Nanoscribe成立于2007年,總部位于德國卡爾斯魯厄,,擁有卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持,。經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長,,Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場的帶領(lǐng)者,推動著諸如力學(xué)超材料,,微納機(jī)器人,,再生醫(yī)學(xué)工程,微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,,并提供優(yōu)化制程方案,。全新的QuantumX無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個(gè)雙光子灰度光刻系統(tǒng),,在充分滿足設(shè)計(jì)自由的同時(shí),,一步制造具有光學(xué)質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學(xué)元件,達(dá)到所見即所得,。PhotonicProfessionalGT2是全球精度排名頭一位的3D微納打印機(jī),。相比于傳統(tǒng)的二進(jìn)制光刻技術(shù),灰度光刻技術(shù)可以更高效地利用光刻膠,,降低成本,。廣東高精度灰度光刻3D微納加工
Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手,由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,,在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研,、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說,,在納米級,、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上,可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版,。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn),,您可以制作具有微米級高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案,。歡迎咨詢湖北Nanoscribe灰度光刻技術(shù)微納3D打印和灰度光刻技術(shù)有什么區(qū)別,?
2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過程控制的攝像頭和一個(gè)樹脂分配器,。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,物鏡和樣品夾持器識別會自動運(yùn)行,。多層衍射光學(xué)元件(diffractiveopticalelement,,DOE)可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間,。Nanoscribe表示,,折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,,可制作單個(gè)光學(xué)元件,、填充因子高達(dá)100%的陣列,,以及可以在直接和無掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,如球面和非球面透鏡,。
Nanoscribe公司Photonic Professional GT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“Commercial Micro Manufacturing magazine”(CMM),。Photonic Professional GT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案,。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。另外,,還可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印,,突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以非常普遍的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究儀器和多用戶設(shè)施,。歡迎咨詢納糯三維科技(上海)有限公司灰度光刻技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)高分辨率的微納米結(jié)構(gòu)制造,。
Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,,包括仿生表面,微光學(xué)元件,,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等,。灰度光刻技術(shù)還可以與其他先進(jìn)技術(shù)相結(jié)合,,如直接激光寫入(Direct Laser Writing)等,。天津Nanoscribe灰度光刻
灰度光刻技術(shù)具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域。廣東高精度灰度光刻3D微納加工
Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手,,由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞,。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研,、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景,。也就是說,,在納米級,、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上,可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版,。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn),,您可以制作具有微米級高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案,。廣東高精度灰度光刻3D微納加工