Nanoscribe公司成立于2007年,，總部位于德國卡爾斯魯厄,，秉持著卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景的德國卡爾蔡司公司的支持，經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長,，已然成為微納米生產的帶領者,，一直致力于推動諸如力學超材料,，微納機器人，再生醫(yī)學工程,，微光學等創(chuàng)新領域的研究和發(fā)展,，并提供優(yōu)化制程方案。如今,，Nanoscribe客戶遍布全球30個國家,，超過1500名用戶正在使用Nanoscribe3D打印系統(tǒng)。這些大學包含哈佛大學,、加州理工學院,、牛津大學、倫敦帝國理工學院和蘇黎世聯(lián)邦理工學院等等,。為了拓展并加強中國及亞太地區(qū)的銷售推廣和售后服務范圍,，Nanoscribe于2017年底在上海成立了獨資子公司-納糯三維科技（上海）有限公司。更多有關3D微納加工的咨詢,。湖北高分辨率Nanoscribe工藝

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面,，微光學元件,，機械超材料和3D細胞支架等,。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL ®）系統(tǒng)Quantum X實現(xiàn)了2D和2.5D微納結構的增材制造。浙江德國Nanoscribe設備Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術具備高速打印,，完全設計自由度和超高精度的特點,。

Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產,，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產領域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度,。Quantum X shape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產領域應用有著重大意義,?？偠灾撓到y(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個科研領域和工業(yè)行業(yè)應用的更多可能性（如生命科學,、材料工程,、微流體、微納光學,、微機械和微電子機械系統(tǒng)（MEMS）等）,。

Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程，實現(xiàn)了各種不同的打印方案,。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造,，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結構制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,，突破了微納米制造的限制,。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求,。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械,，傳感器和執(zhí)行器是至關重要的。高效能能源器件,，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司,。

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit，PIC) 與電子集成電路類似,，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管,、電容器、電阻器等電子器件,，而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件,，比如激光器、電光調制器,、光電探測器,、光衰減器,、光復用/解復用器以及光放大器等。集成光子學可較廣地應用于各種領域,，例如數(shù)據(jù)通訊,，激光雷達系統(tǒng)的自動駕駛技術和YL領域中的移動感應設備等。而光子集成電路這項關鍵技術,，尤其是微型光子組件應用,，可以很大程度縮小復雜光學系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關鍵技術還在于連接接口,，例如光纖到芯片的連接,，可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性,，需要權衡對準,、效率和寬帶方面的種種要求。更多有關增材制造的咨詢,，歡迎致電納糯三維,。重慶超高速Nanoscribe子公司

Nanoscribe的技術在微電子、生物醫(yī)學,、光學等領域有著廣泛的應用,，為各行各業(yè)帶來了創(chuàng)新和突破。湖北高分辨率Nanoscribe工藝

QuantumXshape平臺系統(tǒng)共有四套打印套件,，為您提供不同規(guī)模制作可能性：從小特征尺寸（SF）,，中特征尺寸（MF）到大特征尺寸（LF）和如今的超大特征尺寸（XLF）。XLF打印套件所配備的全新5倍空氣物鏡以及4000μm寫場直徑,，為我們提供了更多新應用可能性,。完美實現(xiàn)在一步操作中打印>10mm高度的毫米或厘米級大小的零件。由于18.5毫米的較大工作距離,，因此對包裝密度沒有限制,。該系統(tǒng)可實現(xiàn)50x50mm2的全定位打印面積，一次打印至多30立方厘米的體積,，或在一個批次處理過程中在大面積上打印多個較小的對象,。湖北高分辨率Nanoscribe工藝