Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的子公司,，開發(fā)并提供用于納米,、微米和中尺度的3D打印機以及光敏材料和工藝解決方案。其口號是：“我們讓小物件變得重要”,，公司創(chuàng)始人開發(fā)出一種技術(shù),，對智能手機、手持設(shè)備和醫(yī)療技術(shù)領(lǐng)域至關(guān)重要的3D打印產(chǎn)品,。通過基于雙光子聚合（2PP）的3D打印機投入市場,，他們已經(jīng)為全球的大學(xué)和新興行業(yè)提供了新的解決方案，致力于3D微打印生命科學(xué)研究以及納米級3D打印光學(xué),，甚至利用他們的技術(shù)來開發(fā)創(chuàng)新的設(shè)備,，例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,，“Beer's定律對當(dāng)今的無掩模光刻設(shè)備施加了強大的限制,，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù)，克服了這些限制,，提供了前所未有的設(shè)計自由度和易用性,，我們的客戶正在微加工的前沿工作?！凹{米標記系統(tǒng)基于雙光子吸收,，這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過程?；叶裙饪碳夹g(shù)可提高光刻膠的分辨率,。北京2GL灰度光刻

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似,，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù),，利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu),，不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)（如下圖5所示），該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設(shè)計獲得想要的結(jié)構(gòu),，對于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu),，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進行后續(xù)的復(fù)制工作,，并通過納米壓印技術(shù)進行復(fù)制,。灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透,，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,，2GL灰度光刻技術(shù)3D打印灰度光刻技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的精確性和靈活性結(jié)合。

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),，Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版,，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑,，熱壓花和納米壓印等加工流程,，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點,，同時縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時間,。另外，QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作,。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求,。基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作

這是一款兼顧微觀和宏觀的高精度3D無掩模光刻產(chǎn)品,，名為3D無掩模光刻,。無論您是進行科學(xué)研究還是制作工業(yè)手板，這款產(chǎn)品都能滿足您的需求,。它不僅高效,，而且精度非常高，能夠適用于多種尺度和多種應(yīng)用領(lǐng)域,，極大地節(jié)省了加工時間,。您可以輕松地制作出令人印象深刻的高精度3D模型，無論您是在微觀尺度還是宏觀尺度進行制作,。如果您想要在科學(xué)研究或工業(yè)生產(chǎn)中得到更好的效果,，3D無掩模光刻是您的比較好選擇。它能夠為您節(jié)省時間和精力，讓您專注于更重要的事情,。立即購買,，體驗高效,、高精度的3D無掩模光刻吧,！Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您探討灰度光刻技術(shù)的用途和特點。

2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行,。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時間,。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,，可制作單個光學(xué)元件,、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡,。雙光子灰度光刻敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。上海2GL灰度光刻3D微納加工

灰度光刻技術(shù)采用圖像處理的方法,。北京2GL灰度光刻

Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手,，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學(xué)和工業(yè)項目中備受青睞,。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景,。也就是說，在納米級,、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上,，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計自由度和高精度特點,，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng),。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設(shè)計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案北京2GL灰度光刻