Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,，Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,，包括導管鞘在內(nèi)的直徑只為mm。 更多德國雙光子灰度光刻技術內(nèi)容,，敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。廣東2PP灰度光刻三維光刻

現(xiàn)代光電設備在系統(tǒng)的復雜化與小型化得到了巨大改進。一種應用需求為使用定制的透鏡陣列來準直和投射來自線性排列的邊緣發(fā)射激光二極管以形成復合激光線,。消費類相機和投影模塊中的微型光學元件通常需要多個元件才能滿足性能規(guī)格,。復雜的組裝對于需要組合成具有微米間距的線性陣列提出了額外的挑戰(zhàn),。塑料模型元件可以提供特殊的曲率需求，盡管可用的折射率會導致高度彎曲的表面產(chǎn)生球面像差,，從而抑制準直性能,。硅灰度光刻技術可以在單個高折射率表面上實現(xiàn)復雜的透鏡形狀，同時還可以在多個孔之間提供精確的對準和間距,。多孔徑透鏡陣列設計用于沿快軸準直激光,，并在慢軸上提供±3°發(fā)散角。陣列中的每個元素還包含偏心和衍射項,，以偏置主光線角并與發(fā)散的光錐重疊以形成連續(xù)的激光線,。北京高精度灰度光刻微納光刻如果了解雙光子灰度光刻技術，敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。

    Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面,，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等,。

Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL ®)可用于工業(yè)領域2.5D微納米結(jié)構原型母版制作,。2GL通過創(chuàng)新的設計重新定義了典型復雜結(jié)構微納光學元件的微納加工制造。該技術結(jié)合了灰度光刻的出色性能,，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性,。而且GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構,、自由設計的圖案,、順滑的輪廓、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構,。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及普遍的材料-基板選擇,。因此,，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備,，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您介紹雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)。

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質(zhì)量表面的高精度微納光學聚合物母版,，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑,，熱壓花和納米壓印等加工流程,，從而拓展微納加工工業(yè)領域的應用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點,，同時縮短創(chuàng)新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間,。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求,?；陔p光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件,，并以經(jīng)濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲,。雙光子灰度光刻（2GL ?）系統(tǒng)Quantum X實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構的增材制造。黑龍江進口灰度光刻3D微納加工

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