德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術(shù)的帶領(lǐng)開發(fā)商,，也是BICO集團(tuán)（前身為Cellin）的一部分,，推出了一款新型高精度3D打印機(jī)，用于制造微納米級(jí)的精細(xì)結(jié)構(gòu),。據(jù)該公司稱,，新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產(chǎn)品線，其晶圓處理能力使“3D微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”,。它有望顯著提高生命科學(xué),、材料工程、微流體,、微光學(xué),、微機(jī)械和微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)應(yīng)用的精度、輸出和可用性,?；陔p光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù),，Nanoscribe認(rèn)為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結(jié)構(gòu),，在面積達(dá)25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級(jí)精度。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示,，該公司正在通過其新機(jī)器為科學(xué)和工業(yè)用途的晶圓級(jí)高精度微制造設(shè)定新標(biāo)準(zhǔn),。“雖然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術(shù)推動(dòng)了平面微光學(xué)器件的超快速制造,，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn),。”歡迎咨詢納糯三維科技（上海）有限公司無掩膜光刻技術(shù)可實(shí)現(xiàn)高精度,、大規(guī)模的制造,。重慶工業(yè)級(jí)無掩膜光刻無掩光刻

全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),，很大程度推動(dòng)了生命科學(xué),，微流體，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作,。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動(dòng)分配功能的直立式打印系統(tǒng),，非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作,。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果,，同時(shí)還離不開工業(yè)級(jí)飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái)。QuantumXshape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度,，并以1MHz調(diào)制速率動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率,。北京2GL無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)無掩膜光刻技術(shù)具有高精度和高分辨率的特點(diǎn)。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù),，用于快速,，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學(xué)制作,?？梢源钆洳煌幕澹úＡ?，硅晶片,，光子和微流控芯片等，也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術(shù),，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作,；也適合科學(xué)家和工程師們?cè)跓o需額外成本增加的前提下，實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作,。微米級(jí)增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學(xué)設(shè)計(jì)的上限,，借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能，可以輕松實(shí)現(xiàn)球形,，非球形,，自由曲面或復(fù)雜3D微納光學(xué)元件制作，并具備出色的光學(xué)質(zhì)量表面和形狀精度

作為基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的微細(xì)加工領(lǐng)域市場(chǎng)帶領(lǐng)者,，Nanoscribe在全球30多個(gè)國家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體,。“我們?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進(jìn)的2PP技術(shù)而感到自豪,，憑借我們的技術(shù)支持,，我們的客戶實(shí)現(xiàn)了一個(gè)又一個(gè)突破性創(chuàng)新想法。我們是一家充滿活力,、屢獲殊榮的公司,，與客戶保持良好密切的合作關(guān)系是我們保持優(yōu)于市場(chǎng)地位的關(guān)鍵”Nanoscribe聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官M(fèi)artinHermatschweiler表示?；?PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí),，Nanoscribe為前列科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強(qiáng)大的技術(shù)支持，并推動(dòng)生物打印、微流體,、微納光學(xué),、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展無掩膜光刻技術(shù)可降低微納制造的成本,。

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,，這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備,，可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),，很大程度推動(dòng)了生命科學(xué)，微流體,，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作,。無掩膜光刻技術(shù)被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片的制造過程中，它可以將微小的電路和組件刻畫在硅片上,。遼寧高精度無掩膜光刻技術(shù)

低成本：無掩膜光刻技術(shù)降低了掩膜的成本,，同時(shí)也減少了制造時(shí)間和材料浪費(fèi)。重慶工業(yè)級(jí)無掩膜光刻無掩光刻

高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件,。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計(jì)自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點(diǎn),，您可以進(jìn)行幾乎任何形狀，包括球形,，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計(jì),。另外，Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度,，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作,。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu),。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,，包括仿生表面,，微光學(xué)元件，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等,。歡迎咨詢重慶工業(yè)級(jí)無掩膜光刻無掩光刻