MEMS)應(yīng)用的精度、輸出和可用性,?;陔p光子聚合(2PP),一種提供比較高精度和完整設(shè)計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù),,Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結(jié)構(gòu),,在面積達25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示,,該公司正在通過其新機器為科學(xué)和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設(shè)定新標準,。“雖然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術(shù)推動了平面微光學(xué)器件的超快速制造,,但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實驗室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn),?!焙彪p光子無掩膜光刻

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