Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器,。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,，可制作單個光學元件,、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項目,，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解用Nanoscribe無掩模光刻系統(tǒng)所制作的產(chǎn)品,。湖南高精度無掩膜光刻工藝

雙光子聚合（2PP）是一種可實現(xiàn)比較高精度和完全設計自由度的增材制造方法,。而作為同類比較好的3D微加工系統(tǒng)QuantumXshape具有下列優(yōu)異性能：首先，在所有空間方向上低至100納米的特征尺寸控制,，適用于納米和微米級打?。黄浯沃谱鞲哌_50毫米的目標結(jié)構(gòu),，適用于中尺度打印,。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果,，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺,。QuantumXshape具有先進的激光焦點軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度,，并以1MHz調(diào)制速率動態(tài)調(diào)整激光功率,。QuantumXshape帶有獨特的自動界面查找功能，可以以低至30納米的精度檢測基板表面,。這種在比較高掃描速度下的納米級精度體現(xiàn),，再加上自校準程序，可在特別短的時間內(nèi)實現(xiàn)可靠和準確的打印,，為3D微納加工樹立了新榜樣,。這些優(yōu)異的性能使QuantumXshape成為快速原型制作和應用于微納光學、微流體,、材料表面工程,、MEMS等其他領(lǐng)域中晶圓級規(guī)模生產(chǎn)的理想工具。浙江德國無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解無掩膜光刻技術(shù)相關(guān)信息,。

來自德國亞琛工業(yè)大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設計?？茖W家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)（2PP）打印微型通道的聚合物母版,，并結(jié)合軟光刻技術(shù)做后續(xù)復制工作。隨后，在密閉的微流道中通過芯片內(nèi)3D微納加工技術(shù)直接制作復雜結(jié)構(gòu)噴絲頭,。這種集成復雜3D結(jié)構(gòu)于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門,。斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心，共同合作研發(fā)了世界上特別小的3D打印微型內(nèi)窺鏡,。該內(nèi)窺鏡所用到的微光學器件寬度只有125微米,，可以用于直徑小于半毫米的血管內(nèi)進行內(nèi)窺鏡檢查。而這個精密的微光學器件是通過使用德國Nanoscribe公司的雙光子微納3D打印設備制作的,。微型內(nèi)窺鏡可以幫助檢測人體動脈內(nèi)的斑塊,、血栓和膽固醇晶體，因此對于醫(yī)學檢測極其重要,，可以有助于減少中風和心臟病發(fā)作的風險,。

QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®),。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細處理網(wǎng)格,，從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制,。此外,，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào)，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達到超光滑,，同時保持高精度的形狀控制,。QuantumXshape不只是應用于生物醫(yī)學、微光學,、MEMS,、微流道、表面工程學及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具,，同時也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡易工具,。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實用性。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監(jiān)控及多用戶的使用配置,，實現(xiàn)推動工業(yè)標準化及基于晶圓批量效率生產(chǎn),。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討無掩膜光刻系統(tǒng)未來的發(fā)展趨勢。

Nanoscribe公司推出針對微光學元件（如微透鏡,、棱鏡或復雜自由曲面光學器件）具有特殊性能的新型打印材料,，IP-n162光刻膠。全新光敏樹脂材料具有高折射率,，高色散和低阿貝數(shù)的特性,，這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學元件設計尤為重要，尤其是在沒有旋轉(zhuǎn)對稱性和復合三維光學系統(tǒng)的情況下,。由于在紅外區(qū)域吸收率不高,，因此光敏樹脂成為了紅外微光學的優(yōu)先，同時也是光通訊,、量子技術(shù)和光子封裝等需要低吸收損耗應用的相當好的選擇,。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術(shù)的3D打印量身定制的打印材料,。高折射率材料可實現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學設計，并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學提升到一個新的高度,。由于其光學特性,，高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術(shù)的各種應用，例如光電應用中,，他們可以增加顯示設備,、相機或投影儀鏡頭的視覺特性。此外,，這些材料在3D微納加工技術(shù)應用下可制作更高階更復雜更小尺寸的3D微光學元件,。例如圖示中可應用于微型成像系統(tǒng)，內(nèi)窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡,。Nansocribe公司的無掩模光刻系統(tǒng),，采用一種全新的方式解決了制造并集成3D微納結(jié)構(gòu)到2D微流體通道的問題 。海南2GL無掩膜光刻技術(shù)

無掩膜光刻是一類不采用光刻掩膜版的光刻技術(shù),。湖南高精度無掩膜光刻工藝

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設計自由度,，可以在各種預先構(gòu)圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結(jié)構(gòu),。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領(lǐng)域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設計迭代周期，包括仿生表面,，微光學元件,，機械超材料和3D細胞支架等。湖南高精度無掩膜光刻工藝

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