上??颇偷献灾餮邪l(fā)生產(chǎn)的一款新型電動執(zhí)行器助力企業(yè)實現(xiàn)智能化
電動執(zhí)行器:實現(xiàn)智能控制的新一代動力裝置
電動放料閥:化工行業(yè)的新星,,提升生產(chǎn)效率與安全性的利器
創(chuàng)新電動執(zhí)行器助力工業(yè)自動化,,實現(xiàn)高效生產(chǎn)
簡單介紹電動球閥的作用與功效
電動執(zhí)行器如何選型及控制方式
電動執(zhí)行器選型指南:如何為您的應(yīng)用選擇合適的執(zhí)行器
電動執(zhí)行器主要由哪些部分組成
電動執(zhí)行器這些知識,,你不能不知道,。
電動焊接閘閥的維護保養(yǎng):確保高效運轉(zhuǎn)與長期壽命的關(guān)鍵
如何能夠利用微納尺寸的旋轉(zhuǎn)軸和鉸鏈改進傳感器并為新的傳感器設(shè)計概念鋪平道路,?這正是位于代頓(俄亥俄州)的美國空軍技術(shù)學院的科研人員們通過在光纖上打印具有可活動部件的微型3D傳感器所聚焦的課題,。內(nèi)置的鉸鏈和微軸給傳感器設(shè)計帶來的新的設(shè)計理念,,例如用于流量傳感的微轉(zhuǎn)子,,可通過物***相沉積法來進入以往不易觸及的區(qū)域的微型傳感器,。
光纖上3D打印的流量傳感器(渲染動畫):轉(zhuǎn)子被安裝在光纖端面的一個偏心軸上,,傳感器的信號由通過光纖芯的反射光產(chǎn)生,以實現(xiàn)流量傳感的應(yīng)用,。 無掩膜光刻技術(shù)被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片的制造過程中,,它可以將微小的電路和組件刻畫在硅片上。重慶高分辨率無掩膜光刻技術(shù)
Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強大了3D打印工作流程,,實現(xiàn)了各種不同的打印方案,。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,,突破了微納米制造的限制,。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設(shè)施。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機械元件的要求,。3D設(shè)計的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機械,,傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?;陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù),,可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作湖北2PP無掩膜光刻系統(tǒng)它可以根據(jù)不同需求進行快速的圖案設(shè)計和修改,無需制作復(fù)雜的掩膜板,,提高了加工的靈活性和效率,。
科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)(2PP)打印微型通道的聚合物母版,并結(jié)合軟光刻技術(shù)做后續(xù)復(fù)制工作,。隨后,,在密閉的微流道中通過芯片內(nèi)3D微納加工技術(shù)直接制作復(fù)雜結(jié)構(gòu)噴絲頭。這種集成復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門,。布魯塞爾自由大學的光子學研究小組(B-PHOT)的科學家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)(2PP)將光波導(dǎo)漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進行高效和穩(wěn)健耦合這個難題,。這些錐形光束漏斗可調(diào)整SMF的模式場,以匹配光子芯片上光波導(dǎo)模式場,。Nanoscribe的2PP技術(shù)將可調(diào)整模場的錐形體作為階躍折射率光波導(dǎo)光束,。
作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質(zhì)量表面的高精度微納光學聚合物母版,,可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,,從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用,。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點,同時縮短創(chuàng)新微納光學器件(如衍射和折射光學器件)的整體制造時間,。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求,?;陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作,即一步打印多級衍射光學元件,,并以經(jīng)濟高效的方法將多達4,096層的設(shè)計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲,。無掩膜光刻歡迎咨詢納糯三維科技(上海)有限公司。
Nanoscribe的2PP技術(shù)將可調(diào)整模場的錐形體作為階躍折射率光波導(dǎo)光束,。來自德國亞琛工業(yè)大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,,該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復(fù)雜噴嘴設(shè)計。科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)(2PP)打印微型通道的聚合物母版,,并結(jié)合軟光刻技術(shù)做后續(xù)復(fù)制工作,。隨后,在密閉的微流道中通過芯片內(nèi)3D微納加工技術(shù)直接制作復(fù)雜結(jié)構(gòu)噴絲頭,。這種集成復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門,。布魯塞爾自由大學的光子學研究小組(B-PHOT)的科學家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)(2PP)將光波導(dǎo)漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進行高效和穩(wěn)健耦合這個難題。這些錐形光束漏斗可調(diào)整SMF的模式場,,以匹配光子芯片上光波導(dǎo)模式場,。無掩膜光刻技術(shù)具有高精度、高效率優(yōu)勢,。重慶進口無掩膜光刻無掩光刻
無掩膜光刻技術(shù)具有廣泛的應(yīng)用前景,。重慶高分辨率無掩膜光刻技術(shù)
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù),用于快速,,精度非常高的微納加工,,可以輕松3D微納光學制作??梢源钆洳煌幕?,包括玻璃,硅晶片,,光子和微流控芯片等,,也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機械元件的要求,。3D設(shè)計的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機械,,傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?;陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù),,可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作;也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,,實現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作重慶高分辨率無掩膜光刻技術(shù)