QuantumXshape技術(shù)特點概要：快速原型制作，高精度,，高設(shè)計自由度,，簡易明了的工程流程；工業(yè)驗證的晶圓級批量生產(chǎn),；200個標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量,；通用及專門使用的打印材料；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度,。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義,。Nanoscribe于2018年推出了用于微加工和無掩模光刻的Photonic Professional GT2 3D打印機(jī)。湖南微納米無掩膜光刻無掩膜激光直寫

多年來,，Nanoscribe在微觀和納米領(lǐng)域一直非常出色,，并且參與了很多3D打印的項目，包括等離子體技術(shù),、微光學(xué)等工業(yè)微加工相關(guān)項目,。如今，Nanoscribe正在與美因茲大學(xué)和帕德博恩大學(xué)在內(nèi)的其他行業(yè)帶領(lǐng)機(jī)構(gòu)一起開發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器,。該團(tuán)隊的項目為期三年,，名為Miliquant，由德國聯(lián)邦教育和研究部（簡稱BMBF）提供資助,。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件,，將用于量子技術(shù)創(chuàng)新，并可以應(yīng)用在醫(yī)療診斷,、自動駕駛和細(xì)胞紅外顯微鏡成像之中,。研發(fā)團(tuán)隊將開展多項實驗，開發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統(tǒng),，這就需要復(fù)雜的研發(fā)工作,，還需要開發(fā)可靠的組件，以及組裝和制造的新方法,。浙江德國無掩膜光刻技術(shù)3D打印客戶使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細(xì)胞支架來研究細(xì)胞生長,、遷移和干細(xì)胞分化,。

Nanoscribe公司推出針對微光學(xué)元件（如微透鏡、棱鏡或復(fù)雜自由曲面光學(xué)器件）具有特殊性能的新型打印材料,，IP-n162光刻膠,。全新光敏樹脂材料具有高折射率，高色散和低阿貝數(shù)的特性,，這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學(xué)元件設(shè)計尤為重要,，尤其是在沒有旋轉(zhuǎn)對稱性和復(fù)合三維光學(xué)系統(tǒng)的情況下。由于在紅外區(qū)域吸收率不高,，因此光敏樹脂成為了紅外微光學(xué)的優(yōu)先,，同時也是光通訊、量子技術(shù)和光子封裝等需要低吸收損耗應(yīng)用的相當(dāng)好的選擇,。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術(shù)的3D打印量身定制的打印材料,。高折射率材料可實現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學(xué)設(shè)計，并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學(xué)提升到一個新的高度,。由于其光學(xué)特性,，高折射率聚合物可促進(jìn)許多運用突破性技術(shù)的各種應(yīng)用，例如光電應(yīng)用中,，他們可以增加顯示設(shè)備,、相機(jī)或投影儀鏡頭的視覺特性。此外,，這些材料在3D微納加工技術(shù)應(yīng)用下可制作更高階更復(fù)雜更小尺寸的3D微光學(xué)元件,。例如圖示中可應(yīng)用于微型成像系統(tǒng)，內(nèi)窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡,。

作為基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的微細(xì)加工領(lǐng)域市場帶領(lǐng)者,，Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體?！拔覀?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進(jìn)的2PP技術(shù)而感到自豪,，憑借我們的技術(shù)支持，我們的客戶實現(xiàn)了一個又一個突破性創(chuàng)新想法,。我們是一家充滿活力,、屢獲殊榮的公司，與客戶保持良好密切的合作關(guān)系是我們保持優(yōu)于市場地位的關(guān)鍵”Nanoscribe聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官MartinHermatschweiler表示,?；?PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識，Nanoscribe為前列科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術(shù)支持,，并推動生物打印、微流體,、微納光學(xué),、微機(jī)械,、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展?！拔覀兎浅Ｆ诖尤隒ELLINK集團(tuán),，共同探索雙光子聚合技術(shù)在未來所帶來的更大機(jī)遇”MartinHermatschweiler說道。更多無掩模光刻技術(shù)的相關(guān)信息請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,，包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm,。無掩膜光刻機(jī)具有無掩模光刻技術(shù)的便利，很大程度提高了無掩膜影印和新產(chǎn)品研發(fā)的效率,。浙江德國無掩膜光刻技術(shù)3D打印

Nanoscribe的3D無掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究,。湖南微納米無掩膜光刻無掩膜激光直寫

來自德國亞琛工業(yè)大學(xué)以及萊布尼茲材料研究所科學(xué)家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復(fù)雜噴嘴設(shè)計,?？茖W(xué)家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)（2PP）打印微型通道的聚合物母版，并結(jié)合軟光刻技術(shù)做后續(xù)復(fù)制工作,。隨后,，在密閉的微流道中通過芯片內(nèi)3D微納加工技術(shù)直接制作復(fù)雜結(jié)構(gòu)噴絲頭。這種集成復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門,。布魯塞爾自由大學(xué)的光子學(xué)研究小組（B-PHOT）的科學(xué)家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)（2PP）將光波導(dǎo)漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進(jìn)行高效和穩(wěn)健耦合這個難題,。這些錐形光束漏斗可調(diào)整SMF的模式場，以匹配光子芯片上光波導(dǎo)模式場,。Nanoscribe的2PP技術(shù)將可調(diào)整模場的錐形體作為階躍折射率光波導(dǎo)光束,。湖南微納米無掩膜光刻無掩膜激光直寫

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