Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過程控制的攝像頭和一個(gè)樹脂分配器,。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,，物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,，可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),，并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。更多關(guān)于Nanoscribe微納米3D打印設(shè)備的信息,，請(qǐng)致電Nanoscribe中國分公司納糯三維科技（上海）有限公司。德國實(shí)驗(yàn)室3D打印無掩膜光刻

為了進(jìn)一步提升技術(shù)先進(jìn)性,，科研人員又在新材料研發(fā)的過程中發(fā)現(xiàn)了巨大的潛力,。一方面，利用SCRIBE新技術(shù)的情況下,，高折射率的光刻膠可進(jìn)一步拓展對(duì)打印結(jié)構(gòu)的光學(xué)性能的調(diào)節(jié)度,。另一方面，低自發(fā)熒光的可打印材料非常適用于生物成像領(lǐng)域,。Nanoscribe公司的IP系列光刻膠,，例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自發(fā)熒光的IP-Visio已經(jīng)為接下來的研究提供了進(jìn)一步的可能。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡,。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）,。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點(diǎn)位置也不盡相同。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差,。在給出的例子中,，成像中的熒光強(qiáng)度和折射率高度相關(guān),，同時(shí)將打印的雙透鏡中的每個(gè)單獨(dú)透鏡可視化。德國實(shí)驗(yàn)室3D打印無掩膜光刻N(yùn)anoscribe的激光光刻系統(tǒng)用于3D打印世界上排名頭一位小的強(qiáng)度超高的3D晶格結(jié)構(gòu),。

Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間,。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡,。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),，并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目,，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。該軟件有程序向?qū)В稍谝婚_始就指導(dǎo)設(shè)計(jì)師和工程師完成打印作業(yè),，并能夠接受任意光學(xué)設(shè)計(jì)的灰度圖像,。例如，可接受高達(dá)32位分辨率的BMP,、PNG或TIFF文件,，以便使用Nanoscribe的QuantumX進(jìn)行直接制造。

Nanoscribe作為一家納米,，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**,，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案,。Nanoscribe成立于2007年,，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司。在全球前列大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案,。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場(chǎng)敏銳度奠定了其市場(chǎng)優(yōu)于主導(dǎo)地位，并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求,。Nanoscribe將在未來進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實(shí)現(xiàn)多樣化,，以滿足不用客戶群的需求,。短期看，3D打印是傳統(tǒng)制造的補(bǔ)充,，而不是替代,。

3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域。材料屬性可以通過成分和幾何設(shè)計(jì)來調(diào)整和定制,。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,，可以實(shí)現(xiàn)具有特定光子，機(jī)械,，生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu),。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手，由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研,、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說,，在納米級(jí),、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版,。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn),，您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對(duì)快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案,。想要了解微納3D打印技術(shù)信息,，敬請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國分公司納糯三維科技（上海）有限公司。河北2GL3D打印微納加工系統(tǒng)

Photonic Professional GT 3D打印機(jī)的后續(xù)產(chǎn)品,，GT2可容納毫米大小的部件,，打印高度可達(dá)8毫米。德國實(shí)驗(yàn)室3D打印無掩膜光刻

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm。德國實(shí)驗(yàn)室3D打印無掩膜光刻

納糯三維科技（上海）有限公司公司是一家專門從事PPGT2,，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng)產(chǎn)品的生產(chǎn)和銷售,，是一家生產(chǎn)型企業(yè)，公司成立于2017-11-08,，位于上海市徐匯區(qū)桂平路391號(hào)3號(hào)樓11層1106A室,。多年來為國內(nèi)各行業(yè)用戶提供各種產(chǎn)品支持。Nanoscribe目前推出了PPGT2,，Quantum X系列,，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)等多款產(chǎn)品,，已經(jīng)和行業(yè)內(nèi)多家企業(yè)建立合作伙伴關(guān)系,，目前產(chǎn)品已經(jīng)應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域。我們堅(jiān)持技術(shù)創(chuàng)新,，把握市場(chǎng)關(guān)鍵需求,，以重心技術(shù)能力，助力儀器儀表發(fā)展,。納糯三維科技（上海）有限公司研發(fā)團(tuán)隊(duì)不斷緊跟PPGT2,，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng)行業(yè)發(fā)展趨勢(shì),，研發(fā)與改進(jìn)新的產(chǎn)品，從而保證公司在新技術(shù)研發(fā)方面不斷提升,，確保公司產(chǎn)品符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)和要求,。納糯三維科技（上海）有限公司以市場(chǎng)為導(dǎo)向，以創(chuàng)新為動(dòng)力,。不斷提升管理水平及PPGT2,，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng)產(chǎn)品質(zhì)量,。本公司以良好的商品品質(zhì)、誠信的經(jīng)營理念期待您的到來,！