Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物,，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人,，并可以選擇添加金屬涂層。此外,，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印,，突破了微納米制造的限制,。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究儀器和多用戶設(shè)施。無掩膜光刻是一類不采用光刻掩膜版的光刻技術(shù),，即采用電子束直接在硅片上制作出需要的圖形,。高分辨率無掩膜光刻3D打印

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,，包括仿生表面，微光學(xué)元件,，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,，包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為mm北京高精度無掩膜光刻系統(tǒng)無掩膜光刻技術(shù)采用數(shù)字光刻的方式,，無需制作實(shí)體掩膜版。

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）,。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫,，而是在孔型支架內(nèi)。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,，從而影響打印材料的有效折射率,。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí)，對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3,。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡,。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）,。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點(diǎn)位置也不盡相同。

世界上頭一臺(tái)雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,，從而達(dá)到亞微米分辨率并實(shí)現(xiàn)對(duì)體素大小的超快控制，自動(dòng)化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面,。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件,。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計(jì)自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點(diǎn)，您可以進(jìn)行幾乎任何形狀,，包括球形,，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計(jì),。歡迎咨詢,。高精度無掩膜光刻寫，為您提供高效、精細(xì)的加工解決方案,。

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）,。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫，而是在孔型支架內(nèi),。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí),，對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3,。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡,。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點(diǎn)位置也不盡相同無掩膜光刻歡迎咨詢納糯三維科技（上海）有限公司,。江蘇進(jìn)口無掩膜光刻無掩光刻

無掩膜光刻技術(shù)正嶄露頭角,，成為一種具有巨大潛力的技術(shù)。高分辨率無掩膜光刻3D打印

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù),，用于快速,，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學(xué)制作,?？梢源钆洳煌幕澹úＡ?，硅晶片,，光子和微流控芯片等，也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求,。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù)，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作,；也適合科學(xué)家和工程師們?cè)跓o需額外成本增加的前提下,，實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。微米級(jí)增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學(xué)設(shè)計(jì)的上限,，借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能,，可以輕松實(shí)現(xiàn)球形，非球形,，自由曲面或復(fù)雜3D微納光學(xué)元件制作,，并具備出色的光學(xué)質(zhì)量表面和形狀精度高分辨率無掩膜光刻3D打印