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遼寧超高速無掩膜光刻激光直寫

來源: 發(fā)布時間:2024-03-04

作為基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的微細加工領(lǐng)域市場帶領(lǐng)者,Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體,?!拔覀?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進的2PP技術(shù)而感到自豪,憑借我們的技術(shù)支持,,我們的客戶實現(xiàn)了一個又一個突破性創(chuàng)新想法,。我們是一家充滿活力、屢獲殊榮的公司,,與客戶保持良好密切的合作關(guān)系是我們保持優(yōu)于市場地位的關(guān)鍵”Nanoscribe聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官MartinHermatschweiler表示,。基于2PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識,,Nanoscribe為前列科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術(shù)支持,,并推動生物打印、微流體,、微納光學(xué),、微機械,、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展我們的無掩膜光刻寫技術(shù)精細可靠,保證產(chǎn)品質(zhì)量和穩(wěn)定性,。遼寧超高速無掩膜光刻激光直寫

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QuantumXshape技術(shù)特點概要:快速原型制作,,高精度,高設(shè)計自由度,,簡易明了的工程流程,;工業(yè)驗證的晶圓級批量生產(chǎn);200個標準結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量,;通用及專門使用的打印材料,;兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度,。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工,。浙江Nanoscribe無掩膜光刻系統(tǒng)而Nanoscribe公司基于雙光子聚合原理的無掩模光刻系統(tǒng)設(shè)計自由度高,輕松實現(xiàn)收集光束傳輸?shù)讲▽?dǎo)中,。

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Nanoscribe帶領(lǐng)全球高精度微納米3D打印,。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項專項技術(shù),,為全球客戶提供整套硬件,,軟件,打印材料和解決方案一站式服務(wù),。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,,擁有多項專項技術(shù),為全球客戶提供整套硬件,,軟件,,打印材料和解決方案一站式服務(wù)。它的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計自由度和超高精度的特點,,結(jié)合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,,開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu),適用于生命科學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用,,如設(shè)計和定制微型生物醫(yī)學(xué)設(shè)備的原型制作,。借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù),您可以實現(xiàn)亞細胞結(jié)構(gòu)的三維成像,,適用于細胞研究和芯片實驗室應(yīng)用(lab-on-a-chip)

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),,斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm,。歡迎咨詢無掩膜光刻技術(shù)可以輕松地更改圖案,,從而方便地進行試制和修整。

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Nanoscribe稱,,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件(diffractiveopticalelement,,DOE)可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,,折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,,可制作單個光學(xué)元件、填充因子高達100%的陣列,,以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),,并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作,。為了更好地管理和安排用戶的項目,打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。該軟件有程序向?qū)?,可在一開始就指導(dǎo)設(shè)計師和工程師完成打印作業(yè),并能夠接受任意光學(xué)設(shè)計的灰度圖像低成本:無掩膜光刻技術(shù)降低了掩膜的成本,,同時也減少了制造時間和材料浪費。海南Nanoscribe無掩膜光刻工藝

我們提供高精度無掩膜光刻寫服務(wù),,確保圖案清晰無模糊,。遼寧超高速無掩膜光刻激光直寫

雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的,其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授,。當時這個實驗室在nature上發(fā)表的一篇工作,,也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動:《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices:Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是,這篇文獻中還進行了另外一個更厲害的工作,這兩位教授做出了當時世界上特別小的彈簧振子,,其加工分辨率達到了120nm,,超越了衍射極限,同時還沒有使用諸如近場加工之類的解決方案,,而是單純的利用了材料的性質(zhì),。遼寧超高速無掩膜光刻激光直寫