灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透,，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)（如下圖4所示，八邊金字塔結(jié)構(gòu)）,。微透鏡陣列也是類似,，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)。需要注意,，灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多,，約為Ra=100nm，前兩者可以會的Ra=50nm的球面,。微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似,，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù),，利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu),，不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)（如下圖5所示），該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設計獲得想要的結(jié)構(gòu),，對于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu),，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進行后續(xù)的復制工作,，并通過納米壓印技術(shù)進行復制,。更多灰度光刻技術(shù),，歡迎您致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。天津工業(yè)級灰度光刻三維光刻

    Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領(lǐng)域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設計迭代周期,，包括仿生表面，微光學元件,，機械超材料和3D細胞支架等,。 天津2GL灰度光刻微納加工系統(tǒng)Nanoscribe中國分公司-納糯三維為您介紹Quantum X 雙光子灰度光刻微納打印設備應用的領(lǐng)域。

Nanoscribe成立于2007年,，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司,。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領(lǐng)導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求,。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎上進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化,，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),，Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學質(zhì)量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,，例如注塑,，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應用,。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點,，同時縮短創(chuàng)新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。另外,，QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作,。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作,，即一步打印多級衍射光學元件,，并以經(jīng)濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲。聚焦Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,，給您講解灰度光刻技術(shù),。

我們往往需要通過灰度光刻的方式來實現(xiàn)微透鏡陣列結(jié)構(gòu)，灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透,，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)（如下圖4所示，八邊金字塔結(jié)構(gòu)）,。微透鏡陣列也是類似,，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài),。需要注意,，灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多，約為Ra=100nm,，前兩者可以會的Ra=50nm的球面,。微納3D打印這種方法與灰度光刻有點類似，但是原理不同,，我們常見的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合,，利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu)，不僅只是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)（如下圖5所示）,，該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設計獲得想要的結(jié)構(gòu),，后續(xù)可以通過LIGA工藝獲得金屬模具，并通過納米壓印技術(shù)進行復制,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘什么是灰度光刻技術(shù),。天津工業(yè)級灰度光刻三維光刻

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隨著現(xiàn)在科學技術(shù)的發(fā)展,，儀器儀表行業(yè)發(fā)生了突飛猛進的發(fā)展,，再加上當前計算機技術(shù)、網(wǎng)絡技術(shù)的進步和發(fā)展,，組建網(wǎng)絡而構(gòu)成實用的監(jiān)控系統(tǒng),，可以提高生產(chǎn)效率和共享信息資源方向發(fā)展。當前儀器儀表行業(yè)產(chǎn)品發(fā)展呈現(xiàn)微型化,、多功能化,、智能化、網(wǎng)絡化四大發(fā)展趨勢,。工業(yè)領(lǐng)域轉(zhuǎn)型升級,、提升發(fā)展質(zhì)量等有利于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展；**安全,、社會安全,、產(chǎn)業(yè)和信息安全等需要自主,、PPGT2，Quantum X系列,，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng)裝備，成為全社會共識,；隨著中國的不斷進步,，世界上只有一個救世主——市場，能救企業(yè)的只有你自己——自強,，提高生產(chǎn)型重點競爭力才是中國制造業(yè)的獨一出路,。以顯微科學儀器行業(yè)的發(fā)展與變化為例，以親身的實踐為例,，毛磊認為,，隨著經(jīng)濟的不斷發(fā)展，我國的環(huán)境和實力都發(fā)生了巨大變化,，有了完全不同的基礎,，這為國產(chǎn)科學儀器走向高階水平增強了信心。儀器儀表行業(yè)飛速發(fā)展一是因為我國的經(jīng)濟高速穩(wěn)定發(fā)展的運行;按照過去的經(jīng)驗,，如果GDP的增長在10%以上時,，儀表行業(yè)的增長率則在26%～30%之間。二是因為我國宏觀調(diào)控對儀表行業(yè)的影響有一個滯后期,，儀表往往在工程的后期才交付使用,，因此，因宏觀調(diào)控政策而減少的收入對儀表行業(yè)的影響不會太大,。天津工業(yè)級灰度光刻三維光刻

納糯三維科技（上海）有限公司是一家有著雄厚實力背景,、信譽可靠、勵精圖治,、展望未來,、有夢想有目標，有組織有體系的公司,，堅持于帶領(lǐng)員工在未來的道路上大放光明,，攜手共畫藍圖，在上海市等地區(qū)的儀器儀表行業(yè)中積累了大批忠誠的客戶粉絲源,，也收獲了良好的用戶口碑,，為公司的發(fā)展奠定的良好的行業(yè)基礎，也希望未來公司能成為*****,，努力為行業(yè)領(lǐng)域的發(fā)展奉獻出自己的一份力量,，我們相信精益求精的工作態(tài)度和不斷的完善創(chuàng)新理念以及自強不息，斗志昂揚的的企業(yè)精神將**納糯三維科技供應和您一起攜手步入輝煌，共創(chuàng)佳績,，一直以來,，公司貫徹執(zhí)行科學管理、創(chuàng)新發(fā)展,、誠實守信的方針,，員工精誠努力，協(xié)同奮取,，以品質(zhì),、服務來贏得市場，我們一直在路上,！