國際上，激光直寫設(shè)備是光掩模制備的主要工具，尤其在高世代TFT-Array掩模的平面圖形,，面積可達110英寸（瑞典MICRONIC）單價高于1.5億元/套,，制備一個線寬分辨率1.5微米的110吋光掩模單價500萬RMB；然而,，這種激光直寫設(shè)備并不適用于微納3Ｄ形貌結(jié)構(gòu)和深紋圖形制備,。已有的基于藍光405nm直接成像光刻（DIL）適合光刻分辨率較低的圖形，也不適用于3D結(jié)構(gòu)的灰度光刻,。因此,，面向柔性光電子材料與器件的需求，必須攻克大面積3D形貌的微結(jié)構(gòu)的高效高精度制備,，解決海量數(shù)據(jù)高效率轉(zhuǎn)化,、高精度數(shù)據(jù)迭代與疊加曝光，高速率飛行直寫技術(shù)的難題,?；陔p光子灰度光刻技術(shù) (2GL ?)的Quantum X打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作。北京雙光子灰度光刻激光直寫

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機型,?；陔p光子聚合技術(shù)，該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機型,，同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)?；a(chǎn)。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®),。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細處理網(wǎng)格，從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制,。此外,，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào)，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達到超光滑,，同時保持高精度的形狀控制,。黑龍江高精度灰度光刻三維光刻Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您詳細講解灰度光刻技術(shù)。

Nanoscribe成立于2007年,，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司,。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領(lǐng)導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求,。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化,，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件。

Quantum X 新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）,。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,，使其同時具備高速打印，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點,。從而滿足了高級復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求,。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代,，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型,，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。而且Nanoscribe的Quantum X打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作,。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求,。基于雙光子灰度光刻技術(shù) (2GL ®)的Quantum X打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作,，即一步打印多級衍射光學元件,，并以經(jīng)濟高效的方法將多達4,096層的設(shè)計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解灰度光刻的特點和應用,。

德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展 LASER World of Photonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng) Quantum X ,，并榮獲創(chuàng)新獎。該系統(tǒng)是世界first基于雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）的精密加工微納米打印系統(tǒng),，可應用于折射和衍射微光學,。該系統(tǒng)的面世表示著Nanoscribe已進軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領(lǐng)域。具有全自動化系統(tǒng)的Quantum X無論從外形或者使用體驗上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求,。這項技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達到準同步,，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下,，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面,。該技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的精確性和靈活性結(jié)合，使其同時具備高速打印,，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點,。從而滿足了復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。如需了解德國Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù),，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。天津工業(yè)級灰度光刻3D微納加工

如果了解雙光子灰度光刻技術(shù)，歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。北京雙光子灰度光刻激光直寫

    基于雙光子聚合(2PP),，一種提供比較高精度和完整設(shè)計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù)，Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何,，在面積達25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度,。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示,，該公司正在通過其新機器為科學和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設(shè)定新標準?！半m然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術(shù)推動了平面微光學器件的超快速制造,，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為高效可靠的工具用于研究實驗室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn)?！?。 北京雙光子灰度光刻激光直寫

納糯三維科技（上海）有限公司匯集了大量的優(yōu)秀人才，集企業(yè)奇思,，創(chuàng)經(jīng)濟奇跡,，一群有夢想有朝氣的團隊不斷在前進的道路上開創(chuàng)新天地，繪畫新藍圖,，在上海市等地區(qū)的儀器儀表中始終保持良好的信譽,，信奉著“爭取每一個客戶不容易，失去每一個用戶很簡單”的理念,，市場是企業(yè)的方向,，質(zhì)量是企業(yè)的生命，在公司有效方針的領(lǐng)導下,，全體上下,，團結(jié)一致，共同進退,，**協(xié)力把各方面工作做得更好,，努力開創(chuàng)工作的新局面，公司的新高度,，未來納糯三維科技供應和您一起奔向更美好的未來,，即使現(xiàn)在有一點小小的成績，也不足以驕傲,，過去的種種都已成為昨日我們只有總結(jié)經(jīng)驗,，才能繼續(xù)上路，讓我們一起點燃新的希望,，放飛新的夢想,！