Nanoscribe公司成立于2007年,，總部位于德國卡爾斯魯厄,，秉持著卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景的德國卡爾蔡司公司的支持，經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長,，已然成為微納米生產(chǎn)的帶領者,，一直致力于推動諸如力學超材料,，微納機器人，再生醫(yī)學工程,，微光學等創(chuàng)新領域的研究和發(fā)展,，并提供優(yōu)化制程方案。如今,，Nanoscribe客戶遍布全球30個國家,，超過1500名用戶正在使用Nanoscribe3D打印系統(tǒng)。這些大學包含哈佛大學,、加州理工學院,、牛津大學、倫敦帝國理工學院和蘇黎世聯(lián)邦理工學院等等,。為了拓展并加強中國及亞太地區(qū)的銷售推廣和售后服務范圍,，Nanoscribe于2017年底在上海成立了獨資子公司-納糯三維科技（上海）有限公司。自Nanoscribe進軍中國市場以來,，已有20多家出名大學和研究所成為了Nanoscribe用戶,，其中包括多所C9前列高校聯(lián)盟成員，例如：北京大學,，復旦大學,，南京大學等等。更多關于Nanoscribe微納米3D打印的內(nèi)容,，請致電Nanoscribe中國分公司納糯三維科技（上海）有限公司,。金山區(qū)芯片上微納3D打印設備

借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng),。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案,。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL®)可用于工業(yè)領域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。2GL通過創(chuàng)新的設計重新定義了典型復雜結(jié)構(gòu)微納光學元件的微納加工制造,。該技術結(jié)合了灰度光刻的出色性能,，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性,。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度達到上限的微納3D打印機。該設備將雙光子聚合的極高精度技術特點與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合,，適合用于納米,、微米、中尺度以及厘米級別的快速成型,。PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)可適用于科研和工業(yè)領域應用,。我們的客戶成功將微納光學結(jié)構(gòu)直接打印到光子組件上從而實現(xiàn)從邊緣到表面的全方面耦合。松江區(qū)灰度光刻微納3D打印激光直寫越來越多的藝術家,、設計師參與到3D打印技術的應用中,。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術，用于快速,，精度非常高的微納加工,，可以輕松3D微納光學制作?？梢源钆洳煌幕?，包括玻璃，硅晶片,，光子和微流控芯片等,，也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求,。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械，傳感器和執(zhí)行器是至關重要的,?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作,；也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,，實現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。微米級增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學設計的上限,，借助Nanoscribe雙光子聚合技術的出色的性能,，可以輕松實現(xiàn)球形，非球形,，自由曲面或復雜3D微納光學元件制作,，并具備出色的光學質(zhì)量表面和形狀精度。

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”（CMM）,。文章中介紹了高精度3D打印,，并重點講解了先進的打印材料是如何讓雙光子聚合技術應用錦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程,，實現(xiàn)了各種不同的打印方案,。雙光子聚合技術用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL®)可用于工業(yè)領域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作,。2GL通過創(chuàng)新的設計重新定義了典型復雜結(jié)構(gòu)微納光學元件的微納加工制造,。該技術結(jié)合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性,。納糯三維科技（上海）有限公司Nanoscribe供應高精度微納3D打印系統(tǒng)系列產(chǎn)品,。

Nanoscribe公司推出針對微光學元件（如微透鏡、棱鏡或復雜自由曲面光學器件）具有特殊性能的新型打印材料,，IP-n162光刻膠,。全新光敏樹脂材料具有高折射率，高色散和低阿貝數(shù)的特性,，這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學元件設計尤為重要,，尤其是在沒有旋轉(zhuǎn)對稱性和復合三維光學系統(tǒng)的情況下。由于在紅外區(qū)域吸收率不高,，因此光敏樹脂成為了紅外微光學的優(yōu)先,，同時也是光通訊、量子技術和光子封裝等需要低吸收損耗應用的相當好的選擇,。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術的3D打印量身定制的打印材料,。高折射率材料可實現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學設計，并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學提升到一個新的高度,。由于其光學特性,，高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術的各種應用，例如光電應用中,，他們可以增加顯示設備,、相機或投影儀鏡頭的視覺特性。此外,，這些材料在3D微納加工技術應用下可制作更高階更復雜更小尺寸的3D微光學元件,。例如圖示中可應用于微型成像系統(tǒng)，內(nèi)窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡,。微納3D打印和“傳統(tǒng)”3D打印的主要區(qū)別在于,，微納3D打印能達到“傳統(tǒng)”3D打印無法達到的高精度。普陀區(qū)高精度微納3D打印應用

2PP被認為是一個相當精確的3D打印來創(chuàng)建復雜的結(jié)構(gòu)工藝,。金山區(qū)芯片上微納3D打印設備

QuantumXshape技術特點概要：快速原型制作,，高精度，高設計自由度,，簡易明了的工程流程,；工業(yè)驗證的晶圓級批量生產(chǎn)；200個標準結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量,；通用及專門使用的打印材料,；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領域應用有著重大意義。金山區(qū)芯片上微納3D打印設備