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海南進(jìn)口無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)

來源: 發(fā)布時間:2024-03-23

斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心,,共同合作研發(fā)了世界上特別小的3D打印微型內(nèi)窺鏡。該內(nèi)窺鏡所用到的微光學(xué)器件寬度只有125微米,,可以用于直徑小于半毫米的血管內(nèi)進(jìn)行內(nèi)窺鏡檢查,。而這個精密的微光學(xué)器件是通過使用德國Nanoscribe公司的雙光子微納3D打印設(shè)備制作的。微型內(nèi)窺鏡可以幫助檢測人體動脈內(nèi)的斑塊,、血栓和膽固醇晶體,,因此對于醫(yī)學(xué)檢測極其重要,可以有助于減少中風(fēng)和心臟病發(fā)作的風(fēng)險,。來自不來梅大學(xué)微型傳感器,、致動器和系統(tǒng)(IMSAS)研究所的科學(xué)家們發(fā)明了一種全新的微流道混合方式,使用Nanoscribe公司的3D打印系統(tǒng),,利用雙光子聚合原理(2PP)結(jié)合光刻技術(shù),,將自由形式3D微流控混合元件集成到預(yù)制的晶圓級二維微流道中。無掩膜光刻技術(shù)具有廣泛的應(yīng)用前景,。海南進(jìn)口無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)

海南進(jìn)口無掩膜光刻微納加工系統(tǒng),無掩膜光刻

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM),。文章中介紹了高精度3D打印,并重點講解了先進(jìn)的打印材料是如何讓雙光子聚合技術(shù)應(yīng)用錦上添花的,。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,,實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作,。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。北京德國無掩膜光刻激光直寫高精度和高分辨率:無掩膜光刻技術(shù)可以實現(xiàn)非常高的加工精度和分辨率,。

海南進(jìn)口無掩膜光刻微納加工系統(tǒng),無掩膜光刻

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計自由度,,可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),,可以按設(shè)計需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu),。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,,屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,包括仿生表面,,微光學(xué)元件,,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等

QuantumXshape技術(shù)特點概要:快速原型制作,高精度,,高設(shè)計自由度,,簡易明了的工程流程;工業(yè)驗證的晶圓級批量生產(chǎn),;200個標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量,;通用及專門使用的打印材料;兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),,用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度,。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。全新Quantum X shape是Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)Quantum X產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備,。

海南進(jìn)口無掩膜光刻微納加工系統(tǒng),無掩膜光刻

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù),,用于快速,精度非常高的微納加工,,可以輕松3D微納光學(xué)制作,。可以搭配不同的基板,,包括玻璃,,硅晶片,光子和微流控芯片等,,也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,,傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術(shù),,可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作,;也適合科學(xué)家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,實現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作,。微米級增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學(xué)設(shè)計的上限,,借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能,,可以輕松實現(xiàn)球形,非球形,,自由曲面或復(fù)雜3D微納光學(xué)元件制作,,并具備出色的光學(xué)質(zhì)量表面和形狀精度。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討無掩膜光刻系統(tǒng)未來的發(fā)展趨勢,。重慶2GL無掩膜光刻

光刻技術(shù)降低了掩膜的成本,,同時也減少了制造時間和材料浪費,從而降低了總成本,。海南進(jìn)口無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)

Nanoscribe的2PP技術(shù)將可調(diào)整模場的錐形體作為階躍折射率光波導(dǎo)光束,。來自德國亞琛工業(yè)大學(xué)以及萊布尼茲材料研究所科學(xué)家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復(fù)雜噴嘴設(shè)計,??茖W(xué)家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)(2PP)打印微型通道的聚合物母版,并結(jié)合軟光刻技術(shù)做后續(xù)復(fù)制工作,。隨后,,在密閉的微流道中通過芯片內(nèi)3D微納加工技術(shù)直接制作復(fù)雜結(jié)構(gòu)噴絲頭。這種集成復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門,。布魯塞爾自由大學(xué)的光子學(xué)研究小組(B-PHOT)的科學(xué)家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)(2PP)將光波導(dǎo)漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進(jìn)行高效和穩(wěn)健耦合這個難題,。這些錐形光束漏斗可調(diào)整SMF的模式場,以匹配光子芯片上光波導(dǎo)模式場,。海南進(jìn)口無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)