Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學和工業(yè)項目中備受青睞,。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應用前景,。也就是說，在納米級,、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上,，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng),。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案微納3D打印和灰度光刻技術有什么區(qū)別？天津雙光子灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

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德國Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng),，該系統(tǒng)是first基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的精密加工微納米打印系統(tǒng),，可應用于折射和衍射微光學。Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印的面世**著Nanoscribe已進軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領域,。具有全自動化系統(tǒng)的QuantumX無論從外形或者使用體驗上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求,。下面講講在衍射微光學中的應用：多級衍射光學元件雙光子灰度光刻技術可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE)，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級,。

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   Nanoscribe成立于2007年,，總部位于德國卡爾斯魯厄，擁有卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景和卡爾蔡司公司的支持,。經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長,，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場的帶領者,，推動著諸如力學超材料,，微納機器人，再生醫(yī)學工程，微光學等創(chuàng)新領域的研究和發(fā)展,，并提供優(yōu)化制程方案,。全新的QuantumX無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統(tǒng),，在充分滿足設計自由的同時,，一步制造具有光學質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學元件，達到所見即所得,。在灰度光刻技術的幫助下,，芯片制造商可以更好地滿足不斷增長的市場需求。天津超高速灰度光刻技術

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解雙光子灰度光刻技術的應用,。天津雙光子灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

   Nanoscribe成立于2007年,，總部位于德國卡爾斯魯厄，擁有卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景和卡爾蔡司公司的支持,。經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長,，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場的帶領者，推動著諸如力學超材料,，微納機器人,，再生醫(yī)學工程，微光學等創(chuàng)新領域的研究和發(fā)展,，并提供優(yōu)化制程方案,。全新的QuantumX無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統(tǒng),，在充分滿足設計自由的同時,，一步制造具有光學質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學元件，達到所見即所得,。PhotonicProfessionalGT2是全球精度排名頭一位的3D微納打印機,。天津雙光子灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)