Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實現(xiàn)微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物,，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,，并可以選擇添加金屬涂層。此外,，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,，突破了微納米制造的限制,。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設(shè)施。Nanoscribe利用雙光子微光刻原理系列3D打印機能夠輕松打印出精細結(jié)構(gòu)分辨率高出100倍的三維微納器件,。湖北2GL3D打印三維光刻

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,，包括導管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm,。江蘇Nanoscribe3D打印微納光刻無機打印材料實現(xiàn)具有光學質(zhì)量表面的玻璃微納結(jié)構(gòu)的3D打印制作。

德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術(shù)的帶領(lǐng)開發(fā)商,，也是BICO集團（前身為Cellin）的一部分,，推出了一款新型高精度3D打印機，用于制造微納米級的精細結(jié)構(gòu),。據(jù)該公司稱,，新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產(chǎn)品線，其晶圓處理能力使“3D微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”,。它有望顯著提高生命科學,、材料工程、微流體,、微光學,、微機械和微機電系統(tǒng)(MEMS)應(yīng)用的精度、輸出和可用性,?；陔p光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設(shè)計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù),，Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結(jié)構(gòu),，在面積達25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度,。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過其新機器為科學和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設(shè)定新標準,?！半m然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術(shù)推動了平面微光學器件的超快速制造，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實驗室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn),?！?/p>

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機械元件的制作,，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,，并可以選擇添加金屬涂層,。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）,。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級,。由于需要多次光刻,，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高,。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學元件,，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具,。更多關(guān)于Nanoscribe微納米3D打印的內(nèi)容,，請致電Nanoscribe中國分公司納糯三維科技（上海）有限公司。

光子集成電路(PhotonicIntegratedCircuit,，PIC)與電子集成電路類似,，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器,、電阻器等電子器件,，而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件，比如激光器,、電光調(diào)制器,、光電探測器、光衰減器,、光復用/解復用器以及光放大器等,。集成光子學可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域,，例如數(shù)據(jù)通訊,，激光雷達系統(tǒng)的自動駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動感應(yīng)設(shè)備等,。而光子集成電路這項關(guān)鍵技術(shù)，尤其是微型光子組件應(yīng)用,，可以很大程度縮小復雜光學系統(tǒng)的尺寸并降低成本,。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口，例如光纖到芯片的連接,，可以有效提高集成度和功能性,。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性，需要權(quán)衡對準,、效率和寬帶方面的種種要求,。針對這些困難，科學家們提出了寬帶光纖耦合概念,，并通過Nanoscribe的雙光子微納3D打印設(shè)備而制造的3D耦合器得以實現(xiàn),。微納米3D打印公司Nanoscribe，納米精度的樹脂新材料,，打印微創(chuàng)手術(shù)用的微型針頭,，微透鏡精密器件?？蒲?D打印三維微納米加工系統(tǒng)

長遠來看,，3D打印會顛覆傳統(tǒng)制造，實現(xiàn)服務(wù)的規(guī)?；?，屬于產(chǎn)業(yè)顛覆。湖北2GL3D打印三維光刻

QuantumXshape技術(shù)特點概要：快速原型制作,，高精度,，高設(shè)計自由度，簡易明了的工程流程,；工業(yè)驗證的晶圓級批量生產(chǎn),；200個標準結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量；通用及專門使用的打印材料,；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。湖北2GL3D打印三維光刻

納糯三維科技（上海）有限公司坐落在上海市徐匯區(qū)桂平路391號3號樓11層1106A室,，是一家專業(yè)的作為Nanoscribe在中國全資子公司,，納糯三維科技（上海）有限公司可進行三維打印科技領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)開發(fā),，技術(shù)轉(zhuǎn)讓，技術(shù)咨詢,，技術(shù)服務(wù),，三維打印設(shè)備，光電機一體化設(shè)備和相關(guān)零配件的批發(fā),，進出口,，傭金代理，并提供相關(guān)配套服務(wù),，貿(mào)易信息咨詢,，企業(yè)管理咨詢。公司,。一批專業(yè)的技術(shù)團隊,，是實現(xiàn)企業(yè)戰(zhàn)略目標的基礎(chǔ)，是企業(yè)持續(xù)發(fā)展的動力,。公司以誠信為本,，業(yè)務(wù)領(lǐng)域涵蓋PPGT2，Quantum X系列,，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng)，我們本著對客戶負責,，對員工負責,，更是對公司發(fā)展負責的態(tài)度，爭取做到讓每位客戶滿意,。一直以來公司堅持以客戶為中心,、PPGT2，Quantum X系列,，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng)市場為導向，重信譽,，保質(zhì)量,，想客戶之所想，急用戶之所急,，全力以赴滿足客戶的一切需要,。