Nanoscribe稱,，Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photon grayscale lithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,，可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)具備高速打印,，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),。江蘇2PPNanoscribe三維光刻

Nanoscribe設(shè)備專注于納米,，微米和中等尺寸的增材制造,。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機(jī)設(shè)計(jì)用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具,。在該過程中，激光固化部分液態(tài)光敏材料,，逐層固化,。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達(dá)幾毫米,。另一方面,，GT2現(xiàn)在可以在短時(shí)間內(nèi)在高達(dá)100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細(xì)節(jié)的物體，通常為160納米至毫米范圍,。此外,，使用GT2，用戶可以選擇針對(duì)其應(yīng)用定制的多組物鏡,，基板,，材料和自動(dòng)化流程。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程,，用于制作單個(gè)元素,。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度，滿足智能手機(jī)行業(yè)中微透鏡或細(xì)胞生物學(xué)中的花絲支架結(jié)構(gòu)的要求,。 Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解增材制造的工藝過程前處理,。重慶TPPNanoscribe設(shè)備專注于微納米3D打印設(shè)備的額研發(fā)和應(yīng)用。

為了探索待測(cè)物微納米表面形貌,，探針掃描成像技術(shù)一直是理論研究和實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目,。然而，由于掃描探針受限于傳統(tǒng)加工工藝,，在組成材料和幾何構(gòu)造等方面在過去幾十年中沒有明顯的研究進(jìn)展,，這也限制了基于力傳感反饋的測(cè)量性能。如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變,，以實(shí)現(xiàn)對(duì)原始表面的精確成像一直是一個(gè)重要議題,。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng)，雙光子聚合技術(shù)是實(shí)現(xiàn)微納尺度3D打印有效的技術(shù),，其打印物體的特別小特征尺寸可達(dá)亞微米級(jí),，并可達(dá)到光學(xué)質(zhì)量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構(gòu),、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓,、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭更多有關(guān)增材制造的咨詢,，歡迎致電納糯三維,。

Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度,。Quantum X shape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要，這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義,?？偠灾撓到y(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個(gè)科研領(lǐng)域和工業(yè)行業(yè)應(yīng)用的更多可能性（如生命科學(xué),、材料工程,、微流體、微納光學(xué),、微機(jī)械和微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）等）,。全新Quantum X shape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)Quantum X產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)在25 cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),，很大程度推動(dòng)了生命科學(xué),，微流體，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作,。歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維,。德國雙光子聚合Nanoscribe技術(shù)

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由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件，從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,，包括仿生表面,，微光學(xué)元件，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。江蘇2PPNanoscribe三維光刻