全新的Quantum X無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和2.5維光學(xué)元件,。 作為世界上頭一個(gè)雙光子灰度光刻系統(tǒng)，在充分滿足設(shè)計(jì)自由的同時(shí),，一步制造具有光學(xué)質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學(xué)元件,，達(dá)到所見即所得,。全新的Nanoscribe Quantum X系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細(xì)加工,。該無掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學(xué)元件的傳統(tǒng)制作工藝,。而且Quantum X提供了完全的設(shè)計(jì)自由度,、高速的打印效率、以及增材制造復(fù)雜結(jié)構(gòu)超光滑表面所需的高精度,?？焖佟?zhǔn)確的增材制造工藝極大地縮短了設(shè)計(jì)迭代周期,，實(shí)現(xiàn)了低成本的微納加工,。如果了解雙光子灰度光刻技術(shù)，歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。黑龍江2PP灰度光刻三維光刻

    在計(jì)算成像領(lǐng)域中有一個(gè)重要的分支,，即光場成像。而光場成像中的中心光學(xué)元件,，即為微透鏡陣列,。其材質(zhì)為透明玻璃，表面刻有很多微小的透鏡,，組成陣列結(jié)構(gòu),，用來成像。目前比較成熟的制作石英微透鏡的工藝是光刻膠制作圖形配合刻蝕的方法,，但該方法存在著各種各樣的問題,。常用的光刻膠制作圖形配合刻蝕的方法在透鏡的設(shè)計(jì)時(shí)需通過掩膜板圖形確定，無法自由調(diào)節(jié),，且成本高,，周期長,。這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到準(zhǔn)同步，這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小,，并在不影響速度的情況下,，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結(jié)合,，使其同時(shí)具備高速打印,，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求,。 湖南2PP灰度光刻技術(shù)Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解灰度光刻的特點(diǎn)和應(yīng)用,。

近年來，利用雙光子聚合對聚合物類傳統(tǒng)光刻膠的3D飛秒激光打印技術(shù)已日臻成熟,，其高精度,、高度可設(shè)計(jì)性和維度可控性已經(jīng)在平行技術(shù)中排名在前。與此同時(shí),，如何更有效地將微納結(jié)構(gòu)功能化,，也逐漸成為各種微納加工技術(shù)的研究重點(diǎn)。在現(xiàn)階段,，對于3D飛秒激光打印技術(shù)而言,，具體來說就是利用其加工的高度可設(shè)計(jì)性來實(shí)現(xiàn)微納結(jié)構(gòu)的功能化和芯片化，并使這些結(jié)構(gòu)能夠更好地集成器件,，從而達(dá)到理想的應(yīng)用目的,。微凹透鏡陣列結(jié)構(gòu)是光學(xué)器件中的一種常見組件，具有較強(qiáng)的聚焦和成像能力,。以往制備此類結(jié)構(gòu)的方法有熱回流,、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等,。受加工手段的限制,，傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個(gè)平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結(jié)構(gòu)，這樣的1組微透鏡陣列無法將1個(gè)平面物體聚焦至1個(gè)像平面上,，會產(chǎn)生場曲,。在商業(yè)生產(chǎn)中，為了消除場曲這種光學(xué)像差,，只能在后續(xù)光路中引入場鏡組來進(jìn)行校正,，從而增加了器件復(fù)雜度和成本。如果采用3D飛秒激光打印來加工微凹透鏡陣列即可通過設(shè)計(jì)一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場曲,。

微凹透鏡陣列結(jié)構(gòu)是光學(xué)器件中的一種常見組件,，具有較強(qiáng)的聚焦和成像能力。以往制備此類結(jié)構(gòu)的方法有熱回流、灰度光刻,、干法刻蝕和注射澆鑄等,。受加工手段的限制，傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個(gè)平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結(jié)構(gòu),，這樣的1組微透鏡陣列無法將1個(gè)平面物體聚焦至1個(gè)像平面上,，會產(chǎn)生場曲。在商業(yè)生產(chǎn)中,，為了消除場曲這種光學(xué)像差,，只能在后續(xù)光路中引入場鏡組來進(jìn)行校正，從而增加了器件復(fù)雜度和成本,。如果采用3D飛秒激光打印來加工微凹透鏡陣列即可通過設(shè)計(jì)一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場曲,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維為您介紹Quantum X 雙光子灰度光刻微納打印設(shè)備應(yīng)用的領(lǐng)域。

來自不來梅大學(xué)微型傳感器,、致動(dòng)器和系統(tǒng)(IMSAS)研究所的科學(xué)家們發(fā)明了一種全新的微流道混合方式,，使用Nanoscribe公司的3D打印系統(tǒng)，利用雙光子聚合原理（2PP）結(jié)合光刻技術(shù),，將自由形式3D微流控混合元件集成到預(yù)制的晶圓級二維微流道中,。該微型混合器可以處理高達(dá)100微升/分鐘的高流速樣品，適用于藥物和納米顆粒制造,，快速化學(xué)反應(yīng),、生物學(xué)測量和分析藥物等各種不同應(yīng)用,。事實(shí)上,，雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的，其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授,。當(dāng)時(shí)這個(gè)實(shí)驗(yàn)室在nature上發(fā)表的一篇工作,，也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動(dòng)：《Finer features for functional microdevices：Micromachines can be created with higher resolution using two-photon absorption.》但是，這篇文獻(xiàn)中還進(jìn)行了另外一個(gè)更厲害的工作（畢竟科學(xué)家不是藝術(shù)家,，不是做的好看就行了）,。

雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。廣東高分辨率灰度光刻3D打印

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    Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人,，并可以選擇添加金屬涂層,。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）,。微米級增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學(xué)設(shè)計(jì)的上限,，借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能，可以輕松實(shí)現(xiàn)球形,，非球形,，自由曲面或復(fù)雜3D微納光學(xué)元件制作，并具備出色的光學(xué)質(zhì)量表面和形狀精度,。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件（DOE）,，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級。由于需要多次光刻,，刻蝕和對準(zhǔn)工藝,，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實(shí)現(xiàn)多級衍射光學(xué)元件,，可以直接作為原型使用,，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。 黑龍江2PP灰度光刻三維光刻

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