德國(guó)公司Nanoscribe是高精度增材制造技術(shù)的帶領(lǐng)開發(fā)商,，也是BICO集團(tuán)（前身為Cellin）的一部分,，推出了一款新型高精度3D打印機(jī)，用于制造微納米級(jí)的精細(xì)結(jié)構(gòu),。據(jù)該公司稱,，新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產(chǎn)品線,，其晶圓處理能力使“3D微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”。它有望顯著提高生命科學(xué),、材料工程,、微流體、微光學(xué),、微機(jī)械和微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)應(yīng)用的精度,、輸出和可用性?；陔p光子聚合(2PP),，一種提供比較高精度和完整設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù)，Nanoscribe認(rèn)為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結(jié)構(gòu),，在面積達(dá)25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級(jí)精度,。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過其新機(jī)器為科學(xué)和工業(yè)用途的晶圓級(jí)高精度微制造設(shè)定新標(biāo)準(zhǔn),?！半m然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術(shù)推動(dòng)了平面微光學(xué)器件的超快速制造，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn),?！睔g迎咨詢納糯三維科技（上海）有限公司無掩膜光刻認(rèn)準(zhǔn)納糯三維科技（上海）有限公司,。江蘇無掩膜光刻3D光刻

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù),，用于快速，精度非常高的微納加工,，可以輕松3D微納光學(xué)制作,。可以搭配不同的基板,，包括玻璃,，硅晶片，光子和微流控芯片等,，也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術(shù),，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作,；也適合科學(xué)家和工程師們?cè)跓o需額外成本增加的前提下，實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作,。微米級(jí)增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學(xué)設(shè)計(jì)的上限,，借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能，可以輕松實(shí)現(xiàn)球形，非球形,，自由曲面或復(fù)雜3D微納光學(xué)元件制作,，并具備出色的光學(xué)質(zhì)量表面和形狀精度。上海雙光子無掩膜光刻無掩膜光刻技術(shù)可實(shí)現(xiàn)高精度,、大規(guī)模的制造,。

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫,，而是在孔型支架內(nèi),。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率,。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí),，對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）,。通過色散透鏡聚焦的光因波長(zhǎng)不同焦點(diǎn)位置也不盡相同,。

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度,。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要，這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義,。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備,，可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu)，很大程度推動(dòng)了生命科學(xué),，微流體,，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。,。無掩膜光刻技術(shù)可大幅提高芯片制造效率,。

QuantumXshape技術(shù)特點(diǎn)概要：快速原型制作，高精度,，高設(shè)計(jì)自由度,，簡(jiǎn)易明了的工程流程；工業(yè)驗(yàn)證的晶圓級(jí)批量生產(chǎn),；200個(gè)標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量,；通用及專門使用的打印材料,；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度,。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工,。全新Quantum X shape是Nanoscribe工業(yè)級(jí)無掩膜光刻系統(tǒng)Quantum X產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備。湖南2PP無掩膜光刻無掩光刻

無掩膜光刻技術(shù)采用數(shù)字光刻的方式,，無需制作實(shí)體掩膜版,。江蘇無掩膜光刻3D光刻

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫,，而是在孔型支架內(nèi),。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率,。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí),，對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）,。通過色散透鏡聚焦的光因波長(zhǎng)不同焦點(diǎn)位置也不盡相同江蘇無掩膜光刻3D光刻