Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點,，結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,，開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結構,，適用于生命科學領域的應用,，如設計和定制微型生物醫(yī)學設備的原型制作,。Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構,、自由設計的圖案,、順滑的輪廓、銳利的邊緣,、表面的和內置倒扣以及橋接結構,。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及比較廣的材料-基板選擇,。因此,，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室,。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中,，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力特別好的證明。歡迎咨詢德國Nanoscribe雙光子無掩模光刻微納技術你想了解嗎,？歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維,。浙江雙光子無掩膜光刻微納光刻

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術，用于快速,，精度非常高的微納加工,，可以輕松3D微納光學制作?？梢源钆洳煌幕?，包括玻璃，硅晶片,，光子和微流控芯片等,，也可以實現芯片和光纖上直接打印,。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械,，傳感器和執(zhí)行器是至關重要的,。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術,，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作,；也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實現不同參數的創(chuàng)新3D結構的制作,。微米級增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學設計的上限,，借助Nanoscribe雙光子聚合技術的出色的性能，可以輕松實現球形,，非球形,，自由曲面或復雜3D微納光學元件制作，并具備出色的光學質量表面和形狀精度,。德國德國無掩膜光刻多少錢無掩膜光刻是一類不采用光刻掩膜版的光刻技術,，即采用電子束直接在硅片上制作出需要的圖形。

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,，包括導管鞘在內的直徑只為0.457mm,。歡迎咨詢

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產,，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產領域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度,。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產領域應用有著重大意義,。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產品系列的第二臺設備,，可實現在25cm2面積內打印任何結構，很大程度推動了生命科學,，微流體,，材料工程學中復雜應用的快速原型制作,。以及生物醫(yī)學研究，如制造微小的生物樣本等,。

世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實現了2D和2.5D微納結構的增材制造,。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合，從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制,，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面,。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點,，您可以進行幾乎任何形狀,，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設計,。歡迎咨詢,。無掩膜光刻技術正成為微電子行業(yè)的重要支柱。德國高分辨率無掩膜光刻設備

而Nanoscribe公司基于雙光子聚合原理的無掩模光刻系統(tǒng)設計自由度高,，輕松實現收集光束傳輸到波導中,。浙江雙光子無掩膜光刻微納光刻

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