來自德國亞琛工業(yè)大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設計,。科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術（2PP）打印微型通道的聚合物母版,，并結合軟光刻技術做后續(xù)復制工作。隨后,，在密閉的微流道中通過芯片內3D微納加工技術直接制作復雜結構噴絲頭,。這種集成復雜3D結構于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。布魯塞爾自由大學的光子學研究小組（B-PHOT）的科學家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術（2PP）將光波導漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進行高效和穩(wěn)健耦合這個難題,。這些錐形光束漏斗可調整SMF的模式場,，以匹配光子芯片上光波導模式場,。Nanoscribe的2PP技術將可調整模場的錐形體作為階躍折射率光波導光束。短期看,，3D打印是傳統(tǒng)制造的補充,，而不是替代。虹口區(qū)工業(yè)微納3D打印技術

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結構,、自由設計的圖案、順滑的輪廓,、銳利的邊緣,、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,，以及比較廣的材料-基板選擇,。因此，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備,，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室,。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明,。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程,，實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造,，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結構制作,。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制,。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施,。松江區(qū)工業(yè)微納3D打印廠家雙光子零件可以3D打印出小于100nm分辨率物體。

Nanoscribe公司推出針對微光學元件（如微透鏡,、棱鏡或復雜自由曲面光學器件）具有特殊性能的新型打印材料,，IP-n162光刻膠。全新光敏樹脂材料具有高折射率,，高色散和低阿貝數(shù)的特性,，這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學元件設計尤為重要，尤其是在沒有旋轉對稱性和復合三維光學系統(tǒng)的情況下,。由于在紅外區(qū)域吸收率不高,，因此光敏樹脂成為了紅外微光學的優(yōu)先，同時也是光通訊,、量子技術和光子封裝等需要低吸收損耗應用的相當好的選擇,。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學設計,，并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學提升到一個新的高度,。由于其光學特性,，高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術的各種應用，例如光電應用中,，他們可以增加顯示設備,、相機或投影儀鏡頭的視覺特性。此外,，這些材料在3D微納加工技術應用下可制作更高階更復雜更小尺寸的3D微光學元件,。例如圖示中可應用于微型成像系統(tǒng)，內窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡,。

為了探索待測物微納米表面形貌,，探針掃描成像技術一直是理論研究和實驗項目。然而,，由于掃描探針受限于傳統(tǒng)加工工藝,，在組成材料和幾何構造等方面在過去幾十年中沒有明顯的研究進展，這也限制了基于力傳感反饋的測量性能,。如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變,，以實現(xiàn)對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng),，雙光子聚合技術是實現(xiàn)微納尺度3D打印有效的技術,，其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級，并可達到光學質量表面的要求,。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構,、自由設計的圖案,、順滑的輪廓、銳利的邊緣,、表面的和內置倒扣以及橋接結構,。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及普遍的材料-基板選擇,。因此,，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室,。高分辨率的3D打印技術可以生產(chǎn)出比傳統(tǒng)制造工藝更小,、更精確的零件。

借助Nanoscribe的3D微納加工技術,，您可以實現(xiàn)亞細胞結構的三維成像,，適用于細胞研究和芯片實驗室應用（lab-on-a-chip）。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細胞支架來研究細胞生長,、遷移和干細胞分化,。此外,，3D微納加工技術還可以應用在微創(chuàng)手術的生物醫(yī)學儀器，包括植入物,，微針和微孔膜等制作,。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研,、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應用前景。也就是說,，在納米級,、微米級以及中尺度結構上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版,。Nanoscribe微納米3D打印全方面涉足中國市場,。閔行區(qū)灰度光刻微納3D打印技術

Nanoscribe利用雙光子微光刻原理系列3D打印機能夠輕松打印出精細結構分辨率高出100倍的三維微納器件。虹口區(qū)工業(yè)微納3D打印技術

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導管鞘在內的直徑只為0.457mm,。虹口區(qū)工業(yè)微納3D打印技術