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遼寧雙光子無(wú)掩膜光刻PPGT

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-03-02

Nanoscribe帶領(lǐng)全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國(guó)高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項(xiàng)專(zhuān)項(xiàng)技術(shù),,為全球客戶(hù)提供整套硬件,,軟件,打印材料和解決方案一站式服務(wù),。Nanoscribe是德國(guó)高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,,擁有多項(xiàng)專(zhuān)項(xiàng)技術(shù),為全球客戶(hù)提供整套硬件,,軟件,,打印材料和解決方案一站式服務(wù)。它的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),,結(jié)合具備生物兼容特點(diǎn)的光敏樹(shù)脂和生物材料,,開(kāi)發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu),適用于生命科學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用,,如設(shè)計(jì)和定制微型生物醫(yī)學(xué)設(shè)備的原型制作,。借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù),您可以實(shí)現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像,,適用于細(xì)胞研究和芯片實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用(lab-on-a-chip),。適用于微米和納米級(jí)別的加工要求。這是因?yàn)樗褂脭?shù)字圖案,,可以獲得更高的分辨率和更精確的圖案,。遼寧雙光子無(wú)掩膜光刻PPGT

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世界上頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無(wú)掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,,從而達(dá)到亞微米分辨率并實(shí)現(xiàn)對(duì)體素大小的超快控制,,自動(dòng)化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件,。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計(jì)自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點(diǎn),,您可以進(jìn)行幾乎任何形狀,包括球形,,非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計(jì),。歡迎咨詢(xún)。海南高分辨率無(wú)掩膜光刻微納光刻N(yùn)anoscribe 的Quantum X 無(wú)掩模光刻系統(tǒng)在多個(gè)領(lǐng)域運(yùn)用較廣,。

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無(wú)掩模光刻技術(shù),,用于快速,精度非常高的微納加工,,可以輕松3D微納光學(xué)制作,。可以搭配不同的基板,,包括玻璃,,硅晶片,,光子和微流控芯片等,也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿(mǎn)足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求,。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,?;陔p光子聚合原理的激光直寫(xiě)技術(shù),可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,,屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹(shù)脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,,包括仿生表面,微光學(xué)元件,,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,,包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為mm無(wú)掩膜光刻歡迎咨詢(xún)納糯三維科技(上海)有限公司,。

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QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專(zhuān)業(yè)激光直寫(xiě)系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度,。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義,。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備,,可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),很大程度推動(dòng)了生命科學(xué),,微流體,,材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作光刻技術(shù)降低了掩膜的成本,同時(shí)也減少了制造時(shí)間和材料浪費(fèi),,從而降低了總成本,。河南進(jìn)口無(wú)掩膜光刻

無(wú)掩膜光刻技術(shù)正成為微電子行業(yè)的重要支柱。遼寧雙光子無(wú)掩膜光刻PPGT

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實(shí)現(xiàn)通過(guò)簡(jiǎn)單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作,。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造,,以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量,。總而言之,,工業(yè)級(jí)QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝,,適用于晶圓級(jí)批量加工。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作,。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果,,同時(shí)還離不開(kāi)工業(yè)級(jí)飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái)遼寧雙光子無(wú)掩膜光刻PPGT