QuantumXshape平臺系統(tǒng)共有四套打印套件,，為您提供不同規(guī)模制作可能性：從小特征尺寸（SF）,，中特征尺寸（MF）到大特征尺寸（LF）和如今的超大特征尺寸（XLF）。XLF打印套件所配備的全新5倍空氣物鏡以及4000μm寫場直徑，為我們提供了更多新應(yīng)用可能性,。完美實(shí)現(xiàn)在一步操作中打印>10mm高度的毫米或厘米級大小的零件,。由于18.5毫米的較大工作距離,，因此對包裝密度沒有限制,。該系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)50x50mm2的全定位打印面積，一次打印至多30立方厘米的體積,，或在一個批次處理過程中在大面積上打印多個較小的對象,。使用Nanoscribe的Photonic Professional系列打印系統(tǒng)制作的微流控元件可以完全嵌入進(jìn)預(yù)制的二維微流道系統(tǒng)。四川超高速Nanoscribe中國

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,，包括仿生表面,，微光學(xué)元件，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡四川超高速Nanoscribe中國微米級分辨率，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司,。

    對于光纖上打印的SERS探針,，研究人員必須克服幾個制造上的挑戰(zhàn),。首先,，他們設(shè)計了一個定制的光纖支架，可以在光纖的切面上打印,。然后,，打印的物體必須與光纖的重點(diǎn)部分完全對齊，以激發(fā)制造的拉曼熱點(diǎn),。剩下的一個挑戰(zhàn),，特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu)，是對可能傾斜的基材表面的補(bǔ)償,。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低,。為了推動光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展,，例如光纖SERS探頭，Nanoscribe近期推出了新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign,。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正,，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案，并為進(jìn)一步改進(jìn)和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ),。

Nanoscribe稱,，Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photon grayscale lithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng),，目前該技術(shù)正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間,。Nanoscribe表示,，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡,。Nanoscribe是德國高精度增材制造系統(tǒng)的先驅(qū),。

Nanoscribe設(shè)備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造,。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機(jī)設(shè)計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具,。在該過程中，激光固化部分液態(tài)光敏材料,，逐層固化,。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達(dá)幾毫米,。另一方面,，GT2現(xiàn)在可以在短時間內(nèi)在高達(dá)100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細(xì)節(jié)的物體，通常為160納米至毫米范圍,。此外,，使用GT2，用戶可以選擇針對其應(yīng)用定制的多組物鏡,，基板,，材料和自動化流程。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程,，用于制作單個元素,。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度,，滿足智能手機(jī)行業(yè)中微透鏡或細(xì)胞生物學(xué)中的花絲支架結(jié)構(gòu)的要求。 Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解增材制造的工藝過程前處理,。更多有關(guān)3D微納加工的咨詢,，歡迎致電Nanoscribe中國分公司。雙光子NanoscribeQX

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3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域,。材料屬性可以通過成分和幾何設(shè)計來調(diào)整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,，可以實(shí)現(xiàn)具有特定光子,，機(jī)械，生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu),。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手,，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞,。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景,。也就是說，在納米級,、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上,，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。四川超高速Nanoscribe中國