Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計自由度,，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),，可以按設(shè)計需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu),。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期，包括仿生表面,，微光學(xué)元件,，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您解析雙光子灰度光刻技術(shù),。廣東工業(yè)級灰度光刻無掩膜激光直寫

   Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期，包括仿生表面,，微光學(xué)元件,，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。歡迎咨詢上海2PP灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)由于灰度光刻的高精度特性,，它可以有效地解決傳統(tǒng)光刻技術(shù)中存在的誤差和缺陷問題,。

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似,，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù),，利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu),，不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)（如下圖5所示），該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設(shè)計獲得想要的結(jié)構(gòu),，對于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu),，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進(jìn)行后續(xù)的復(fù)制工作,，并通過納米壓印技術(shù)進(jìn)行復(fù)制,。灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機(jī)控制激光束或者電子束劑量從而達(dá)到在某些區(qū)域完全曝透,，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,，

德國Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)，該系統(tǒng)是first基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的精密加工微納米打印系統(tǒng),，可應(yīng)用于折射和衍射微光學(xué),。Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印的面世**著Nanoscribe已進(jìn)軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領(lǐng)域。具有全自動化系統(tǒng)的QuantumX無論從外形或者使用體驗上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求,。下面講講在衍射微光學(xué)中的應(yīng)用：多級衍射光學(xué)元件雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件(DOE),，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級?；叶裙饪碳夹g(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的精確性和靈活性結(jié)合,。

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術(shù)。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代,，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型,，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)QuantumX,，并榮獲創(chuàng)新獎,。該系統(tǒng)是世界上No.1基于雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL?）的精密加工微納米打印系統(tǒng)，可應(yīng)用于折射和衍射微光學(xué),。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解雙光子灰度光刻技術(shù)的運用,。北京灰度光刻3D微納加工

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超高速灰度光刻技術(shù)的應(yīng)用不僅局限于傳統(tǒng)領(lǐng)域,，還可以拓展到新興領(lǐng)域,。例如，在新能源領(lǐng)域,，它可以用于制造高效的太陽能電池板,；在人工智能領(lǐng)域，它可以用于制造更快,、更強(qiáng)大的計算芯片,。這些應(yīng)用將進(jìn)一步推動科技的發(fā)展,，為人類創(chuàng)造更美好的未來。超高速灰度光刻技術(shù)的發(fā)展離不開科研人員的不懈努力和創(chuàng)新精神,。他們通過不斷突破科技邊界，攻克了一個又一個難題,，從而實現(xiàn)了這一技術(shù)的突破,。他們的付出為我們帶來了更多的機(jī)遇和挑戰(zhàn)，也為科技進(jìn)步做出了巨大貢獻(xiàn),。超高速灰度光刻技術(shù)的問世,，標(biāo)志著科技進(jìn)步的新里程碑。我們相信,，在這項技術(shù)的推動下,，未來將會有更多的創(chuàng)新和突破。讓我們共同期待超高速灰度光刻技術(shù)帶來的美好未來,！廣東工業(yè)級灰度光刻無掩膜激光直寫