Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體,。基于2PP微納加工技術方面的專業(yè)知識,，Nanoscribe為頂端科學研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術支持,，并推動生物打印、微流體,、微納光學,、微機械、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術等不同領域的發(fā)展,?！拔覀兎浅Ｆ诖尤隒ELLINK集團，共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道。Nanoscribe作為一家納米,，微米和中尺度高精度結構增材制造**,，一直致力于開發(fā)和生產和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案,。在全球頂端大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您一起了解雙光子灰度光刻系統(tǒng)的應用,。德國Nanoscribe灰度光刻無掩膜激光直寫

Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,，可以在各種預先構圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構,。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,，包括仿生表面,，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等,。天津高精度灰度光刻設備Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解雙光子灰度光刻技術的應用,。

   Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,，包括仿生表面,，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等,。歡迎咨詢

我們往往需要通過灰度光刻的方式來實現(xiàn)微透鏡陣列結構,，灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結構（如下圖4所示,，八邊金字塔結構）,。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài),。需要注意,，灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多，約為Ra=100nm,，前兩者可以會的Ra=50nm的球面,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解高速灰度光刻微納加工。

近年來,，利用雙光子聚合對聚合物類傳統(tǒng)光刻膠的3D飛秒激光打印技術已日臻成熟,，其高精度、高度可設計性和維度可控性已經在平行技術中排名在前,。與此同時,，如何更有效地將微納結構功能化，也逐漸成為各種微納加工技術的研究重點,。在現(xiàn)階段,，對于3D飛秒激光打印技術而言，具體來說就是利用其加工的高度可設計性來實現(xiàn)微納結構的功能化和芯片化,，并使這些結構能夠更好地集成器件,，從而達到理想的應用目的。微凹透鏡陣列結構是光學器件中的一種常見組件,，具有較強的聚焦和成像能力,。以往制備此類結構的方法有熱回流、灰度光刻,、干法刻蝕和注射澆鑄等,。受加工手段的限制，傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結構,，這樣的1組微透鏡陣列無法將1個平面物體聚焦至1個像平面上,，會產生場曲?；叶裙饪碳夹g可以實現(xiàn)高分辨率的微納米結構制造,，滿足日益增長的微電子和光電子器件對精確結構的需求。吉林Nanoscribe灰度光刻3D微納加工

雙光子灰度光刻技術將灰度光刻的高性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合,。德國Nanoscribe灰度光刻無掩膜激光直寫

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似,，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術,，利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構,，不光是微透鏡陣列結構（如下圖5所示）,，該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設計獲得想要的結構，對于雙光子聚合的微結構,，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具,，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續(xù)的復制工作，并通過納米壓印技術進行復制,?；叶裙饪痰木褪抢没叶裙饪萄谀ぐ妫ㄑ谀そ佑|式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結構（如下圖4所示,，八邊金字塔結構）德國Nanoscribe灰度光刻無掩膜激光直寫