Nanoscribe稱QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器,。為了簡化硬件配置之間的轉換,，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作,。灰度光刻選擇納糯三維科技（上海）有限公司,。上海高分辨率灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,，包括仿生表面,，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等,。浙江超高速灰度光刻3D光刻成本低：無掩膜光刻技術無需制作昂貴的掩膜版,，因此可以降低光刻成本。

這是一款兼顧微觀和宏觀的高精度3D無掩模光刻產(chǎn)品,，名為3D無掩模光刻,。無論您是進行科學研究還是制作工業(yè)手板，這款產(chǎn)品都能滿足您的需求,。它不僅高效,，而且精度非常高，能夠適用于多種尺度和多種應用領域,，極大地節(jié)省了加工時間,。您可以輕松地制作出令人印象深刻的高精度3D模型，無論您是在微觀尺度還是宏觀尺度進行制作,。如果您想要在科學研究或工業(yè)生產(chǎn)中得到更好的效果,，3D無掩模光刻是您的比較好選擇。它能夠為您節(jié)省時間和精力,，讓您專注于更重要的事情,。立即購買,，體驗高效、高精度的3D無掩模光刻吧,！

Quantum X shape在3D微納加工領域非常出色的精度,，比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL ®)。全新的Quantum X shape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細處理網(wǎng)格,，從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制,。此外，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào),，該系統(tǒng)在表面微結構的制作上可達到超光滑,，同時保持高精度的形狀控制。它不只是應用于生物醫(yī)學,、微光學,、MEMS、微流道,、表面工程學及其他很多領域中器件的快速原型制作的理想工具，同時也成為基于晶圓的小結構單元的批量生產(chǎn)的簡易工具,。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實用性,。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監(jiān)控及多用戶的使用配置，實現(xiàn)推動工業(yè)標準化及基于晶圓批量效率生產(chǎn),。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您詳細講解灰度光刻技術,。

Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商，擁有多項**技術,，為全球客戶提供整套硬件,，軟件，打印材料和解決方案一站式服務,。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,，擁有多項專項技術，為全球客戶提供整套硬件,，軟件,，打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點,，結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,，開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結構，適用于生命科學領域的應用,，如設計和定制微型生物醫(yī)學設備的原型制作,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘什么是灰度光刻技術。進口灰度光刻設備

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微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似，但是原理不同,，我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術,，利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構，不光是微透鏡陣列結構（如下圖5所示）,，該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設計獲得想要的結構,，對于雙光子聚合的微結構，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具,，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續(xù)的復制工作,，并通過納米壓印技術進行復制?；叶裙饪痰木褪抢没叶裙饪萄谀ぐ妫ㄑ谀そ佑|式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透,，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結構（如下圖4所示,，八邊金字塔結構）上海高分辨率灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)